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公开(公告)号:CN101807007B
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN201010115737.X
申请日:2010-02-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的课题是在液晶曝光装置中提供组装平台时容易定位的构造。本发明提供一种液晶曝光装置,具有:搭载工件的工件台、具有该工件台的移动机构的可动平台、具有该可动平台的移动机构的固定平台、和支持对所述工件台上的工件曝光掩膜图形的曝光单元的门架部,其中,固定所述门架部的固定平台具有在与所述可动平台的移动方向成直角的方向上可分割为多个的构造。
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公开(公告)号:CN101713931A
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200910204607.0
申请日:2009-09-29
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和液晶曝光方法,所述曝光装置能够加强加工和输送容易的分割状态的台架在组装中的连接强度,且该曝光装置容易组装,或者即使组装后也能够容易地调整从分割状态组装后的部位。设有中空的连接工作台,该连接工作台连接构成台架的多个工作台并具有四棱柱结构,在连接面上设置突起部并插入对方侧的工作台,并且从工作台的上表面操作所述突起部的位置。另外,调节设置在所述连接面上的空气储存室中的空气量。
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公开(公告)号:CN109765761A
公开(公告)日:2019-05-17
申请号:CN201811324621.X
申请日:2018-11-08
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Abstract: 本发明提供一种不大幅增加设备或步骤,于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统,包含于经涂布于基板的光阻,以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像,检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量,使用激光测量装置,检测平台位置,对应检测出的该偏移量,进行屏蔽标记与基板标记的位置校准,进行屏蔽与基板的相对位置定位,基于激光测量装置的检测结果,控制图样于基板曝光的位置,于基板进行图样的曝光,将尺寸相异的图样于基板曝光。
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公开(公告)号:CN101807007A
公开(公告)日:2010-08-18
申请号:CN201010115737.X
申请日:2010-02-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的课题是在液晶曝光装置中提供组装平台时容易定位的构造。本发明提供一种液晶曝光装置,具有:搭载工件的工件台、具有该工件台的移动机构的可动平台、具有该可动平台的移动机构的固定平台、和支持对所述工件台上的工件曝光掩膜图形的曝光单元的门架部,其中,固定所述门架部的固定平台具有在与所述可动平台的移动方向成直角的方向上可分割为多个的构造。
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公开(公告)号:CN109765761B
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN201811324621.X
申请日:2018-11-08
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Abstract: 本发明提供一种不大幅增加设备或步骤,于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统,包含于经涂布于基板的光阻,以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像,检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量,使用激光测量装置,检测平台位置,对应检测出的该偏移量,进行屏蔽标记与基板标记的位置校准,进行屏蔽与基板的相对位置定位,基于激光测量装置的检测结果,控制图样于基板曝光的位置,于基板进行图样的曝光,将尺寸相异的图样于基板曝光。
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公开(公告)号:CN101713931B
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN200910204607.0
申请日:2009-09-29
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和液晶曝光方法,所述曝光装置能够加强加工和输送容易的分割状态的台架在组装中的连接强度,且该曝光装置容易组装,或者即使组装后也能够容易地调整从分割状态组装后的部位。设有中空的连接工作台,该连接工作台连接构成台架的多个工作台并具有四棱柱结构,在连接面上设置突起部并插入对方侧的工作台,并且从工作台的上表面操作所述突起部的位置。另外,调节设置在所述连接面上的空气储存室中的空气量。
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