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公开(公告)号：CN115808673A
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202211027257.7
申请日：2022-08-25
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01S7/4913 , G01S17/32
Abstract: 本发明提供适当地识别各干涉光的峰值并能够高精度地测距的光干涉测距传感器。光干涉测距传感器(100)具备：波长扫描光源(110)，其一边使波长连续地变化一边投射光；干涉仪(120)，其包括分支部(121)，该分支部使从波长扫描光源投射的光以照射于计测对象物中的多个斑点的方式分支，针对该分支出的各个光，基于照射于该计测对象物并由该计测对象物反射的测定光和至少一部分沿着与该测定光不同的光路的参照光而产生各干涉光；受光部(130)，其接受各干涉光；以及处理部(140)，其使各干涉光中的检测出的峰值与斑点建立对应并计算出至计测对象物为止的距离，针对与多个斑点对应地被分支出的各个光，设定为测定光与参照光之间的光路长度差不同。
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公开(公告)号：CN107924480B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201780002832.9
申请日：2017-02-09
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G06K19/077
Abstract: 本发明防止包含附带有线通信端口的RFID模块的电子设备的误动作。温度调节器包含RFID模块，此RFID模块包括有线通信端口，所述温度调节器包括：存储元件，设置在RFID模块的外部，且无法无线存取；以及处理器，经由有线通信端口而连接于RFID模块，且将RFID模块所存储的温度调节器的设定信息传输至存储元件。此外，本发明也提出相应的无线通信系统。
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公开(公告)号：CN116734725A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310193331.0
申请日：2023-02-28
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01B9/02002 , G01B9/02015 , G01B9/02055 , G01B11/14
Abstract: 本发明提供的光干涉测距传感器，通过由受光部以适当的信号强度接收来自各干涉仪的返回光，从而能够高精度地进行测距。光干涉测距传感器(100)具备：光源(110)，在改变波长的同时投射光；多个干涉仪(130a～130c)，生成基于测定光和参考光的干涉光；多级的光耦合器(120a～120c)；受光部(140a～140c)，接收各干涉光并转换为电信号；以及处理部(150)，根据通过受光部转换的电信号算出到测量对象物为止的距离，向多级的光耦合器(120a～120c)供给的光按照朝向分别对应的干涉仪的第一分支比和朝向该光耦合器的后级的第二分支比分支，这些分支比至少根据该光耦合器的第一分支比及该光耦合器的后级的光耦合器的第一分支比与第二分支比之积进行设定。
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公开(公告)号：CN115808670A
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202211052119.4
申请日：2022-08-29
Applicant: 欧姆龙株式会社
Abstract: 本发明提供光干涉测距传感器，通过抑制光耦合器间的返回光而提高了计测精度。本发明的一方式所涉及的光干涉测距传感器具备：光源，其一边使波长连续地变化一边投射光；多个干涉仪，其基于通过将供给的光引导至计测对象物而从计测对象物反射的测定光和至少一部分沿着与测定光不同的光路的参照光而生成干涉光；多级光耦合器，其为串联连接的多级光耦合器，且从前级接受来自光源的光并使光分支于多个干涉仪中的对应的干涉仪和后级而供给；抑制机构，其抑制光从多级光耦合器的后级向前级的供给；以及处理部，其基于多个干涉仪生成的多个干涉光，计算至计测对象物为止的距离。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113390444A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202110180753.5
申请日：2021-02-08
Applicant: 欧姆龙株式会社
IPC: G01D5/353
Abstract: 提供一种多通道的光干涉测量装置，其不会导致装置大型化且低成本。由第1测量头接收的第1返回光经由第1光路和光纤耦合器被引导到检测器，由第2测量头接收的第2返回光经由第2光路和光纤耦合器被引导到检测器。从光纤耦合器到第1测量头的末端的光路长度D1、从光纤耦合器到第2测量头的末端的光路长度D2、第1测量头的测量范围的最大光路长度R1max、与第1返回光干涉的第1参照光的光路长度S1、与第2返回光干涉的第2参照光的光路长度S2被设定为满足D1+R1max‑S1
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公开(公告)号：CN110440686A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910267790.2
申请日：2019-04-03
Applicant: 欧姆龙株式会社
Abstract: 本发明提供即使探头发生位置偏移也能够高精度地测量被测量对象的三维形状的技术。设定曝光时间(步骤11)，多次进行探头的位置测量(步骤12)。计算多个形态的平均次数的位置测量误差(步骤13)。计算测量时间与所计算出的定位误差的对应表(步骤14)。使用所准备的测量时间与手抖误差的对应表，计算设定曝光时间与测量时间(手抖误差+定位误差)的对应表(步骤15)。针对作为设定候补的所有曝光时间来重复步骤11～15，计算测量时间与位置测量误差的对应表(步骤16)。设定可使位置测量误差最小的曝光时间和平均次数(步骤17)。
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公开(公告)号：CN104067090B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201380006127.8
申请日：2013-01-17
Applicant: 欧姆龙株式会社
CPC classification number: G01B9/02036 , G01B9/02042 , G01B9/02044 , G01B11/026 , G01B11/0608 , G01B11/2441 , G01B2210/50 , G02B21/0016
Abstract: 本发明涉及利用共聚焦光学系统对检测对象物(200)的位移进行检测的共聚焦检测装置。共聚焦检测装置具有：光源，出射多个波长的光；衍射透镜(1)，使从光源出射的光沿着光轴方向产生色像差；检测部，按照波长检测通过衍射透镜(1)产生色像差的光中的在检测对象物(200)会聚的光的强度。另外，在共聚焦检测装置中，从光源入射至衍射透镜(1)的主光线(11b)相对于衍射透镜(1)的光轴(1a)偏离。
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公开(公告)号：CN104995480A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201380073008.4
申请日：2013-11-14
Applicant: 欧姆龙株式会社
CPC classification number: G01B11/026 , G01B11/245 , G01B2210/50
Abstract: 本发明提供利用共聚焦光学系统来多点测量测量对象物(200)的位移的共聚焦测量装置(100)。共聚焦测量装置(100)具有：光源(21)、头部(10)、分光器(23)以及摄像元件(24)。共聚焦测量装置(100)，利用多个头部(10)将产生轴向色差的光照射至测量对象物(200)，并使聚焦于测量对象物(200)的光通过，再利用分叉光纤以及光纤(11)使通过多个头部(10)的光入射至一个分光器(23)。进一步地，共聚焦测量装置(100)利用沿着分光部的分光方向一维排列构成的摄像元件(24)，来接收分离出的光，利用控制电路部(25)根据摄像元件(24)所接收的光来求出与多个头部(10)的每一个对应的峰波长。
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