有机电致发光器件变温双脉冲瞬态光响应的测试方法

    公开(公告)号:CN108226739B

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201810052524.3

    申请日:2018-01-19

    IPC分类号: G01R31/26

    摘要: 本发明涉及有机电致发光器件变温双脉冲瞬态光响应的测试方法,该方法能够实现对有机电致发光器件在双脉冲电压驱动下的变温光响应特性的测试与分析。通过于不同温度下调制脉冲电压的占空比改变第二脉冲施加时器件内部载流子的初始状态,通过对两个脉冲下的脉冲光响应强度相对值进行对比,来分析有机电致发光器件内部载流子的输运机制和限制条件,为制备性能更高的有机电致发光器件提供检测手段和分析工具。

    一种基于溶液法制备碳布负载硒化镍的方法

    公开(公告)号:CN109092332A

    公开(公告)日:2018-12-28

    申请号:CN201811156491.3

    申请日:2018-09-30

    IPC分类号: B01J27/057 C25B1/04 C25B11/06

    摘要: 一种基于溶液法制备碳布负载硒化镍的方法。该方法包括以下步骤:制备前躯体溶液,前驱体溶液是将氢氧化镍粉末和硒粉按摩尔比0.98~1.02溶解于巯胺溶液中制备而成,巯胺溶液由乙二胺和乙二硫醇按体积比4∶1溶解而成,前驱体溶液浓度为0.145mmol/mL;将前驱体溶液滴涂在碳布(CC)上,滴涂量为每平方厘米0.14~0.2mL;然后置于加热板上,在300℃~400℃下加热40~80s,得到碳布负载硒化镍(NiSe/CC)。本发明采用了溶液法制备碳布负载硒化镍,极大的简化了制备工艺,大大缩短制备时间,降低了制备成本。

    有机电致发光器件变温多脉冲瞬态电流响应的测试方法

    公开(公告)号:CN108776293A

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201811105744.4

    申请日:2018-09-21

    IPC分类号: G01R31/26

    摘要: 本发明为一种有机电致发光器件变温多脉冲瞬态电流响应的测试方法。该方法通过调制不同温度下脉冲电压的占空比,从而改变脉冲施加时器件内部载流子的堆积状态,并对比不同占空比下电流响应数据的正向电流峰值和反向电流峰值之间的关系,来分析有机电致发光器件内部载流子的输运机制,为制备性能更高的有机电致发光器件提供检测手段和分析方法。本发明能够实现对有机电致发光器件在脉冲电压驱动下的变温电流响应特性的测试与分析。

    有机电致发光器件变温多脉冲瞬态电流响应的测试方法

    公开(公告)号:CN108776293B

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN201811105744.4

    申请日:2018-09-21

    IPC分类号: G01R31/26

    摘要: 本发明为一种有机电致发光器件变温多脉冲瞬态电流响应的测试方法。该方法通过调制不同温度下脉冲电压的占空比,从而改变脉冲施加时器件内部载流子的堆积状态,并对比不同占空比下电流响应数据的正向电流峰值和反向电流峰值之间的关系,来分析有机电致发光器件内部载流子的输运机制,为制备性能更高的有机电致发光器件提供检测手段和分析方法。本发明能够实现对有机电致发光器件在脉冲电压驱动下的变温电流响应特性的测试与分析。

    一种全溶液制备掺硫硒化锑纳米棒薄膜的方法

    公开(公告)号:CN107473600A

    公开(公告)日:2017-12-15

    申请号:CN201710888223.X

    申请日:2017-09-27

    IPC分类号: C03C17/00 C01B19/04

    摘要: 本发明为一种全溶液制备掺硫硒化锑纳米棒薄膜的方法。该包括以下步骤:将锑粉、硒粉和硫粉的混合粉末溶于上步得到乙二硫醇和乙二胺的混合溶剂中,搅拌至溶解;将得到前驱体溶液旋涂到玻璃基底上,烘干后,重复旋涂-烘干步骤,直至玻璃基板上的前驱体薄膜的厚度900nm~1100nm;将所得前驱体薄膜进行300℃~350℃退火10min~30min,最后得到掺硫硒化锑纳米棒薄膜。本发明制备工艺简单,成本低,操作方便;得到致密、均匀、无杂质的Sb2(Se1-xSx)3纳米棒薄膜。

    液体涂抹法区熔硅单晶的掺锗方法

    公开(公告)号:CN100371505C

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200510014891.7

    申请日:2005-08-30

    IPC分类号: C30B13/10

    摘要: 本发明涉及一种液体涂抹法区熔硅单晶的掺锗方法。它是使用含锗元素的盐酸溶液涂抹在硅单晶的表面,烘干后装到区熔炉上,按通常的区熔工艺进行区熔熔炼或生长单晶。本发明是理想的掺锗方法,不但使锗掺得进去,而且锗在硅中的浓度均匀可控,掺锗工艺无沾污,保证了硅单晶的质量。

    液体涂抹法区熔硅单晶的掺锗方法

    公开(公告)号:CN1749448A

    公开(公告)日:2006-03-22

    申请号:CN200510014891.7

    申请日:2005-08-30

    IPC分类号: C30B13/10

    摘要: 本发明涉及一种液体涂抹法区熔硅单晶的掺锗方法。它是使用含锗元素的盐酸溶液涂抹在硅单晶的表面,烘干后装到区熔炉上,按通常的区熔工艺进行区熔熔炼或生长单晶。本发明是理想的掺锗方法,不但使锗掺得进去,而且锗在硅中的浓度均匀可控,掺锗工艺无沾污,保证了硅单晶的质量。