-
公开(公告)号：CN118679549A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202280086241.5
申请日：2022-10-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/02 , G05B19/418 , G05B23/02
Abstract: 在基板处理装置管理系统中从多个基板处理装置分别收集多个处理信息，该多个处理信息示出与基板的处理关联的动作或者状态。针对各个基板处理装置，基于多个处理信息间的不变的关系与从该基板处理装置所收集的多个处理信息，算出该基板处理装置的异常的程度作为异常分数。在管理装置中，从各个基板处理装置受理与异常相关的调查请求。在受理了两个以上的调查请求时，取得与这些调查请求对应的基板处理装置的异常分数。基于所取得的多个异常分数，对管理者提示应响应于两个以上的调查请求的与优先顺位相关的优先顺位信息。
-
公开(公告)号：CN115376885A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202210547052.5
申请日：2022-05-18
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法具备：向基板的上表面供给药液的工序(步骤S11)；向基板的上表面供给清洗液的工序(步骤S12)；向基板的上表面供给干燥处理液而在基板的上表面上形成干燥处理液的液膜的工序(步骤S14)；从下表面侧对上表面上形成有干燥处理液的液膜的状态下的基板进行加热的工序(步骤S15)；和通过将该干燥处理液的液膜从基板的上表面除去而使基板干燥的工序(步骤S16)。该干燥处理液的表面张力比清洗液的表面张力低。干燥处理液的沸点比清洗液的沸点高。步骤S15中的基板的加热温度为清洗液的沸点以上且低于干燥处理液的沸点。由此，能够抑制步骤S16的干燥处理时的图案倒塌。
-
公开(公告)号：CN108987306A
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201810541443.X
申请日：2018-05-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
CPC classification number: B05D1/005 , B05B1/30 , B08B3/08 , H01L21/67051 , H01L21/6715
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法，其中，包括：冲洗液供给工序，向基板的主面供给含有水的冲洗液；旋转工序，使基板以通过基板的主面的中央部的旋转轴线为中心旋转；以及疏水剂供给工序，在进行所述冲洗液供给工序后，与所述旋转工序并行执行，向所述基板的主面供给疏水剂以将由基板的主面保持的液体置换为含有第一溶剂的疏水剂。所述疏水剂供给工序包括疏水剂喷出工序，在所述疏水剂喷出工序中，从喷嘴的喷出口以所述喷出口处的雷诺数为1500以下的方式向由基板保持单元保持的基板的主面喷出疏水剂的连续流。
-
公开(公告)号：CN119213531A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202380021806.6
申请日：2023-02-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/02
Abstract: 本发明的基板处理装置管理系统具有：信息分析装置，具有生成代表模型的模型生成部，该代表模型表示复数个处理信息间的相关关系，所述复数个处理信息表示与复数个腔室中的代表腔室中的基板的处理相关联的动作或状态；以及辅助装置，获取复数个腔室各自的复数个处理信息，基于将其他腔室的复数个处理信息间的相关关系与代表模型进行比较的比较信息，生成与其他腔室的维护作业有关的辅助信息。
-
公开(公告)号：CN113614887A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080022944.2
申请日：2020-01-24
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/306
Abstract: 在基板处理方法中，对具有包含多个构造物(63)的图案PT的基板(W)进行处理。基板处理方法包括下述工序：针对多个构造物(63)执行使用非液体的规定处理，与执行规定处理前相比使多个构造物(63)各自的表面(62)的亲水性增大的工序(S1)；以及在使亲水性增大的工序(S1)后，向多个构造物(63)供给处理液的工序(S3)。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108257891B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201711406516.6
申请日：2017-12-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种使用紫外线进行多个处理也能抑制尺寸增加的基板处理装置。基板处理装置具有紫外线照射装置(2)和基板保持装置(31、32)。紫外线照射装置2位于处理室(11、12)的边界，并且能够向处理室(11、12)照射紫外线。基板保持装置31配置于处理室(11)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。基板保持装置(32)配置于处理室(12)，将基板保持成与紫外线照射装置(2)对置。
-
公开(公告)号：CN113632012B
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202080020066.0
申请日：2020-02-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供衬底处理方法，其解决了若欲仅依赖臭氧的分解作用来除去阻剂膜，则处理时间变长的课题；虽然利用使阻剂膜溶胀而促进剥离，但在溶胀进行的程度上还存在较大改善的余地的课题，能够抑制废液处理的负担，并且能够在短时间内从衬底除去阻剂膜。衬底处理方法，其具备：使含臭氧水溶液(920)与衬底(901)上的阻剂膜接触的工序；以及使与含臭氧水溶液(920)相比以高浓度含有氨的含氨水溶液(930)与阻剂膜中的、已经与含臭氧水溶液(920)相接触的部分(P1)接触的工序。
-
公开(公告)号：CN117772650A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311238001.5
申请日：2023-09-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板清洗刷及基板清洗装置。基板清洗刷包括清洗部，在基板的清洗中使用。清洗部具有在清洗基板时能够与基板接触的清洗面。在清洗面上形成切缝。清洗部通过切缝被划分成多个清洗块。在清洗面与基板接触时，通过清洗部的弹性变形，各清洗块和与该清洗块相邻的清洗块彼此接触。
-
公开(公告)号：CN108257890B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201711404713.4
申请日：2017-12-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明提供一种在更短时间内将基板和紫外线照射器之间的空间的环境气体变为规定的环境气体的基板处理装置。基板处理装置(10)具备基板保持台(1)、紫外线照射机构(2)、筒构件(3)和气体供给机构(41、42)。紫外线照射机构以隔着作用空间(H1)与基板(W1)相对的方式配置，并向基板照射紫外线。筒构件具有包围基板保持台的侧表面1b)的内表面(3a)，在内表面中的与侧表面相对的至少一个位置上具有至少一个开口部(31a)。气体供给机构(42)经由至少一个开口部，向基板保持台(1)的侧表面(1b)和筒构件(3)的内表面(3a)之间的空间供给气体。气体供给机构(41)向基板和紫外线照射机构(2)之间的作用空间(H1)供给气体。
-
公开(公告)号：CN113632012A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202080020066.0
申请日：2020-02-04
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304
Abstract: 本发明的目的在于提供衬底处理方法，其解决了若欲仅依赖臭氧的分解作用来除去阻剂膜，则处理时间变长的课题；虽然利用使阻剂膜溶胀而促进剥离，但在溶胀进行的程度上还存在较大改善的余地的课题，能够抑制废液处理的负担，并且能够在短时间内从衬底除去阻剂膜。衬底处理方法，其具备：使含臭氧水溶液(920)与衬底(901)上的阻剂膜接触的工序；以及使与含臭氧水溶液(920)相比以高浓度含有氨的含氨水溶液(930)与阻剂膜中的、已经与含臭氧水溶液(920)相接触的部分(P1)接触的工序。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
14
records
(took 0.028 seconds)
