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公开(公告)号:CN109765761A
公开(公告)日:2019-05-17
申请号:CN201811324621.X
申请日:2018-11-08
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Abstract: 本发明提供一种不大幅增加设备或步骤,于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统,包含于经涂布于基板的光阻,以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像,检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量,使用激光测量装置,检测平台位置,对应检测出的该偏移量,进行屏蔽标记与基板标记的位置校准,进行屏蔽与基板的相对位置定位,基于激光测量装置的检测结果,控制图样于基板曝光的位置,于基板进行图样的曝光,将尺寸相异的图样于基板曝光。
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公开(公告)号:CN105393080B
公开(公告)日:2018-10-19
申请号:CN201480039911.3
申请日:2014-09-01
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Inventor: 渡边正久
IPC: G01B11/245 , B60M1/28
Abstract: 能够基于行驶的车辆简单地测定架空线的磨损部的形状。将狭缝状的激光束L1、L2从车辆9的车顶上相对于车辆前进方向大致垂直地照射到架空线1。通过照射激光束,在架空线1的包括侧面在内的下侧生成光切割图像。通过利用照相机等从斜下方接收该光切割图像,获取表示架空线1的包括侧面在内的下侧的形状的图像,即架空线1的光切割图像的轮廓d0。将这样的光投射部和光接收部设置两套于沿架空线1的偏移左右方向分离的位置,并分别测定激光束L1、L2照射到的部分的形状,通过对其进行图像处理,生成表示架空线1的滑动面和左右侧面的剖面形状的数据。基于生成的表示架空线1的滑动面和左右侧面的剖面形状的数据,测定架空线1的侧面的剩余量和磨损量。
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公开(公告)号:CN108475751A
公开(公告)日:2018-08-31
申请号:CN201680077217.X
申请日:2016-10-27
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
IPC: H01M2/16 , H01M4/139 , H01M10/0566 , H01M10/058
CPC classification number: H01M2/16 , H01M4/139 , H01M10/0566 , H01M10/058
Abstract: 一种在形成介于锂离子电池的正极层和负极层之间的绝缘性的隔离件时使用的隔离件用浆料(124)。隔离件用浆料(124)具有:无机氧化物粒子(例如二氧化硅的粒子)(120);使无机氧化物粒子(120)在浆料中分散的分散剂粒子(例如聚乙烯吡咯烷酮的粒子)(127);使无机氧化物粒子(120)粘结的粘结剂(128);以及溶解粘结剂(128)的溶剂(129)。
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公开(公告)号:CN107112580A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580058044.2
申请日:2015-10-07
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
IPC: H01M10/052 , H01M2/16 , H01M4/139 , H01M10/0566 , H01M10/058
CPC classification number: H01M2/16 , H01M4/139 , H01M10/052 , H01M10/0566 , H01M10/058
Abstract: 本发明提供一种锂离子电池,其具备具有关闭功能和耐热功能的隔膜。为了解决上述课题,本发明的锂离子电池中,经过一次涂覆工序在形成于集电箔表面上的负极层上形成绝缘层,该绝缘层为以二氧化硅粒子层为下层、以聚丙烯粒子层为上层的2层结构,所述涂覆工序中使用含有比重相互不同的2种微粒的绝缘材料。同样地,经过一次涂覆工序在形成于集电箔表面上的正极层上形成绝缘层,所述绝缘层为以二氧化硅粒子层为下层、以聚丙烯粒子层为上层的2层结构,所述涂覆工序中使用含有比重相互不同的2种微粒的绝缘材料。二氧化硅粒子层具有耐热功能,聚丙烯粒子层具有关闭功能。
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公开(公告)号:CN109155425A
公开(公告)日:2019-01-04
申请号:CN201780030786.3
申请日:2017-02-28
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
IPC: H01M10/04 , H01M2/26 , H01M2/34 , H01M4/02 , H01M4/04 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M10/0562 , H01M10/0565 , H01M10/0585
Abstract: 本发明提供二次电池及其制造方法,所述二次电池是在电极箔上隔着电极层来形成隔板层或电解质层的二次电池,防止在电极的切断部、与由负极和正极的层叠体引出的电极箔之间的短路发生。作为其方法,在具有将负极和正极交替地多个层叠而成的电极组的二次电池中,通过利用绝缘层来覆盖构成从正极引出的电极箔的附近的负极的端部的电极层和电极箔从而进行保护。
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公开(公告)号:CN106018883A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:CN201610181780.3
申请日:2016-03-28
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
CPC classification number: G01Q60/06 , B82Y20/00 , B82Y35/00 , G01Q60/22 , G01Q60/56 , G11B5/314 , G11B5/3166 , G11B5/3173 , G11B5/3196 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明提供一种热辅助磁头元件的检查装置及其方法。在热辅助磁头的检查中,即使悬臂的测定探针的直径对于每个悬臂具有偏差,也能够保证进行高精度的检查。热辅助磁头元件的检查装置具备:悬臂;位移检测系统,其检测悬臂的位移;光检测器,其检测来自悬臂的散射光;信号处理部,其接收来自位移检测部的输出信号和来自光检测器的输出信号对信号进行处理;以及控制部,其对整体进行控制,还具备:载置部,其载置近场光产生样本;激光源,其发射激光;激光照射光学系统,其将激光照射到近场光产生样本而产生近场光;以及工作台部,其载置载置部和激光照射光学系统来使近场光产生样本在悬臂正下方与从悬臂离开的位置之间进行移动。
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公开(公告)号:CN105393080A
公开(公告)日:2016-03-09
申请号:CN201480039911.3
申请日:2014-09-01
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Inventor: 渡边正久
IPC: G01B11/245 , B60M1/28
CPC classification number: B60M1/28 , G01B11/245 , G01B11/25 , G01B2210/52
Abstract: 能够基于行驶的车辆简单地测定架空线的磨损部的形状。将狭缝状的激光束L1、L2从车辆9的车顶上相对于车辆前进方向大致垂直地照射到架空线1。通过照射激光束,在架空线1的包括侧面在内的下侧生成光切割图像。通过利用照相机等从斜下方接收该光切割图像,获取表示架空线1的包括侧面在内的下侧的形状的图像,即架空线1的光切割图像的轮廓d0。将这样的光投射部和光接收部设置两套于沿架空线1的偏移左右方向分离的位置,并分别测定激光束L1、L2照射到的部分的形状,通过对其进行图像处理,生成表示架空线1的滑动面和左右侧面的剖面形状的数据。基于生成的表示架空线1的滑动面和左右侧面的剖面形状的数据,测定架空线1的侧面的剩余量和磨损量。
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公开(公告)号:CN109765761B
公开(公告)日:2021-09-28
申请号:CN201811324621.X
申请日:2018-11-08
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Abstract: 本发明提供一种不大幅增加设备或步骤,于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统,包含于经涂布于基板的光阻,以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像,检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量,使用激光测量装置,检测平台位置,对应检测出的该偏移量,进行屏蔽标记与基板标记的位置校准,进行屏蔽与基板的相对位置定位,基于激光测量装置的检测结果,控制图样于基板曝光的位置,于基板进行图样的曝光,将尺寸相异的图样于基板曝光。
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公开(公告)号:CN109314208A
公开(公告)日:2019-02-05
申请号:CN201780035343.3
申请日:2017-05-30
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
IPC: H01M2/16 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M10/052 , H01M10/0566 , H01M10/058
Abstract: 使锂离子电池所使用的隔板的特性提高。使负极用浆料S(Nb)以及隔板用浆料S(SPn)干燥,在金属箔Na上形成负极片NS,该负极片NS具有由负极用浆料S(Nb)形成的负极层Nb、以及在负极层Nb上通过隔板用浆料S(SPn)形成的隔板SPn。上述隔板用浆料S(SPn)具有第一无机氧化物颗粒、形状与第一无机氧化物颗粒不同的第二无机氧化物颗粒、使第一无机氧化物颗粒以及第二无机氧化物颗粒的混合物中的颗粒粘结的粘结剂、以及溶解粘结剂的溶剂。例如,第一无机氧化物颗粒为球状二氧化硅,第二无机氧化物颗粒为不定形二氧化硅。相对于球状二氧化硅和不定形二氧化硅的混合重量,不定形二氧化硅的比例为25重量%以上75重量%以下。
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