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公开(公告)号：CN118910686A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411172030.0
申请日：2024-08-26
申请人： 昆山弗莱吉电子科技有限公司
摘要： 本发明属于玻璃作为封装载板的电镀技术领域，具体涉及玻璃基封装载板电镀填孔整平剂、电镀液及电镀填孔方法。所述玻璃基封装载板电镀填孔整平剂为聚季铵盐，该聚季铵盐为四氯甲基甲烷与含叔胺结构的醚的交替共聚物。本发明有利于在孔填满的同时，还能将面铜控制在较薄的厚度，填孔性能优越，利于后续的精细线路制作，且能使面铜更为均匀。
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公开(公告)号：CN115369458B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202110544896.X
申请日：2021-05-19
申请人： 南京理工大学
摘要： 本发明公开了一种基于甲基磺酸铜电解液体系电沉积纳米晶纯铜的方法。所述方法采用的电解液为甲基磺酸铜300g/L、一级络合剂四乙酸二氨基乙烯40～80g/L、二级络合剂氮基三乙酸10～20g/L、导电盐硝酸铵15g/L、表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵2g/L、余量为去离子水，氨水调节pH值至8～9。采用所述的电解液在铜板电沉积，得到的纯铜光滑、无裂纹，晶粒尺寸达30～200nm，通过调整电解液组分浓度的可实现对纳米晶粒尺寸的调控。
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公开(公告)号：CN118756269A
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202410917218.7
申请日：2024-07-10
申请人： 合肥国轩高科动力能源有限公司
IPC分类号： C25D3/56 , C25D5/18 , H01M4/1395 , H01M4/38 , H01M10/054
摘要： 本发明公开了一种锌锑铁钴镍合金及其制备方法与应用，属于钠离子电池材料技术领域。利用步骤简单的脉冲电沉积方法制备出锌锑铁钴镍五元合金，最大化利用溶液中的金属离子，通过调节金属离子类型和浓度制备出不同成分和组分的锌锑铁钴镍五元合金；不同电压的交替沉积可改变不同金属离子的沉积速率同时产生更多的活性位点，制备出球状均匀堆积的颗粒，增加合金材料的比表面积，在钠离子电池中有利于钠离子的嵌入和脱出。锌锑铁钴镍五元合金作为钠离子电池负极时，其中的活性金属提供储钠容量，非活性金属在钠离子的移动过程中稳定微观结构，以增加其循环稳定性。
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公开(公告)号：CN118727079A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410831668.4
申请日：2024-06-26
申请人： 贵州大学 , 贵州航天电器股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种高耐蚀性的双向脉冲镀镍的方法，属于金属表面处理技术领域。本发明采用双向脉冲的电镀方法，在含镍元素的电镀液中对金属材料进行施镀；所述施镀中双脉冲镀镍工艺参数为：施镀温度为55±5℃；正向脉冲峰值电流密度范围为：0.1～1.5A/dm2；反向脉冲峰值电流密度范围为：0.025～0.75A/dm2；频率范围为50～2000Hz；占空比设定为2～80％，施镀时间2～8min。本发明提供的方法能够细化镍镀层的晶粒，实现镍镀层的均一性，实现镍镀层的高耐蚀性和良好均镀能力。
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公开(公告)号：CN118727032A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410913552.5
申请日：2024-07-09
申请人： 沈阳理工大学
发明人： 吕逍
IPC分类号： C25B11/089 , C25B1/04 , C25D3/56 , C25D5/00 , C25D5/18
摘要： 本发明属于电极材料技术领域，提供了一种高熵合金电极、制备方法及其应用，一种高熵合金电极制备方法包括如下步骤，S1.调配高熵合金涂层的电沉积溶液；S2.将步骤S1中所述的电沉积溶液调配pH值后，进行加热；S3.取电极基体，并将该电极基体材料放入到步骤S2中所得到的电沉积溶液中，调控电沉积参数和磁场强度后进行电沉积，最终得到高熵合金电极。高熵合金电极，包括电极基体以及附着在所述电极基体上的高熵合金，所述高熵合金包括：Fe、Co、Ni、Mn和Cr。本发明通过磁场调控金属元素在电沉积过程中的沉积速度，从而解决由于不同金属元素的标准电极电势差异大导致的电沉积过程中多金属元素无法实现共同沉积的问题。
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公开(公告)号：CN115787011B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202211626625.X
申请日：2022-12-16
申请人： 西北有色金属研究院
IPC分类号： C25D3/52 , C25D5/18 , C25D5/38 , C25B11/081 , C25B11/052 , C25B11/063 , C25B1/04
摘要： 本发明公开了一种电解水制氢用钛集电器表面制备铂涂层的电镀液，由二亚硝基二氨铂、氨基磺酸、柠檬酸、磷酸氢二钠、十二烷基磺酸钠溶解于去离子水后用氨水调节pH制得；本发明的电镀方法包括：一、脱脂；二、蚀刻；三、抽滤吹干；四、大电流瞬时冲击电镀在钛集电器表面得到均匀铂形核；五、继续电镀形成均匀薄铂涂层。本发明的电镀液通过调控主盐与各辅盐的配比，使得电镀液具备较强的均镀能力与深镀能力，从而钛集电器的各类孔隙中铂涂层的均匀性得到了提高；本发明采用大电流瞬时冲击电镀在钛集电器表面及孔隙内形成均匀点状铂形核，并继续电镀形成均匀薄铂涂层，不仅提高了铂涂层致密度，还控制了铂涂层的厚度与均匀性。
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公开(公告)号：CN118621394A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410898487.3
申请日：2024-07-05
申请人： 南雄市溢诚化工有限公司
摘要： 本发明公开了一种应用于电路板的脉冲电镀铜溶液，包括以下质量浓度的组分：硫酸铜50‑90g/L、加速剂100‑200mg/L、复合整平剂45‑90mg/L、润湿剂15‑45mg/L、防折镀剂20‑50mg/L、络合剂60‑100g/L、复合光亮剂30‑90mg/L，余量为去离子水。该电镀铜液为中性镀液，且不含有氯离子，不仅适用于低端产品，对高端产品如载板甚至芯片均适用，得到铜镀层平整度高，致密性优异，孔厚径比为10‑20:1的深镀能力达到100‑120％。
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公开(公告)号：CN118600502A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410694743.7
申请日：2024-05-31
申请人： 强一半导体(上海)有限公司
摘要： 本发明属于MEMS研发工艺技术领域，具体涉及一种在深坑结构内电镀铑的方法及应用。所述方法是指具有深宽比在2:1以上的深坑结构，采用脉冲电流电镀，所述脉冲电流包括超低恒流段和三角波形段，所述超低恒流段的电流密度低于所述三角波形段的电流密度，所述三角波形段的电流密度低于1.0ASD。所述应用为在电子器件上电镀铑，所述电子器件包括设有上述深坑结构的基体、设置在基体表面的铜镀层以及采用上述在深坑结构内电镀铑的方法在铜镀层至少部分表面电镀的铑镀层。本发明提供的技术方案可以实现在高深宽比结构内沉积致密、无缺陷、高厚度的光亮铑镀层，大大提升了器件的使用寿命。
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公开(公告)号：CN118563378A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410450821.9
申请日：2024-04-15
申请人： 中国人民解放军陆军装甲兵学院
摘要： 本发明提供一种三价铬铁合金镀液及镀层的制备工艺，镀液的制备工艺包括如下步骤：将聚羧酸、尿素和硫酸钾分别按预设含量加入去离子水中以形成第一溶液；将第一溶液放置到水浴加热锅中，水温调至50℃～60℃，搅拌加热2～3小时；向加热完成的第一溶盐中加入硫酸铬钾，并以相同的温度搅拌加热2～3小时，以形成第二溶液；步骤S104，对第二溶液进行电解，电解电流密度小于5A/dm2，电解时间应不少于8小时；将硫酸亚铁加入至电解后的第二溶液中以形成电镀液；其中，电镀液的温度为45℃‑55℃。本发明的一个技术效果在于，实现了对三价铬铁合金镀层的成分和性能的连续调控，有效地解决了三价铬镀层韧性较差的难题。
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公开(公告)号：CN118497851A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410431820.X
申请日：2024-04-11
申请人： 南京信息工程大学
摘要： 本发明公开了一种表面改性金属泡沫材料的制备方法及其应用，所述金属泡沫材料表面依次经历循环伏安法电沉积和硬脂酸乙醇溶液浸泡处理，所述循环伏安法施加的电压范围为‑1.2V～0.2V，扫速为4～6mV/s，循环10～30次；所述电沉积电解液由过渡金属盐和硫脲组成，所述电解液中过渡金属离子浓度不大于0.06mol/L，过渡金属离子和硫脲的摩尔比为1:10～1:20，所述硬脂酸质量浓度为0.15～0.3％。利用循环伏安法在在金属泡沫表面沉积形成粗糙结构，然后浸入硬脂酸溶液中，降低表面能，经表面改性处理的金属泡沫材料，具有优良的超疏水性能，可用于油水分离。
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