燃料电池
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101223662A

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200680018518.1

    申请日:2006-05-26

    Abstract: 如本发明所述的燃料电池包括:燃料供给部分,其包括为了使由燃料供给口供给的燃料在平面内方向上扩散而设置的扩散部分和为了将来自扩散部分的燃料放出而设置的具有多个开口的开口板;为了从外部导入氧气而设置的氧气导入部分;和为了通过由燃料供给部分供给的燃料和由氧气导入部分供给的氧气发电而设置的发电部分,设置在开口板上的多个开口的开口率具有在平面内方向上基本上放射状的分布,以使得在燃料供给口附近的开口率小,并且随离燃料供给口的距离而增大。这使得能够提供其中燃料可以均匀供给,从而达到有效的发电的自发呼吸型燃料电池。

    基座、成膜装置及成膜方法

    公开(公告)号:CN101944479A

    公开(公告)日:2011-01-12

    申请号:CN201010220837.9

    申请日:2010-07-01

    CPC classification number: H01L21/68785 C23C16/4586 H01L21/68735

    Abstract: 本发明提供一种基座、成膜装置及成膜方法。根据本实施方式,基座具有:环状的第1基座部,支承硅晶片的外周部;和第2基座部,与第1基座部的外周部相接设置,并遮挡第1基座部的开口部分。第2基座部被配置成为在硅晶片被支承在第1基座部上的状态下,使第2基座部与硅晶片之间形成预定间隔H的间隙,并且被配置成为在第2基座部与第1基座部之间也形成与上述间隙相连续的、而且间隔与预定间隔实质上相同的间隙。

    刻印单元、成形装置、成形系统、管理系统及刻印方法

    公开(公告)号:CN117484787A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202310622255.0

    申请日:2023-05-30

    Inventor: 东真也

    Abstract: 本发明的实施方式涉及刻印单元、成形装置、成形系统、管理系统及刻印方法。本发明所要解决的课题在于提供搭载于成形模具并且能够以简单的结构重置所刻印的刻印信息的刻印单元。另外,提供具备该刻印单元的成形装置、成形系统和管理系统以及使用该刻印单元的刻印方法。根据实施方式,刻印单元具备刻印基板、多个刻印销及重置销。刻印基板配置于可动模。多个刻印销分别能够沿着可动模的开闭方向相对于刻印基板移动,能够向刻印位置及非刻印位置移动,非刻印位置是从刻印位置向与固定模所在的一侧相反的一侧移动的位置。重置销与顶推板的移动连动地沿着开闭方向移动,通过从与固定模所在的一侧相反的一侧按压刻印基板来朝向刻印位置按压多个刻印销。

    图像分析装置和图像分析方法

    公开(公告)号:CN105596021B

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201510796072.6

    申请日:2015-11-18

    Abstract: 本申请涉及图像分析装置和图像分析方法。根据一种实施例,图像分析装置包含第一获取器、构造器、第一计算器、第二计算器和第三计算器。第一获取器被配置为获取有关被摄体的关节以及与该关节连接的骨骼的图像信息。构造器被配置为根据图像信息来构造骨骼和关节的三维形状以及骨骼和关节中的负荷和形变之间的关系特性。第一计算器被配置为计算连接于关节的骨骼之间的位置关系。第二计算器被配置为基于该位置关系来计算肌肉作用于与关节连接的骨骼上的作用力。第三计算器被配置为基于三维形状、关系特性和作用力来计算作用于关节上的第一应力。

    管理装置、管理方法及存储介质
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118219515A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202311426401.9

    申请日:2023-10-31

    Abstract: 本发明的实施方式提供管理装置、管理方法及存储介质。管理装置具备运算部和显示控制部。运算部基于与零件的生产相关的两个以上的参数和与已生产的零件的品质相关的评价值的信息,运算表示品质和参数的关联的预测式,并根据预测式运算参数的最佳值。显示控制部使显示装置显示表示预测式和最佳值的关系的图表。

    基座、成膜装置及成膜方法

    公开(公告)号:CN101944479B

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201010220837.9

    申请日:2010-07-01

    CPC classification number: H01L21/68785 C23C16/4586 H01L21/68735

    Abstract: 本发明提供一种基座、成膜装置及成膜方法。根据本实施方式,基座具有:环状的第1基座部,支承硅晶片的外周部;和第2基座部,与第1基座部的外周部相接设置,并遮挡第1基座部的开口部分。第2基座部被配置成为在硅晶片被支承在第1基座部上的状态下,使第2基座部与硅晶片之间形成预定间隔H的间隙,并且被配置成为在第2基座部与第1基座部之间也形成与上述间隙相连续的、而且间隔与预定间隔实质上相同的间隙。

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