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公开(公告)号：CN108292101B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：CN201680057802.3
申请日：2016-08-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·J·M·范德纽维拉尔 , V·M·布兰科卡巴洛 , T·A·马塔尔 , J·C·P·梅尔曼 , G·彼得斯 , J·T·G·M·范德万 , J-P·范德万 , P·F·范吉尔斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 计算出在浸没光刻设备中支撑衬底的衬底支撑结构的路线以满足下列约束：在所述衬底的边缘首先接触浸没空间之后，所述衬底保持与所述浸没空间接触直至曝光所有目标部分为止；在所述衬底在扫描方向上移动的同时执行目标部分的曝光；和在曝光之间的所述衬底的所有移动在平行于其上部表面的平面中要么是曲线的，要么仅在所述扫描方向或横向方向之一上进行。为了减少衬底的边缘的缺陷，避免将浸没液体暴露到待曝光的衬底(W)的外侧。转移路线(R51)设计为超出晶片表面。
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公开(公告)号：CN119620563A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411725363.1
申请日：2018-07-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·G·C·比基恩 , 金原淳一 , S·C·J·A·凯吉 , T·A·马塔尔 , P·F·范吉尔斯
IPC: G03F9/00 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L21/677 , G03F7/20
Abstract: 为了改善测量设备的生产率性能和/或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；第二衬底平台，被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；第一衬底输送装置，被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，其中，从第一FOUP、第二FOUP或第三FOUP装载所述第一衬底，其中，从所述第一FOUP、所述第二FOUP或所述第三FOUP装载所述第二衬底，其中所述第一测量设备是对准测量设备，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。
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公开(公告)号：CN108292101A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680057802.3
申请日：2016-08-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·J·M·范德纽维拉尔 , V·M·布兰科卡巴洛 , T·A·马塔尔 , J·C·P·梅尔曼 , G·彼得斯 , J·T·G·M·范德万 , J-P·范德万 , P·F·范吉尔斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 计算出在浸没光刻设备中支撑衬底的衬底支撑结构的路线以满足下列约束：在所述衬底的边缘首先接触浸没空间之后，所述衬底保持与所述浸没空间接触直至曝光所有目标部分为止；在所述衬底在扫描方向上移动的同时执行目标部分的曝光；和在曝光之间的所述衬底的所有移动在平行于其上部表面的平面中要么是曲线的，要么仅在所述扫描方向或横向方向之一上进行。为了减少衬底的边缘的缺陷，避免将浸没液体暴露到待曝光的衬底(W)的外侧。转移路线(R51)设计为超出晶片表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110869855A
公开(公告)日：2020-03-06
申请号：CN201880046374.3
申请日：2018-07-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·G·C·比基恩 , 金原淳一 , S·C·J·A·凯吉 , T·A·马塔尔 , P·F·范吉尔斯
Abstract: 为了改善测量设备的生产率性能和/或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，其中，从第一FOUP、第二FOUP或第三FOUP装载所述第一衬底，其中，从所述第一FOUP、所述第二FOUP或所述第三FOUP装载所述第二衬底，其中所述第一测量设备是对准测量设备，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。
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公开(公告)号：CN102298269B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201110167303.9
申请日：2011-06-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·H·M·考克西 , W·H·G·A·考恩 , T·A·马塔尔 , M·T·J·彼德尔斯 , R·A·A·沃库伊耶
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70508
Abstract: 本发明公开了一种测量系统、方法和光刻设备。所述测量系统配置成得出物体的位置量，所述测量系统包括：至少一个位置量传感器，配置成提供各自的位置量测量信号；位置量计算器，配置成由所述位置量测量信号确定所述物体的位置量，其中所述位置量计算器包括扭转估算器，所述扭转估算器配置成估算所述物体的扭转，所述位置量计算器配置成针对于所述估算的扭转来校正所述物体的已确定的位置量。
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公开(公告)号：CN110869855B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN201880046374.3
申请日：2018-07-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·G·C·比基恩 , 金原淳一 , S·C·J·A·凯吉 , T·A·马塔尔 , P·F·范吉尔斯
Abstract: 为了改善测量设备的生产率性能和/或经济性，本发明提供一种量测设备，包括：第一测量设备；第二测量设备；第一衬底平台，所述第一衬底平台被配置为保持第一衬底和/或第二衬底；第二衬底平台，所述第二衬底平台被配置为保持所述第一衬底和/或所述第二衬底；第一衬底输送装置，所述第一衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底；和第二衬底输送装置，所述第二衬底输送装置被配置为输送所述第一衬底和/或所述第二衬底，其中，从第一FOUP、第二FOUP或第三FOUP装载所述第一衬底，其中，从所述第一FOUP、所述第二FOUP或所述第三FOUP装载所述第二衬底，其中所述第一测量设备是对准测量设备，以及其中所述第二测量设备是水平传感器、膜厚度测量设备或光谱反射率测量设备。
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公开(公告)号：CN114270273A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080055006.2
申请日：2020-07-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明提供了一种针对包括多个标记的物体确定标记测量序列的方法，该方法包括：·接收针对要测量的多个标记的位置数据；·获取用于执行标记测量序列的定位装置的边界模型，以及·基于位置数据和边界模型来确定标记测量序列。
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公开(公告)号：CN102298269A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201110167303.9
申请日：2011-06-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·H·M·考克西 , W·H·G·A·考恩 , T·A·马塔尔 , M·T·J·彼德尔斯 , R·A·A·沃库伊耶
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70508
Abstract: 本发明公开了一种测量系统、方法和光刻设备。所述测量系统配置成得出物体的位置量，所述测量系统包括：至少一个位置量传感器，配置成提供各自的位置量测量信号；位置量计算器，配置成由所述位置量测量信号确定所述物体的位置量，其中所述位置量计算器包括扭转估算器，所述扭转估算器配置成估算所述物体的扭转，所述位置量计算器配置成针对于所述估算的扭转来校正所述物体的已确定的位置量。
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