公开(公告)号：CN115605810A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202180025026.X

申请日：2021-03-16

Applicant: ASML控股股份有限公司(NL)

Inventor： S·莉琳吉斯 ,  K·M·列维

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/687 ,  H01J37/305

Abstract: 描述了用于在表面上形成结构(例如多个支撑峰)的系统和方法。在表面上形成结构包括：(1)遮蔽所述表面的一个或多个部分；(2)从所述表面的一个或多个未遮蔽部分去除材料；以及(3)反复地重复(1)和(2)，以重新成形所述表面的所述未遮蔽部分，直到所述多个结构(例如支撑峰)被形成为使得各个结构(支撑峰)之间的所述表面的区域具有诸如目标形貌、粗糙度等目标特性为止。

公开(公告)号：CN115598920A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202211277895.4

申请日：2016-12-02

Applicant: ASML荷兰有限公司(NL) ,  ASML控股股份有限公司(NL)

Inventor： D·F·弗莱斯 ,  E·A·阿贝格 ,  A·本迪克塞 ,  德克·S·G·布龙 ,  P·K·果维欧 ,  保罗·詹森 ,  M·A·纳萨莱维奇 ,  A·W·诺滕博姆 ,  玛丽亚·皮特 ,  M·A·范德柯克霍夫 ,  威廉·琼·范德赞德 ,  彼得-詹·范兹沃勒 ,  J·P·M·B·沃缪伦 ,  W-P·福尔蒂森 ,  J·N·威利

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

Abstract: 一种适合与用于光刻设备的图案形成装置一起使用的表膜。所述表膜包括至少一个破裂区域，配置成在光刻设备中的正常使用期间在表膜的剩余区域破裂之前优先破裂。至少一个破裂区域包括表膜的在与表膜的周围区域相比时具有减小的厚度的区域。