公开(公告)号：CN102129180B

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201110021679.9

申请日：2011-01-14

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 吉武康裕 ,  根本亮二 ,  上野刚渡

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置。该微镜器件筛选装置用于在无掩膜曝光装置中获得在宽度方向和厚度方向上都无凹陷的线性良好的描画图案。在该微镜器件筛选装置中具备：将照明光照射到微镜器件(2)的微镜(21)的照明系统；使通过微镜(21)产生的衍射光入射到摄像元件(79)的光学系统；以及对通过摄像元件(79)拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行微镜器件(2)为合格品或不合格品的判定的处理系统(9)。

公开(公告)号：CN102129180A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN201110021679.9

申请日：2011-01-14

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 吉武康裕 ,  根本亮二 ,  上野刚渡

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种微镜器件的筛选方法、微镜器件筛选装置以及无掩膜曝光装置。该微镜器件筛选装置用于在无掩膜曝光装置中获得在宽度方向和厚度方向上都无凹陷的线性良好的描画图案。在该微镜器件筛选装置中具备：将照明光照射到微镜器件(2)的微镜(21)的照明系统；使通过微镜(21)产生的衍射光入射到摄像元件(79)的光学系统；以及对通过摄像元件(79)拍摄到的衍射光分布图像进行处理，进行微镜器件(2)为合格品或不合格品的判定的处理系统(9)。