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公开(公告)号：CN108885391B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN201680082151.3
申请日：2016-12-02
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： D·F·弗莱斯 , E·A·阿贝格 , A·本迪克塞 , 德克·S·G·布龙 , P·K·果维欧 , 保罗·詹森 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , 玛丽亚·皮特 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , J·N·威利
Abstract: 一种适合与用于光刻设备的图案形成装置一起使用的表膜。所述表膜包括至少一个破裂区域，配置成在光刻设备中的正常使用期间在表膜的剩余区域破裂之前优先破裂。至少一个破裂区域包括表膜的在与表膜的周围区域相比时具有减小的厚度的区域。
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公开(公告)号：CN115840333A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202211280390.3
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
Abstract: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN115616851A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211277986.8
申请日：2016-12-02
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： D·F·弗莱斯 , E·A·阿贝格 , A·本迪克塞 , 德克·S·G·布龙 , P·K·果维欧 , 保罗·詹森 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , 玛丽亚·皮特 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , J·N·威利
Abstract: 一种适合与用于光刻设备的图案形成装置一起使用的表膜。所述表膜包括至少一个破裂区域，配置成在光刻设备中的正常使用期间在表膜的剩余区域破裂之前优先破裂。至少一个破裂区域包括表膜的在与表膜的周围区域相比时具有减小的厚度的区域。
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公开(公告)号：CN107172884B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201580062446.X
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
Abstract: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN111480113A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201880080540.1
申请日：2018-11-27
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： 德克·S·G·布龙 , J·亚当斯 , A·本迪克塞 , R·雅克布 , A·贾奇 , V·V·N·N·P·科塔帕利 , J·H·里昂 , T·M·默德曼 , M·兰詹 , M·A·范德克尔克霍夫 , 熊绪刚
Abstract: 一种用于确定与用于光刻设备(LA)中的表膜(19)相关的状态的设备，该设备包括传感器(26、32、52、60)，其中，该传感器(26、32、52、60)被配置为测量与该表膜(19)相关的属性，该属性指示表膜状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115598920A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211277895.4
申请日：2016-12-02
Applicant: ASML荷兰有限公司(NL) , ASML控股股份有限公司(NL)
Inventor： D·F·弗莱斯 , E·A·阿贝格 , A·本迪克塞 , 德克·S·G·布龙 , P·K·果维欧 , 保罗·詹森 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , 玛丽亚·皮特 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , J·N·威利
Abstract: 一种适合与用于光刻设备的图案形成装置一起使用的表膜。所述表膜包括至少一个破裂区域，配置成在光刻设备中的正常使用期间在表膜的剩余区域破裂之前优先破裂。至少一个破裂区域包括表膜的在与表膜的周围区域相比时具有减小的厚度的区域。
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公开(公告)号：CN108885391A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201680082151.3
申请日：2016-12-02
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： D·F·弗莱斯 , E·A·阿贝格 , A·本迪克塞 , 德克·S·G·布龙 , P·K·果维欧 , 保罗·詹森 , M·A·纳萨莱维奇 , A·W·诺滕博姆 , 玛丽亚·皮特 , M·A·范德柯克霍夫 , 威廉·琼·范德赞德 , 彼得-詹·范兹沃勒 , J·P·M·B·沃缪伦 , W-P·福尔蒂森 , J·N·威利
CPC classification number: G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F7/70983
Abstract: 一种适合与用于光刻设备的图案形成装置一起使用的表膜。所述表膜包括至少一个破裂区域，配置成在光刻设备中的正常使用期间在表膜的剩余区域破裂之前优先破裂。至少一个破裂区域包括表膜的在与表膜的周围区域相比时具有减小的厚度的区域。
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公开(公告)号：CN107172884A
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201580062446.X
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
CPC classification number: G03F7/70983 , G03F1/64 , G03F7/70825 , G03F1/62
Abstract: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN112912796B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN201980069782.5
申请日：2019-10-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于检查用于EUV光刻设备中的诸如表膜之类的物体的检查设备，所述检查设备包括：‑真空腔室；‑装载锁，所述装载锁形成介于所述真空腔室与周围环境之间的接口；‑平台设备，所述平台设备被配置成从所述装载锁接收所述物体且使所述物体在所述真空腔室内移位；其中所述真空腔室包括用于临时储存所述物体的第一停放位置和第二停放位置。
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公开(公告)号：CN111458973B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN201911079900.9
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
Abstract: 本发明提供了一种表膜框架附接设备，被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件，所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器，其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出，所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分。(56)对比文件US 2014255827 A1,2014.09.11US 5976307 A,1999.11.02US 2014307237 A1,2014.10.16CA 2752247 A1,2004.10.14CN 1591193 A,2005.03.09CN 1249235 A,2000.04.05US 2009239158 A1,2009.09.24CN 102681334 A,2012.09.19US 2002155359 A1,2002.10.24
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