公开(公告)号：CN117650041A

公开(公告)日：2024-03-05

申请号：CN202311111885.8

申请日：2023-08-31

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  石川道明 ,  大野拓也 ,  野野村秋人 ,  春名大树

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B1/12 ,  B08B1/36 ,  B08B3/04 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B13/00 ,  G01D21/02

Abstract: 本发明提供一种能够在抑制成本的同时提高检测精度的基板处理装置及刷子的脱落检测方法。由于检测部(DU)检测到最大压入高度(H3)，所以控制部能够判断成刷子(99)已经脱落。由于检测部(DU)是基于按压机构(81)的动作检测到达了最大压入高度(H3)这一情况，所以能够将检测部(DU)配置在不会接触到飞散的处理液的部位。因此，无需以耐药性的材料构成检测部(DU)。其结果为，能够抑制成本。另外，由于没有处理液附着于检测部(DU)而导致光散射的隐患，所以能够提高检测精度。

公开(公告)号：CN117960636A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202311380217.5

申请日：2023-10-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  石川道明 ,  大野拓也

IPC: B08B1/12 ,  B08B1/36 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

Abstract: 本发明的目的在于能通过考虑刷子的面内的压力分布，而提高衬底的面内的清洁度的均一性。本发明涉及一种刷子及具备所述刷子的衬底处理装置以及刷子的推压力控制方法。控制部以基于面内压力分布检测部(SPD)的压力分布，根据衬底的径向上的刷子(99)的位置，由推压机构调整推压力的方式进行控制。由此，即便刷子(99)根据衬底的径向上的刷子(99)的位置而不均匀地作用，也能无关于刷子(99)的位置，使从衬底的上表面观察到的由刷子(99)作用的力大致均等。因此，能提高衬底的面内的清洁度的均一性。

公开(公告)号：CN117650042A

公开(公告)日：2024-03-05

申请号：CN202311112146.0

申请日：2023-08-31

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  石川道明 ,  大野拓也 ,  野野村秋人 ,  春名大树

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B08B1/12 ,  B08B1/36 ,  B08B3/04 ,  B08B13/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。通过对一次侧的压力进行监视，能够将对基板进行不适当的清洗处理防止于未然。控制部(161)对向按压用致动器(89)的输入信号进行操作，对按压进行调节，借助按压机构使刷子(9)作用于基板(W)的上表面。控制部(161)监视一次侧压力计(155)和二次侧压力计(159)，因此，能够判断为在一次侧压力产生了异常变化。控制部(161)能够判断为成为无法将刷子(99)的按压调节为期望的值的状况。其结果为，能够防止持续地对新的基板(W)进行不适当的清洗处理于未然。

公开(公告)号：CN117960637A

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202311384994.7

申请日：2023-10-24

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  石川道明 ,  大野拓也

IPC: B08B1/12 ,  B08B1/36 ,  B08B3/02 ,  B08B13/00

Abstract: 本发明的目的在于能通过使刷子作用于衬底的面瞬时依循衬底的倾斜，不对衬底的洗净面造成损伤而进行洗净。本发明涉及一种刷子及具备所述刷子的衬底处理装置。在洗净部(77)位于衬底的周缘部的情况下，根据周缘部的倾斜，外周刷(515)相对于中央刷(513)朝垂直方向移动。外周刷(515)通过比压缩螺旋弹簧(517)的弹推力强的与目标载荷相应的来自衬底(W)的反作用力而瞬时朝上方移动。因此，刷子(99)的作用面为依循衬底的倾斜的形状。结果，由于外周刷(515)不会产生歪斜的变形，几乎仅中央刷(513)作用于衬底，所以不会对衬底的洗净面造成损伤。

公开(公告)号：CN117855084A

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN202311215653.7

申请日：2023-09-20

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 安武阳介 ,  石川道明 ,  大野拓也

IPC: H01L21/67 ,  B08B1/00 ,  B08B1/36 ,  B08B1/12

Abstract: 本发明提供一种在铅垂方向上具有短的长度的基板处理装置。基板处理装置(1)具备基板保持部(41)、护罩(51)、刷子(61)、马达(81)和臂(71)。基板保持部(41)将基板(W)以水平姿势保持。护罩(51)配置在基板保持部(41)的侧方。马达(81)使刷子(61)旋转。臂(71)支承刷子(61)和马达(81)。臂(71)使刷子(61)和马达(81)移动。当臂(71)将刷子(61)配置到处理位置(Qa)时，刷子(61)与基板保持部(41)所保持的基板(W)接触。当臂(71)将刷子(61)配置到处理位置(Qa)时，马达(81)的至少一部分配置在比护罩(51)的上缘(52)低的位置。

公开(公告)号：CN117772650A

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202311238001.5

申请日：2023-09-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 冲田展彬 ,  中村一树 ,  冈田吉文 ,  安武阳介 ,  石川道明 ,  大野拓也 ,  石井弘晃 ,  中野佑太

IPC: B08B1/12 ,  B08B1/32 ,  H01L21/67 ,  A46B13/00 ,  A46B13/02 ,  A46B13/04 ,  B08B3/02 ,  B08B5/02

Abstract: 本发明提供一种基板清洗刷及基板清洗装置。基板清洗刷包括清洗部，在基板的清洗中使用。清洗部具有在清洗基板时能够与基板接触的清洗面。在清洗面上形成切缝。清洗部通过切缝被划分成多个清洗块。在清洗面与基板接触时，通过清洗部的弹性变形，各清洗块和与该清洗块相邻的清洗块彼此接触。