半导体装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN115116978B

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN202110830262.0

    申请日:2021-07-22

    Abstract: 实施方式提供可靠性高的半导体装置。实施方式的半导体装置具备:安装基板,设置有第一电极焊盘及第二电极焊盘;半导体元件,设置于安装基板上,具有支承基板、设置于支承基板的朝向安装基板的面的第三电极焊盘及设置于支承基板的朝向安装基板的面的第四电极焊盘,在支承基板和第三电极焊盘上设置有第一狭缝,在支承基板和第四电极焊盘上设置有第二狭缝;第一导电性接合剂,将第一电极焊盘和第三电极焊盘连接;以及第二导电性接合剂,将第二电极焊盘和第四电极焊盘连接。

    半导体装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115116978A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202110830262.0

    申请日:2021-07-22

    Abstract: 实施方式提供可靠性高的半导体装置。实施方式的半导体装置具备:安装基板,设置有第一电极焊盘及第二电极焊盘;半导体元件,设置于安装基板上,具有支承基板、设置于支承基板的朝向安装基板的面的第三电极焊盘及设置于支承基板的朝向安装基板的面的第四电极焊盘,在支承基板和第三电极焊盘上设置有第一狭缝,在支承基板和第四电极焊盘上设置有第二狭缝;第一导电性接合剂,将第一电极焊盘和第三电极焊盘连接;以及第二导电性接合剂,将第二电极焊盘和第四电极焊盘连接。

    半导体装置
    6.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117542854A

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202310134243.3

    申请日:2023-02-20

    Abstract: 实施方式提供提高高频信号的传送特性的半导体装置。实施方式所涉及的半导体装置具有:基板;第1元件及第2元件,分别设置于所述基板的第1面上,并分别具有第1端子、第2端子及栅极;发光元件;受光元件,与所述发光元件的发光状态相应地,将所述第1元件及所述第2元件设为接通状态或断开状态;以及第1布线,将所述第1元件的所述第1端子与所述第2元件的所述第1端子电连接,所述第1布线是片状的导电体。

    半导体封装体
    7.
    发明公开
    半导体封装体 审中-实审

    公开(公告)号:CN115831949A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202210155555.8

    申请日:2022-02-21

    Abstract: 实施方式提供一种降低了寄生电容的高性能的半导体封装体(1)。实施方式的半导体封装体(1)具有:PDA芯片(10);MOS芯片(20);以及配线板(30),在第1主面(30SA),具有使用非导电性粘接剂(15)固定着PDA芯片(10)的非导电性的第1刚性板(11)和焊料接合着上述MOS芯片(20)的下表面端子(25)的导电性的第2刚性板(34),在第2主面(30SB),具有与上述PDA芯片(10)电连接的输入端子(33)以及与上述第2刚性板(34)电连接的输出端子(36)。

    半导体装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109509742A

    公开(公告)日:2019-03-22

    申请号:CN201810082594.3

    申请日:2018-01-29

    Inventor: 刀祢馆达郎

    Abstract: 实施方式提供一种能够实现散热性的提高的半导体装置。实施方式的半导体装置具备:半导体芯片;金属板;绝缘基板,设在半导体芯片与金属板之间,具有第1金属层、第2金属层、和第1金属层与第2金属层之间的绝缘层,第2金属层具备具有第1膜厚的第1区域、具有第2膜厚的第2区域、具有比第1膜厚及第2膜厚厚的第3膜厚的第3区域,第3区域位于第1区域与第2区域之间;以及焊料层,设在第2金属层与金属板之间。

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