公开(公告)号：CN101946309A

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200880126610.9

申请日：2008-12-18

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 元成正之 ,  国谷英一郎 ,  植野富和 ,  饭岛孝浩 ,  松田隆志

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/31053 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明的化学机械研磨用水系分散体包含(A)在主干聚合物部具有阴离子性官能团的接枝聚合物和(B)磨粒。

公开(公告)号：CN110819236B

公开(公告)日：2022-03-08

申请号：CN201910702192.3

申请日：2019-07-31

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 山田裕也 ,  国谷英一郎 ,  山中达也

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，其可高速研磨包含钨及绝缘膜的基板，并且可减低被研磨面中的研磨损伤的产生。本发明的化学机械研磨用水系分散体的一实施方式含有：(A)在表面具有能够形成磺酸盐的基的二氧化硅研磨粒、(B)选自由金属硝酸盐及金属硫酸盐所组成的群组中的至少一种、以及(C)选自由有机酸及其盐所组成的群组中的至少一种，且pH值为1以上且6以下。

公开(公告)号：CN110819236A

公开(公告)日：2020-02-21

申请号：CN201910702192.3

申请日：2019-07-31

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 山田裕也 ,  国谷英一郎 ,  山中达也

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，其可高速研磨包含钨及绝缘膜的基板，并且可减低被研磨面中的研磨损伤的产生。本发明的化学机械研磨用水系分散体的一实施方式含有：(A)在表面具有能够形成磺酸盐的基的二氧化硅研磨粒、(B)选自由金属硝酸盐及金属硫酸盐所组成的群组中的至少一种、以及(C)选自由有机酸及其盐所组成的群组中的至少一种，且pH值为1以上且6以下。

公开(公告)号：CN101328399A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200810126648.8

申请日：2008-06-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 国谷英一郎 ,  仕田裕贵 ,  内仓和一

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  H01L21/3212

Abstract: 本发明涉及化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒及其应用。本发明的目的在于提供一种化学机械研磨用水系分散体的制备方法、以及即使是在浓缩状态下长期保存稳定性也优异的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，所述化学机械研磨用水系分散体在利用化学机械研磨的被研磨面的平坦化工序中能够抑制凹陷、磨蚀、划痕乃至磨齿等表面缺陷。本发明的化学机械研磨用水系分散体制备用试剂盒，具备第1组合物和第2组合物，所述第1组合物包含平均一次粒径为15nm～40nm的胶态二氧化硅和碱性化合物、且pH为8～11，所述第2组合物包含聚(甲基)丙烯酸和除其以外的具有2个以上羰基的有机酸、且pH为1～5。