公开(公告)号：CN1637619A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN200410104715.8

申请日：2004-11-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·P·巴克 ,  V·Y·班尼 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒 ,  V·M·克里维特森

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

Abstract: 一种具有用于提供辐射的投影光束的辐射系统的光刻投影设备。这投影设备包括微粒供应装置(22)，其用于将吸气剂微粒供应到所述的辐射投影光束中，以便作为所述的投影光束中的污染物微粒吸气剂，其中所述的吸气剂微粒具有至少1nm的直径，优选在1000nm以下。在一个实施例里，该光刻设备具有带有平板构件(52；57；59；69)的污染物收集器(9；50；55；67)，用于在所述的投影光束中俘获污染物微粒，和微粒供应装置(22；45，54，58；65；71)，用以在污染物收集器上游的空间中提供微粒，这样该微粒与污染物微粒碰撞，以为污染物微粒提供具有朝向该平板构件(52；57；59；69)的附加速度分量。

公开(公告)号：CN100555082C

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200410104715.8

申请日：2004-11-10

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： L·P·巴克 ,  V·Y·班尼 ,  V·V·伊瓦诺夫 ,  K·N·科舍勒 ,  V·M·克里维特森

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

Abstract: 一种具有用于提供辐射的投影光束的辐射系统的光刻投影设备。这投影设备包括微粒供应装置(22)，其用于将吸气剂微粒供应到所述的辐射投影光束中，以便作为所述的投影光束中的污染物微粒吸气剂，其中所述的吸气剂微粒具有至少1nm的直径，优选在1000nm以下。在一个实施例里，该光刻设备具有带有平板构件(52；57；59；69)的污染物收集器(9；50；55；67)，用于在所述的投影光束中俘获污染物微粒，和微粒供应装置(22；45，54，58；65；71)，用以在污染物收集器上游的空间中提供微粒，这样该微粒与污染物微粒碰撞，以为污染物微粒提供具有朝向该平板构件(52；57；59；69)的附加速度分量。