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公开(公告)号：CN113366618A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202080011787.5
申请日：2020-01-24
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 本发明的课题在于在将直径50μm以下的微小粒子排列于基材上的情况下，抑制微小粒子的缺陷的产生。解决方法为一种微小粒子排列用掩模，其为用于将直径50μm以下的微小粒子排列于基材上的微小粒子排列用掩模，微小粒子排列用掩模具有用于被微小粒子插入的贯通孔，贯通孔的微小粒子供给侧的开口面的面积比微小粒子排出侧的开口面的面积小，在将从微小粒子供给侧的开口面朝向微小粒子排出侧的开口面的方向设为z轴正方向、将贯通孔的与z轴垂直的截面积设为A的情况下，在贯通孔内的z轴方向的整个区域中dA(z)/dz>0成立，并且满足以下数学式(1)。0.4≤t/d≤1.0(1)。
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公开(公告)号：CN113710377B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202080032460.6
申请日：2020-04-30
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 当使用具备多个具有平坦作用面（6A）的滑动体（6）的滑动部（4）来进行滑动处理物（F）相对于滑动对象物（W）的表面的供给或排除方法时，在优选通过第一驱动机构来使滑动体（6）与作用面（6A）平行地有规律地移动期间，优选通过第二驱动机构来使滑动部（4）与滑动体（6）的作用面6A）平行地且沿与滑动体（6）的移动方向不同的方向有规律地移动。由此，将滑动处理物一样地供给至滑动对象物的表面。
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公开(公告)号：CN113727784A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202080032353.3
申请日：2020-04-30
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 相对于滑动对象物（W）的表面进行滑动处理的滑动装置（1）具有：滑动部（4），其设置有具有平坦作用面（6A）的滑动体（6）；第一驱动机构（20），其使滑动体（6）与作用面（6A）平行地有规律地移动；第二驱动机构（30），其在通过第一驱动机构（20）使滑动体（6）移动期间，使该滑动部（4）与作用面（6A）平行地且沿与利用第一驱动机构（20）的移动不同的方向有规律地移动。由此，将滑动处理物一样地供给至滑动对象物的表面或净化滑动对象物的表面。
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公开(公告)号：CN113710377A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202080032460.6
申请日：2020-04-30
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 当使用具备多个具有平坦作用面（6A）的滑动体（6）的滑动部（4）来进行滑动处理物（F）相对于滑动对象物（W）的表面的供给或排除方法时，在优选通过第一驱动机构来使滑动体（6）与作用面（6A）平行地有规律地移动期间，优选通过第二驱动机构来使滑动部（4）与滑动体（6）的作用面（6A）平行地且沿与滑动体（6）的移动方向不同的方向有规律地移动。由此，将滑动处理物一样地供给至滑动对象物的表面。
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