一种集成电路封装用BGA锡球的材料配方及熔炼工艺

    公开(公告)号:CN111705239A

    公开(公告)日:2020-09-25

    申请号:CN202010597054.6

    申请日:2020-06-29

    IPC分类号: C22C13/00 C22C1/02 H01L23/498

    摘要: 本发明公开了一种集成电路封装用BGA锡球的材料配方及熔炼工艺,包括材料配方中合金成分配比为:96~96.5%锡,3%Ag,0.5%Cu,0.1%~0.5Re。材料配方中添加的保护剂为KCl、LiCl混合保护剂;熔炼工艺具体步骤为:Step.1:一种集成电路封装用BGA锡球的熔炼工艺中合金成分配置;Step.2:一种集成电路封装用BGA锡球的熔炼工艺中称重及熔炼;Step.3:一种集成电路封装用BGA锡球的熔炼工艺添加保护剂;Step.4:熔炼工艺中融化合金及加入稀土;所述Step.4操作:为打开箱式电阻炉并设定温度260度,温度达到后260度后,将坩埚放入箱式电阻炉保温至坩埚内金属完全融化,将称量后的稀土快速加入熔融合金中并用搅拌均匀。Step.5:合金冷却及后处理。

    一种基于射流不稳定原理的BGA锡球制备装置及制备工艺

    公开(公告)号:CN111558724A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202010602426.X

    申请日:2020-06-29

    IPC分类号: B22F9/08 B22F1/00

    摘要: 本发明涉及一种基于射流不稳定原理的BGA锡球制备装置及制备工艺。本发明采用射流断裂法,使熔融的金属通过喷嘴产生金属射流,控制流速使射流保持层流状态,以一定频率的机械振动作用于射流,当振动频率、振幅与喷嘴直径等工艺参数相匹配时,射流会断裂为均匀的金属液滴。本发明步骤简单,易于实现自动控制,流程短,生产成本很低,获得的金属颗粒尺寸均匀,真球度高,是最有发展前景的精密焊球产业化制备方法。