一种无铅Bi0.5Na0.5TiO3基高储能密度薄膜电容器及其制备方法

    公开(公告)号:CN103956266A

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201410146863.X

    申请日:2014-04-14

    IPC分类号: H01G4/33 H01G4/08

    摘要: 本发明涉及一种无铅Bi0.5Na0.5TiO3基高储能密度薄膜电容器及其制备方法,包括衬底硅片上溅射金属下电极、溅射Bi0.5Na0.5TiO3基高储能密度薄膜中间层、薄膜上溅射金属上电极形成三层结构。Bi0.5Na0.5TiO3基高储能密度薄膜层具体由(1-x)(0.94Bi0.5Na0.5TiO3-0.06BaTiO3)-xK0.5Na0.5NbO3(0.01≤x≤0.1)组成;金属上、下电极材料为金属Ag、Au、Pt中的一种。先制备(1-x)(0.94Bi0.5Na0.5TiO3-0.06BaTiO3)-xK0.5Na0.5NbO3陶瓷靶材,然后采用磁控溅射工艺将其溅射到已溅射有金属下电极的硅片衬底上形成Bi0.5Na0.5TiO3基高储能密度薄膜层;再在薄膜上使用溅射工艺制备金属上电极。本发明制备的高储能密度薄膜电容器体积小,薄膜层厚度0.5~1.5μm,其储能密度为20~45J/cm3。