ECR-PEMOCVD低温沉积Ga、Al共同掺杂ZnO薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103014655A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210576471.8

    申请日:2012-12-27

    IPC分类号: C23C16/40 C23C16/44

    摘要: 一种ECR-PEMOCVD低温沉积Ga、Al共同掺杂ZnO薄膜的制备方法,属于新材料沉积制备领域。本发明按照以下步骤进行:(1)将基片用丙酮、乙醇以及去离子水用超声波依次清洗后,用氮气吹干送入反应室;(2)将反应室抽真空至1.0×10-3Pa,将基片加热至20~600℃,向反应室内通入氩气携带的二乙基锌、氩气携带的三甲基镓、氩气携带的三甲基铝和氧气,氧气、二乙基锌、三甲基镓和三甲基铝流量比为(100~150):(4~8):(1~2):1,由质量流量计控制;控制气体总压强为0.8~2.0Pa;在电子回旋共振频率为650W,反应30min~3h,得到Ga、Al共同掺杂ZnO光电透明导电薄膜。本发明的镓铝共同的掺杂ZnO的透明光电导电薄膜产品具有电阻率低,透光性能好、廉价、易于实现大面积生产的产业化的优势。

    Cu/ZnO/Al光电透明导电薄膜的沉积方法

    公开(公告)号:CN103014705A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210576175.8

    申请日:2012-12-27

    IPC分类号: C23C28/00 H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 一种Cu/ZnO/Al光电透明导电薄膜的沉积方法,属透明导电材料领域。本发明一种按照以下步骤进行:(1)将基片用丙酮、乙醇以及去离子水用超声波依次清洗后,用氮气吹干送入反应室;2)磁控溅射Al膜的沉积;(3)有机物化学气相沉积制备中间层ZnO薄膜:(4)磁控溅射Cu膜的沉积:(5)对Cu/ZnO/Al的多层结构的透明导电薄膜进行高温退火,退火温度为100~400℃,退火时间为30min,得到Cu、Al共同掺杂的ZnO光电透明导电薄膜。本发明制备工艺简单,沉积过程易于控制。本发明制备的透明导电薄膜均匀性好,光电性能优异,电阻率可低至8.0×10-4Ω·cm,而其透光率可达82%以上。可用于制造太阳能电池、发光二极管、LCD以及手机等光电器件的透明电极。

    ECR-PEMOCVD系统低温沉积ZnO透明导电薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103014676B

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN201210578485.3

    申请日:2012-12-27

    IPC分类号: C23C16/50 C23C16/40

    摘要: ECR-PEMOCVD系统低温沉积ZnO透明导电薄膜的制备方法,属于新材料沉积制备领域。本发明按照以下步骤进行:(1)把普通康宁玻璃片清洗基片送入镀膜室;(2)采用ECR-PEMOCVD系统,将反应室抽真空至1.0×10-3Pa,将基片加热至20~600℃,向反应室内通入氧气、氩气携带的二乙基锌以及氩气携带的三甲基镓或三甲基铝,其中氧气、二乙基锌、三甲基镓的量由质量流量计控制流量比为(90~150):(4~8):(1~2),氧气、二乙基锌、三甲基铝的量由质量流量计控制流量比为(90~150):(4~8):1;控制气体总压强为0.8~2.0Pa;在电子回旋共振频率为650W,反应1~30min,得到Ga或Al掺杂ZnO光电透明导电薄膜。本发明的镓掺杂ZnO或者铝掺杂ZnO的透明光电导电薄膜产品具有性能优异、易于实现大面积生产的产业化的优势。

    Cu/ZnO/Al光电透明导电薄膜的沉积方法

    公开(公告)号:CN103014705B

    公开(公告)日:2014-12-17

    申请号:CN201210576175.8

    申请日:2012-12-27

    IPC分类号: C23C28/00 H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 一种Cu/ZnO/Al光电透明导电薄膜的沉积方法,属透明导电材料领域。本发明一种按照以下步骤进行:(1)将基片用丙酮、乙醇以及去离子水用超声波依次清洗后,用氮气吹干送入反应室;2)磁控溅射Al膜的沉积;(3)有机物化学气相沉积制备中间层ZnO薄膜:(4)磁控溅射Cu膜的沉积:(5)对Cu/ZnO/Al的多层结构的透明导电薄膜进行高温退火,退火温度为100~400℃,退火时间为30min,得到Cu、Al共同掺杂的ZnO光电透明导电薄膜。本发明制备工艺简单,沉积过程易于控制。本发明制备的透明导电薄膜均匀性好,光电性能优异,电阻率可低至8.0×10-4Ω·cm,而其透光率可达82%以上。可用于制造太阳能电池、发光二极管、LCD以及手机等光电器件的透明电极。

    ECR-PEMOCVD系统低温沉积ZnO透明导电薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103014676A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210578485.3

    申请日:2012-12-27

    IPC分类号: C23C16/50 C23C16/40

    摘要: ECR-PEMOCVD系统低温沉积ZnO透明导电薄膜的制备方法,属于新材料沉积制备领域。本发明按照以下步骤进行:(1)把普通康宁玻璃片清洗基片送入镀膜室;(2)采用ECR-PEMOCVD系统,将反应室抽真空至1.0×10-3Pa,将基片加热至20~600℃,向反应室内通入氧气、氩气携带的二乙基锌以及氩气携带的三甲基镓或三甲基铝,其中氧气、二乙基锌、三甲基镓的量由质量流量计控制流量比为(90~150):(4~8):(1~2),氧气、二乙基锌、三甲基铝的量由质量流量计控制流量比为(90~150):(4~8):1;控制气体总压强为0.8~2.0Pa;在电子回旋共振频率为650W,反应1~30min,得到Ga或Al掺杂ZnO光电透明导电薄膜。本发明的镓掺杂ZnO或者铝掺杂ZnO的透明光电导电薄膜产品具有性能优异、易于实现大面积生产的产业化的优势。