公开(公告)号：CN101933124A

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN200980103969.9

申请日：2009-01-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 仕田裕贵 ,  清水崇文 ,  池田正俊 ,  洼内翔 ,  柴田阳介 ,  内仓和一 ,  竹村彰浩

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明的化学机械研磨用水系分散体是包含(A)二氧化硅微粒和(B1)有机酸的化学机械研磨用水系分散体，其中前述(A)二氧化硅微粒具有下述化学性质。从通过ICP发光分析法或ICP质量分析法进行的元素分析和通过离子色谱分离法进行的铵离子定量分析测定的钠、钾和铵离子的含量满足：钠含量：5～500ppm，选自钾和铵离子的至少一种的含量：100～20000ppm的关系。

公开(公告)号：CN101410956B

公开(公告)日：2010-09-08

申请号：CN200780011576.6

申请日：2007-03-27

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  仕田裕贵 ,  池田正俊

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/7684

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，含有(A)磨粒、(B)有机酸、(C)水溶性高分子、(D)氧化剂及(E)水，并且所述(C)水溶性高分子的重均分子量为50,000～5,000,000。

公开(公告)号：CN101410956A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200780011576.6

申请日：2007-03-27

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 竹村彰浩 ,  仕田裕贵 ,  池田正俊

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/3212 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/7684

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，含有(A)磨粒、(B)有机酸、(C)水溶性高分子、(D)氧化剂及(E)水，并且所述(C)水溶性高分子的重均分子量为50,000～5,000,000。

公开(公告)号：CN101933124B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200980103969.9

申请日：2009-01-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 仕田裕贵 ,  清水崇文 ,  池田正俊 ,  洼内翔 ,  柴田阳介 ,  内仓和一 ,  竹村彰浩

IPC: H01L21/321 ,  H01L21/3105 ,  C01G1/02

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明的化学机械研磨用水系分散体是包含(A)二氧化硅微粒和(B1)有机酸的化学机械研磨用水系分散体，其中前述(A)二氧化硅微粒具有下述化学性质。从通过ICP发光分析法或ICP质量分析法进行的元素分析和通过离子色谱分离法进行的铵离子定量分析测定的钠、钾和铵离子的含量满足：钠含量：5～500ppm，选自钾和铵离子的至少一种的含量：100～20000ppm的关系。