公开(公告)号：CN1959541B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200610153964.5

申请日：2006-09-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·V·拉克希默瓦 ,  V·Y·巴尼恩 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒夫 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  A·S·科瓦勒夫 ,  D·V·洛帕夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70933 ,  G21K2201/06

Abstract: 用于清洁光刻装置的元件的方法，例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法，包括提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件，以及布置成产生射频放电的放电发生器。

公开(公告)号：CN1637619A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN200410104715.8

申请日：2004-11-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·P·巴克 ,  V·Y·班尼 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒 ,  V·M·克里维特森

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

Abstract: 一种具有用于提供辐射的投影光束的辐射系统的光刻投影设备。这投影设备包括微粒供应装置(22)，其用于将吸气剂微粒供应到所述的辐射投影光束中，以便作为所述的投影光束中的污染物微粒吸气剂，其中所述的吸气剂微粒具有至少1nm的直径，优选在1000nm以下。在一个实施例里，该光刻设备具有带有平板构件(52；57；59；69)的污染物收集器(9；50；55；67)，用于在所述的投影光束中俘获污染物微粒，和微粒供应装置(22；45，54，58；65；71)，用以在污染物收集器上游的空间中提供微粒，这样该微粒与污染物微粒碰撞，以为污染物微粒提供具有朝向该平板构件(52；57；59；69)的附加速度分量。

公开(公告)号：CN1721999B

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN200510084819.1

申请日：2005-07-14

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： K·N·科舍勒夫 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  E·D·科罗布 ,  G·G·祖卡维斯维里 ,  R·R·加亚佐夫 ,  V·M·克里特森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H05G2/003 ,  H05G2/005

Abstract: 一种用于基于放电产生辐射源的装置，包括阴极和阳极。该阴极和阳极材料以流态提供。当装置在使用中时，材料形成等离子体箍缩。任选的是，可以使用喷嘴来提供该材料。阴极和/或阳极可形成平坦表面。可以延长材料的轨道。可以使用激光更容易地引起放电。可将激光引导到阳极或阴极或位于阳极和阴极之间的单独材料上。

公开(公告)号：CN100555082C

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200410104715.8

申请日：2004-11-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·P·巴克 ,  V·Y·班尼 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒 ,  V·M·克里维特森

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

Abstract: 一种具有用于提供辐射的投影光束的辐射系统的光刻投影设备。这投影设备包括微粒供应装置(22)，其用于将吸气剂微粒供应到所述的辐射投影光束中，以便作为所述的投影光束中的污染物微粒吸气剂，其中所述的吸气剂微粒具有至少1nm的直径，优选在1000nm以下。在一个实施例里，该光刻设备具有带有平板构件(52；57；59；69)的污染物收集器(9；50；55；67)，用于在所述的投影光束中俘获污染物微粒，和微粒供应装置(22；45，54，58；65；71)，用以在污染物收集器上游的空间中提供微粒，这样该微粒与污染物微粒碰撞，以为污染物微粒提供具有朝向该平板构件(52；57；59；69)的附加速度分量。

公开(公告)号：CN1959541A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200610153964.5

申请日：2006-09-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·V·拉克希默瓦 ,  V·Y·巴尼恩 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒夫 ,  J·H·J·莫尔斯 ,  A·S·科瓦勒夫 ,  D·V·洛帕夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03F7/70933 ,  G21K2201/06

Abstract: 用于清洁光刻装置的元件的方法，例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法，包括提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件，以及布置成产生射频放电的放电发生器。

公开(公告)号：CN1721999A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510084819.1

申请日：2005-07-14

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： K·N·科舍勒夫 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  E·D·科罗布 ,  G·G·祖卡维斯维里 ,  R·R·加亚佐夫 ,  V·M·克里特森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H05G2/003 ,  H05G2/005

Abstract: 一种用于基于放电产生辐射源的装置，包括阴极和阳极。该阴极和阳极材料以流态提供。当装置在使用中时，材料形成等离子体箍缩。任选的是，可以使用喷嘴来提供该材料。阴极和/或阳极可形成平坦表面。可以延长材料的轨道。可以使用激光更容易地引起放电。可将激光引导到阳极或阴极或位于阳极和阴极之间的单独材料上。

公开(公告)号：CN1627191A

公开(公告)日：2005-06-15

申请号：CN200410010444.X

申请日：2004-12-03

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： V·V·伊瓦诺夫 ,  V·Y·巴宁 ,  K·N·科舍勒夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70858 ,  G03F7/70916

Abstract: 本发明披露一种光刻装置。该光刻装置包括提供辐射光束的照射系统和支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置配置成在横截面内给辐射光束赋予图案。该装置还包括支撑基底的基底支座，和投影图案光束到基底上靶区的投影系统。该照射系统包括生成远紫外线辐射的辐射生成系统，和收集远紫外线辐射的辐射收集系统。作为远紫外辐射产品的副产物生成的粒子沿粒子移动方向移动。辐射收集系统布置成收集沿收集方向辐射的远紫外辐射，该收集方向基本不同于粒子的运动方向。