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公开(公告)号:CN105762141A
公开(公告)日:2016-07-13
申请号:CN201510875921.7
申请日:2015-12-03
申请人: 瑞萨电子株式会社
CPC分类号: H01L21/56 , H01L21/02164 , H01L21/31051 , H01L21/31055 , H01L21/31058 , H01L21/31144 , H01L21/768 , H01L23/3107 , H01L23/3192 , H01L23/49575 , H01L23/5227 , H01L23/562 , H01L23/564 , H01L23/58 , H01L28/10 , H01L2224/05554 , H01L2224/32145 , H01L2224/45144 , H01L2224/45147 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2224/4826 , H01L2224/48465 , H01L2224/49171 , H01L2224/73215 , H01L2224/73265 , H01L2224/92147 , H01L2224/92247 , H01L2924/0002 , H01L2924/181 , H01L2924/00014 , H01L2924/00012 , H01L2924/00 , H01L25/071 , H01L23/3114 , H01L23/3121 , H01L23/62
摘要: 本发明涉及一种制造半导体装置的方法。通过防止彼此面对的两个半导体芯片之间的介电击穿,实现半导体装置的可靠性提高。在制造第一半导体芯片和第二半导体芯片期间,执行将绝缘膜的上表面平坦化的过程。然后,第一半导体芯片和第二半导体芯片经由绝缘片材堆叠,并且使第一半导体芯片和第二半导体芯片相应的绝缘膜彼此面对,使得第一半导体芯片和第二半导体芯片相应的线圈彼此磁耦合。