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公开(公告)号：CN1624208A
公开(公告)日：2005-06-08
申请号：CN200410096554.2
申请日：2004-11-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C25D7/12 , C25D5/18 , H01L21/768 , H01L21/00
CPC classification number: C25D7/123 , C25D17/001 , C25D17/002 , C25D17/10 , C25D21/00 , H01L21/2885 , H01L21/76877
Abstract: 根据本发明的一个实施例，提供一种电镀装置，包括：贮存电镀溶液的电镀溶液槽；在电镀溶液槽中固定其上形成籽晶层的衬底的固定器；放在电镀溶液槽中的第一阳极，该第一阳极由氧化－还原电位比构成籽晶层的金属的氧化－还原电位更高的阳极金属构成，并且电连接到由固定器固定的衬底的籽晶层上；以及放在所述电镀溶液槽中的第二阳极，该第二阳极能够在由固定器固定的衬底的籽晶层之间施加电压。
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公开(公告)号：CN102194984A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110042922.5
申请日：2011-02-18
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: H05B33/145 , H01L33/504 , H01L2224/32245 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2224/73265 , H01L2933/0041 , H05B33/10 , Y10T29/41 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 根据一个实施方案，发光装置包括壳体部件、设置于壳体部件中的发光元件、第一发光体层和第二发光体层。所述第一发光体层设置于所述发光元件上并含有第一发光体。第二发光体层设置于所述第一发光体层上并含有第二发光体。所述第一发光体的发光效率高于所述第二发光体的发光效率。
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公开(公告)号：CN101622076A
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200880006435.X
申请日：2008-02-27
CPC classification number: H01L21/67028 , B05D3/105 , G02F1/1303 , H01L21/6715 , H01L21/6776
Abstract: 在涂布装置(1)中，包括：液滴喷射部，所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴，在涂布对象物(2)上涂布液滴；重新润湿干燥部(6)，所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂，形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体，使形成的第二溶液涂布体干燥。
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公开(公告)号：CN100342062C
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200410096554.2
申请日：2004-11-30
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C25D7/12 , C25D5/18 , H01L21/768 , H01L21/00
CPC classification number: C25D7/123 , C25D17/001 , C25D17/002 , C25D17/10 , C25D21/00 , H01L21/2885 , H01L21/76877
Abstract: 根据本发明的一个实施例，提供一种电镀装置，包括：贮存电镀溶液的电镀溶液槽；在电镀溶液槽中固定其上形成籽晶层的衬底的固定器；放在电镀溶液槽中的第一阳极，该第一阳极由氧化-还原电位比构成籽晶层的金属的氧化-还原电位更高的阳极金属构成，并且电连接到由固定器固定的衬底的籽晶层上；以及放在所述电镀溶液槽中的第二阳极，该第二阳极能够在由固定器固定的衬底的籽晶层之间施加电压。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101622076B
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN200880006435.X
申请日：2008-02-27
CPC classification number: H01L21/67028 , B05D3/105 , G02F1/1303 , H01L21/6715 , H01L21/6776
Abstract: 在涂布装置(1)中，包括：液滴喷射部，所述液滴喷射部向涂布对象物(2)喷射第一溶液的液滴，在涂布对象物(2)上涂布液滴；重新润湿干燥部(6)，所述重新润湿干燥部(6)赋予涂布到涂布对象物(2)上的第一溶液残留物能够溶解残留物的溶剂，形成作为溶质包含残留物的第二溶液的涂布体，使形成的第二溶液涂布体干燥。
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公开(公告)号：CN101284447B
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200710185787.3
申请日：2007-12-26
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B41J2/162 , B41J2/1433 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供一种喷嘴板，其特征在于，包括：第1硅层；玻璃层；设置在所述第1硅层与所述玻璃层之间、并与所述玻璃层接合的第2硅层；以及设置在所述第1硅层与所述第2硅层之间的氧化硅层，该喷嘴板形成有：贯通所述第1硅层并喷出液滴的喷嘴孔；贯通所述氧化硅层及所述第2硅层、并与所述喷嘴孔连通的流路；以及形成在所述玻璃层上并与所述流路连通的液室。
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公开(公告)号：CN110294457B
公开(公告)日：2023-02-21
申请号：CN201910202536.4
申请日：2019-03-18
Applicant: 株式会社东芝 , 迪诺拉永久电极股份有限公司
IPC: C01B3/52 , C25B1/04 , C25B15/00 , C25B15/08 , H01M8/0656
Abstract: 本发明提供将电解中使用的水溶液的溶质成分有效地除去的洗涤器、氢制造装置及供电系统。洗涤器是从对水溶液进行电解而获得的氢气中将所述水溶液的溶质成分除去的洗涤器。所述洗涤器具备：所述氢气流入、排出所述氢气的壳体；配置在所述壳体内、形成有贯穿孔的隔板；以及通过所述隔板、将经冷却的洗涤液作为液流供给至所述壳体内的所述氢气中的洗涤液供给机构。
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公开(公告)号：CN110294457A
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201910202536.4
申请日：2019-03-18
Applicant: 株式会社东芝 , 迪诺拉永久电极股份有限公司
IPC: C01B3/52 , C25B1/04 , C25B15/00 , H01M8/0656
Abstract: 本发明提供将电解中使用的水溶液的溶质成分有效地除去的洗涤器、氢制造装置及供电系统。洗涤器是从对水溶液进行电解而获得的氢气中将所述水溶液的溶质成分除去的洗涤器。所述洗涤器具备：所述氢气流入、排出所述氢气的壳体；配置在所述壳体内、形成有贯穿孔的隔板；以及通过所述隔板、将经冷却的洗涤液作为液流供给至所述壳体内的所述氢气中的洗涤液供给机构。
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公开(公告)号：CN101284447A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200710185787.3
申请日：2007-12-26
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B41J2/162 , B41J2/1433 , B41J2/1628 , B41J2/1629 , B41J2/1631 , B41J2/1632 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2/1645 , B41J2/1646 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明提供一种喷嘴板，其特征在于，包括：第1硅层；玻璃层；设置在所述第1硅层与所述玻璃层之间、并与所述玻璃层接合的第2硅层；以及设置在所述第1硅层与所述第2硅层之间的氧化硅层，该喷嘴板形成有：贯通所述第1硅层并喷出液滴的喷嘴孔；贯通所述氧化硅层及所述第2硅层、并与所述喷嘴孔连通的流路；以及形成在所述玻璃层上并与所述流路连通的液室。
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