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公开(公告)号：CN102314023A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110193716.4
申请日：2011-07-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G02F1/1337
Abstract: 一种液晶用取向膜曝光方法及其装置。在对液晶基板的取向膜照射细小间距的线形光图案并沿一个方向扫描时，对取向膜赋予与该扫描方向相应的同样的取向特性，但在现有的透过掩膜照射光图案来进行曝光的方式中曝光时间长，在实用上有瓶颈。本发明中，在对从光源发射的曝光光赋予偏振光特性并使其入射到具有大量微小可动镜面的微镜器件，把通过由微镜器件的微小可动镜面形成的反射图案反射的曝光光的图案经投影光学系统投影到载置在载台上的在表面上形成取向膜的基板上，对取向膜进行曝光的液晶用取向膜曝光方法中，在通过使载台在一个方向上连续移动而在一个方向上连续移动的基板上，曝光的图案以比载台的移动速度慢的速度移动来对取向膜进行曝光。
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公开(公告)号：CN101807007B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201010115737.X
申请日：2010-02-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的课题是在液晶曝光装置中提供组装平台时容易定位的构造。本发明提供一种液晶曝光装置，具有：搭载工件的工件台、具有该工件台的移动机构的可动平台、具有该可动平台的移动机构的固定平台、和支持对所述工件台上的工件曝光掩膜图形的曝光单元的门架部，其中，固定所述门架部的固定平台具有在与所述可动平台的移动方向成直角的方向上可分割为多个的构造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102591157A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201110413542.8
申请日：2011-12-13
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光方法及其装置。为了削减在LED光源中使用的LED元件数，小型并且低成本地提供能够在短时间内获得充分的光量的曝光用光源，而使曝光装置构成为具备：曝光用光源单元，其发出曝光光；台单元，其承载曝光用基板，并能够在平面内移动；控制单元，其控制台单元和曝光用光源单元，曝光用光源单元具备2维排列了多个发光元件的光源部，控制单元在通过曝光用光源单元在预定的时间内以预定的曝光总光量对承载在台单元上的曝光用基板进行曝光时，控制光源部，一边依次改变照射条件，一边使得从该光源部发出多个脉冲光，对曝光用基板进行照射。
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公开(公告)号：CN102375346A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201110221578.6
申请日：2011-08-04
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 在曝光装置中将基板接触支撑于卡盘这一方法，有可能会因附着于基板的尘埃而发生仿照基板保持形状的“里面转印”，或者因基板与卡盘的接触顺序等而在基板上发生皱折等使平坦度受损，发生曝光不良。为此，设置在卡盘上利用空气力使基板进行浮起的部件，通过以非接触方式保持基板，就能够防止有可能因接触状态而发生的平坦度的损害和皱折的发生，将曝光图案在基板上高精度地进行曝光。另外，通过设置恒温(定温)部件，就能够防止使其浮起的基板的温度变化(上升)，所以不会有基板的浮起曝光所导致的逊色。
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公开(公告)号：CN102129180B
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201110021679.9
申请日：2011-01-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置。该微镜器件筛选装置用于在无掩膜曝光装置中获得在宽度方向和厚度方向上都无凹陷的线性良好的描画图案。在该微镜器件筛选装置中具备：将照明光照射到微镜器件(2)的微镜(21)的照明系统；使通过微镜(21)产生的衍射光入射到摄像元件(79)的光学系统；以及对通过摄像元件(79)拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行微镜器件(2)为合格品或不合格品的判定的处理系统(9)。
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公开(公告)号：CN102129180A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201110021679.9
申请日：2011-01-14
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置。该微镜器件筛选装置用于在无掩膜曝光装置中获得在宽度方向和厚度方向上都无凹陷的线性良好的描画图案。在该微镜器件筛选装置中具备：将照明光照射到微镜器件(2)的微镜(21)的照明系统；使通过微镜(21)产生的衍射光入射到摄像元件(79)的光学系统；以及对通过摄像元件(79)拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行微镜器件(2)为合格品或不合格品的判定的处理系统(9)。
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公开(公告)号：CN101807007A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN201010115737.X
申请日：2010-02-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G03F7/20 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的课题是在液晶曝光装置中提供组装平台时容易定位的构造。本发明提供一种液晶曝光装置，具有：搭载工件的工件台、具有该工件台的移动机构的可动平台、具有该可动平台的移动机构的固定平台、和支持对所述工件台上的工件曝光掩膜图形的曝光单元的门架部，其中，固定所述门架部的固定平台具有在与所述可动平台的移动方向成直角的方向上可分割为多个的构造。
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