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公开(公告)号：CN109765761A
公开(公告)日：2019-05-17
申请号：CN201811324621.X
申请日：2018-11-08
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Abstract: 本发明提供一种不大幅增加设备或步骤，于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统，包含于经涂布于基板的光阻，以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像，检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量，使用激光测量装置，检测平台位置，对应检测出的该偏移量，进行屏蔽标记与基板标记的位置校准，进行屏蔽与基板的相对位置定位，基于激光测量装置的检测结果，控制图样于基板曝光的位置，于基板进行图样的曝光，将尺寸相异的图样于基板曝光。
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公开(公告)号：CN109765761B
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201811324621.X
申请日：2018-11-08
Applicant: 株式会社日立高新技术高精细系统
Abstract: 本发明提供一种不大幅增加设备或步骤，于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统，包含于经涂布于基板的光阻，以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像，检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量，使用激光测量装置，检测平台位置，对应检测出的该偏移量，进行屏蔽标记与基板标记的位置校准，进行屏蔽与基板的相对位置定位，基于激光测量装置的检测结果，控制图样于基板曝光的位置，于基板进行图样的曝光，将尺寸相异的图样于基板曝光。
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