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公开(公告)号:CN116964407A
公开(公告)日:2023-10-27
申请号:CN202280018290.5
申请日:2022-02-28
Applicant: 株式会社东京精密
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明提供能够管理颗粒产生量的颗粒计测装置、三维形状测定装置、探测装置、颗粒计测系统以及颗粒计测方法。具备:取得部(252),其取得表示包含探针(141)碰触的探针迹的电极焊盘(P)的表面形状的焊盘表面形状数据;检知部(253),其基于焊盘表面形状数据,检知成为颗粒的计测的基准的焊盘基准面(R);凹凸计算部(254),其基于焊盘表面形状数据,计算电极焊盘(P)的表面形状中的从焊盘基准面(R)凹陷的凹部的体积(VMR)、及从焊盘基准面(R)突出的凸部的体积(VMP);以及颗粒产生量计算部(255),其根据凹部的体积(VMR)与凸部的体积(VMP)的体积差来计算颗粒产生量。
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