一种星用器件抗辐射薄层复合材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN117772790A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311746818.3

    申请日:2023-12-18

    摘要: 本申请公开一种星用器件抗辐射薄层复合材料及其制备方法,包括:将2A12铝合金层和钽层分别进行表面处理;将所述表面处理后的2A12铝合金层和钽层分别与固定层进行复合;将所述固定层‑2A12铝合金层和所述固定层‑钽层进行轧制复合、退火,即得固定层‑2A12‑钽层‑固定层薄层复合材料;其中,所述固定层不进行所述表面处理;所述轧制复合包括:当轧制复合单道次变形量≤35%时,将所述固定层‑2A12铝合金层和所述固定层‑钽层的头部铆接进行轧制复合;当轧制复合单道次变形量>35%时,将固定层合金和2A12铝合金之间,固定层合金和钽层之间涂覆轧制润滑剂,头部铆接进行轧制复合。本申请的星用器件抗辐射薄层复合材料,在轧制复合后不发生翘曲,保持良好的平整度。