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公开(公告)号：CN119852168A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510068592.9
申请日：2019-12-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理中，向被保持为水平状态的基板(9)的上表面(91)供给第一处理液，形成覆盖整个上表面(91)的第一处理液的液膜(81)。另外，对基板(9)进行加热，在上表面(91)上的第一处理液的液膜(81)与上表面(91)之间形成第一处理液的蒸气层(82)。然后，通过向基板(9)的上表面(91)供给第二处理液，从上表面(91)去除第一处理液的液膜(81)。由此，能够将随着蒸气层(82)的形成而进入第一处理液的液膜(81)的异物(89)从基板(9)的上表面(91)合适地去除。
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公开(公告)号：CN117637533A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202311076036.3
申请日：2023-08-23
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本申请提供衬底处理装置。衬底处理装置(100)具备处理部(1)、第1排液配管(12)、多个第2排液配管(14)、切换单元(13)和控制部(102)。处理部使用第1药液、漂洗液及第2药液，依次执行第1药液处理、漂洗处理及第2药液处理。从处理部排出的排液流入第1排液配管。切换单元将排液的流通目的地在多个第2排液配管之间切换。多个第2排液配管包含第1药液用的第1配管(141)、第1药液用的第2配管(142)和第2药液用的第3配管(143)。控制部对切换单元进行控制以将第1药液处理中的排液的流通目的地设为第1配管，在漂洗处理中将排液的流通目的地从第1配管切换至第2配管，在漂洗处理后将排液的流通目的地从第2配管切换至第3配管。
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公开(公告)号：CN116490956A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202180076552.9
申请日：2021-10-29
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/027
Abstract: 基板处理方法包括：基板保持工序，将基板保持在被筒状的防护罩包围的保持位置；处理液供给工序，一边使被保持在所述保持位置的所述基板绕穿过所述基板的中央部的旋转轴线旋转，一边将处理所述基板的被处理面的处理液供给至所述基板的被处理面；图像取得工序，在对所述基板的被处理面供给处理液的期间，取得所述基板的被处理面的图像以及所述防护罩的内壁面的图像；以及检测工序，监视在所述图像取得工序中取得的图像的亮度值，并检测处理结束时间点，所述处理结束时间点为处理液对于所述基板的被处理面的处理结束的时间点。
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公开(公告)号：CN111630634B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN201880086735.7
申请日：2018-11-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , C08L83/04 , C08L83/10 , C08L101/00
Abstract: 本发明提供一种防止吐出口中的液滴下落的处理液吐出配管、及包括所述处理液吐出配管的基板处理装置。处理液吐出配管(41)在内部具有供处理液流通的流路(44)，且将在流路(44)中流通的处理液自吐出口(41A)朝基板表面吐出。流路(44)包括：壁面的至少一部分为亲水性的亲水性流路、及第二配管流路(442)。在将处理液吐出配管(41)安装于基板处理装置的状态下，第二配管流路(442)相对于铅垂方向而倾斜，且使上游侧的端部高于下游侧的端部。
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公开(公告)号：CN112017994B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202010457046.1
申请日：2020-05-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/306
Abstract: 本发明的提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置通过第一供给配管供给稀释用液，通过第二供给配管供给药液。通过调整部调整流过第一供给配管的稀释用液的流量。在混合罐中对通过第一供给配管供给的稀释用液和通过第二供给配管供给的药液进行混合。通过浓度计测量稀释用液和药液的混合液中的药液的浓度。通过控制部决定稀释用液的流量的修正量以便通过浓度计测量的浓度成为设定值，将所决定的修正量提供给调整部。调整部根据所提供的修正量，修正流过第一供给配管的稀释用液的流量。
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公开(公告)号：CN115023793A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202080095099.1
申请日：2020-12-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明为同时实现基板上表面上的环境气体控制与降低对基板上表面施行的处理的不均，使基板由保持部保持为水平姿势，从位于与该基板上表面呈相对向的状态的环境气体控制构件朝基板上表面上供给非活性气体，并一边使保持部以沿铅垂方向的虚拟旋转轴为中心进行旋转，一边从液体吐出部的吐出口朝沿基板上表面的方向吐出处理液，从而将处理液供给至基板上表面上。此时，变更从处理液供给源朝液体吐出部供给的处理液每单位时间的供给量，而使从液体吐出部所吐出的处理液的吐出速度变化，从而使基板上表面中被供给有从液体吐出部吐出的处理液的液体供给位置变化。
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公开(公告)号：CN110262198A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201910151440.X
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/42
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)利用处理液(L)处理基板(W)。基板处理装置(100)具有喷出喷嘴(130)和供给部(140)。喷出喷嘴(130)具有喷出口(132)和喷出流路(134)。喷出口(132)向基板(W)喷出处理液(L)。喷出流路(134)与喷出口(132)相连。供给部(140)与喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)相连。喷出流路(134)的至少一部分由石英形成。供给部(140)具有第一供给流路(141)和第二供给流路(142)。第一供给流路(141)使处理液(L)的第一成分液(L1)向喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)流动。第二供给流路(142)使处理液(L)的第二成分液(L2)向喷出喷嘴(130)的喷出流路(134)流动。
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公开(公告)号：CN114695188A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111586967.9
申请日：2021-12-23
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种有效清洗多联阀的基板处理装置、清洗单元、以及多联阀清洗方法。该基板处理装置具备：罐，其用于供给药液；多联阀，其能够选择性地供给多种处理液；以及处理液喷嘴，其使用从多联阀供给的处理液对基板进行处理，而且，能够在用于对基板进行处理的基板处理模式和至少用于清洗多联阀的清洗模式进行切换，在清洗模式下，在不经由处理液喷嘴而经由罐和多联阀的路径、即清洗路径中，从罐向多联阀供给药液。
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公开(公告)号：CN113745128A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202110590165.9
申请日：2021-05-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种抑制因混合液中的气泡引起的不良产生的技术。基板处理方法包括保持工序(S1)、混合液供给工序(S5)、以及置换工序(S8)。在保持工序(S1)中，保持基板。在混合液供给工序(S5)中，将含有水的处理液以及异丙醇分别经由第一供给管以及第二供给管向混合管供给，将混合了处理液以及异丙醇的混合液经由混合管从喷嘴向基板喷出。在置换工序(S8)中，在混合液供给工序(S5)之后，供给作为处理液以及异丙醇中任一方的置换液，利用置换液将混合管中的混合液推出且使其从喷嘴喷出，来将混合液置换为置换液。
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公开(公告)号：CN111489955A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201911395272.5
申请日：2019-12-30
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理中，向被保持为水平状态的基板(9)的上表面(91)供给第一处理液，形成覆盖整个上表面(91)的第一处理液的液膜(81)。另外，对基板(9)进行加热，在上表面(91)上的第一处理液的液膜(81)与上表面(91)之间形成第一处理液的蒸气层(82)。然后，通过向基板(9)的上表面(91)供给第二处理液，从上表面(91)去除第一处理液的液膜(81)。由此，能够将随着蒸气层(82)的形成而进入第一处理液的液膜(81)的异物(89)从基板(9)的上表面(91)合适地去除。
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