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公开(公告)号：CN110026869A
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201910028583.1
申请日：2019-01-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供抑制成本，并且不需要对象处理的处理间的追加处理就使施加于处理带的张力恒定的基板处理装置以及控制方法。一种基板处理装置，使处理带抵接于处理对象物，通过该处理带和处理对象物的相对运动来处理该处理对象物，并且所述基板处理装置具有带供给卷轴、带回收卷轴、向带回收卷轴提供转矩的回收用电动机、送出处理带的带进给电动机以及控制带进给电动机的控制部，控制部使用由带进给电动机送出的带进给长度和该处理带的厚度，并配合由带回收卷轴卷绕的处理带的卷绕体的外径的变化来控制回收用电动机的转矩，以使得施加于该处理带的张力恒定。
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公开(公告)号：CN110026869B
公开(公告)日：2022-07-26
申请号：CN201910028583.1
申请日：2019-01-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供抑制成本，并且不需要对象处理的处理间的追加处理就使施加于处理带的张力恒定的基板处理装置以及控制方法。一种基板处理装置，使处理带抵接于处理对象物，通过该处理带和处理对象物的相对运动来处理该处理对象物，并且所述基板处理装置具有带供给卷轴、带回收卷轴、向带回收卷轴提供转矩的回收用电动机、送出处理带的带进给电动机以及控制带进给电动机的控制部，控制部使用由带进给电动机送出的带进给长度和该处理带的厚度，并配合由带回收卷轴卷绕的处理带的卷绕体的外径的变化来控制回收用电动机的转矩，以使得施加于该处理带的张力恒定。
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公开(公告)号：CN109216230A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201810687965.0
申请日：2018-06-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: C23C16/4412 , B01D2258/0216 , C23C16/4405 , F04C23/001 , F04C25/02 , F04C29/0092 , F04C2220/30 , H01J37/32834 , H01J37/32844 , H01L21/67017 , H01J37/3244 , H01J37/32862
Abstract: 本发明提供排气系统设备，减少排气系统设备的内部的副生成物的残留量而进一步提高排气系统设备的工作率。为了对半导体制造装置(12)的腔室(14)内进行排气，而在腔室(14)的下游设置真空泵(10)。气体供给装置(18)与真空泵(10)连接，而向真空泵(10)供给包含卤化氢和氮气的气体。
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公开(公告)号：CN106714954A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580050402.5
申请日：2015-09-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B01F15/02 , B01F1/00 , B01F3/04 , B01F5/04 , B01F15/04 , C01B13/10 , C01B13/11 , C02F1/78 , H01L21/304
CPC classification number: B01F3/0446 , B01F5/0413 , B01F15/00149 , B01F15/00162 , B01F15/0022 , B01F15/00357 , B01F15/00422 , B01F2003/04886 , B01F2215/004 , C01B13/11 , C01B2201/64 , C02F1/78 , C02F2103/04 , C02F2201/782 , C02F2209/03 , C02F2209/38 , C02F2209/40 , H01L21/02052 , H01L21/67017
Abstract: 本发明的臭氧水制造装置(1)具备：流量控制器(4、5)，控制作为原料的气体的流量；流量计(12)，测定作为原料的水的流量；升压泵(13)，控制水的压力；臭氧水生成部(8)，将臭氧气体与水进行混合而生成臭氧水；以及压力传感器(17)，测定供给至使用点(19)的臭氧水的压力。升压泵(13)控制水的压力，使由压力传感器(17)测定的臭氧水的压力成为恒定，流量控制器(4、5)根据由流量计(12)测定的水的流量来控制气体的流量。
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