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公开(公告)号：CN102007455B
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN200980113525.3
申请日：2009-04-14
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： R·G·M·兰斯博根 , G·H·哈罗德 , R·J·约翰森 , H·J·G·范德维登
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70741 , G03F7/70983 , H01L21/682
摘要： 本发明提供了一种用于在真空光刻系统中移动和更换掩模版的方法和设备，且具有最小的颗粒产生和脱气。在本发明的例子中，可旋转交换装置(RED)的第一臂接收用于保持第一掩模版的第一基板。RED的第二臂支撑和缓冲第二基板。第一和第二基板被设置在距离RED的旋转轴线基本上等距的位置上。
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公开(公告)号：CN103713475B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201410009171.0
申请日：2009-04-14
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： R·G·M·兰斯博根 , G·H·哈罗德 , R·J·约翰森 , H·J·G·范德维登
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70741 , G03F7/70983 , H01L21/682
摘要： 本发明提供了一种用于在真空光刻系统中移动和更换掩模版的方法和设备，且具有最小的颗粒产生和脱气。在本发明的例子中，可旋转交换装置(RED)的第一臂接收用于保持第一掩模版的第一基板。RED的第二臂支撑和缓冲第二基板。第一和第二基板被设置在距离RED的旋转轴线基本上等距的位置上。
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公开(公告)号：CN102007455A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200980113525.3
申请日：2009-04-14
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： R·G·M·兰斯博根 , G·H·哈罗德 , R·J·约翰森 , H·J·G·范德维登
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70741 , G03F7/70983 , H01L21/682
摘要： 本发明提供了一种用于在真空光刻系统中移动和更换掩模版的方法和设备，且具有最小的颗粒产生和脱气。在本发明的例子中，可旋转交换装置(RED)的第一臂接收用于保持第一掩模版的第一基板。RED的第二臂支撑和缓冲第二基板。第一和第二基板被设置在距离RED的旋转轴线基本上等距的位置上。
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公开(公告)号：CN107172884A
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201580062446.X
申请日：2015-11-16
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/64 , G03F7/70825 , G03F1/62
摘要： 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN115840333A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202211280390.3
申请日：2015-11-16
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
摘要： 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN107172884B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201580062446.X
申请日：2015-11-16
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
摘要： 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN103713475A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201410009171.0
申请日：2009-04-14
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： R·G·M·兰斯博根 , G·H·哈罗德 , R·J·约翰森 , H·J·G·范德维登
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70741 , G03F7/70983 , H01L21/682
摘要： 本发明提供了一种用于在真空光刻系统中移动和更换掩模版的方法和设备，且具有最小的颗粒产生和脱气。在本发明的例子中，可旋转交换装置(RED)的第一臂接收用于保持第一掩模版的第一基板。RED的第二臂支撑和缓冲第二基板。第一和第二基板被设置在距离RED的旋转轴线基本上等距的位置上。
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公开(公告)号：CN111903195A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980021477.9
申请日：2019-03-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·G·兰格洛斯 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德斯 , H·G·泰格波什
摘要： 公开了一种EUV系统，该EUV系统包括用于以液体形式累积目标材料碎片的措施，其中目标材料被阻隔喷吐到光学元件上，并且在其中可以引起目标材料固化并且然后传送到目标材料可以被熔融并且被允许排掉而不会污染收集器的位置。
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公开(公告)号：CN108701502A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680078016.1
申请日：2016-11-03
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·H·德贾格 , S·J·比杰尔斯马 , O·W·V·弗吉恩斯 , 安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫 , N·坦凯特 , A·T·A·M·德克森 , J·J·L·H·维斯帕 , R·G·M·兰斯博根 , A·A·A·卡斯特利根
CPC分类号： G21G1/10 , G21G1/12 , G21G2001/0042 , G21K2201/065
摘要： 一种放射性同位素生产设备(RI)包括被布置成提供电子束(E)电子源。该电子源包括电子注入器(10)和电子加速器(20)。该放射性同位素生产设备(RI)进一步包括：目标支撑结构，其被配置成保持目标(30)；和分束器(40)，其被布置成沿第一路径将该电子束的第一部分引导朝向该目标(30)的第一侧且沿第二路径将该电子束的第二部分引导朝向该目标(30)的第二侧。
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公开(公告)号：CN114360759A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202210031847.0
申请日：2016-11-03
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·H·德贾格 , S·J·比杰尔斯马 , O·W·V·弗吉恩斯 , 安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫 , N·坦凯特 , A·T·A·M·德克森 , J·J·L·H·维斯帕 , R·G·M·兰斯博根 , A·A·A·卡斯特利根
摘要： 一种放射性同位素生产设备(RI)包括被布置成提供电子束(E)电子源。该电子源包括电子注入器(10)和电子加速器(20)。该放射性同位素生产设备(RI)进一步包括：目标支撑结构，其被配置成保持目标(30)；和分束器(40)，其被布置成沿第一路径将该电子束的第一部分引导朝向该目标(30)的第一侧且沿第二路径将该电子束的第二部分引导朝向该目标(30)的第二侧。
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