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公开(公告)号：CN110062818B
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN201780076683.0
申请日：2017-09-05
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/455 , H01L21/68 , H01L21/687 , H01L21/02
Abstract: 一种组件在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用并且包括从中心轴延伸的基座。致动器配置用于控制基座的运动。中心轴在致动器和基座之间延伸，中心轴配置成沿着中心轴线移动基座。升降垫被配置为搁置在基座上并且具有垫顶表面，该垫顶表面被配置为支撑放置在其上的晶片。垫轴在致动器和升降垫之间延伸并控制升降垫的运动。垫轴定位在中心轴内，并且被配置成当基座处于向上位置时将升降垫与基座顶表面分离处理旋转位移。垫轴配置成在第一和第二角度方位之间相对于基座顶表面旋转。
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公开(公告)号：CN110062816B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201780076693.4
申请日：2017-10-11
Applicant: 朗姆研究公司
Abstract: 一种在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用的组件。基座组件包括能移动地安装在主框架上的基座。升降垫搁置在所述基座的基座顶表面上并与所述基座组件一起移动。升高机构将所述升降垫与所述基座分离，并且包括：固定在主框架上的硬止动件；附接在所述基座组件上的辊；能移动地附接到所述基座组件上的滑动件；互连到所述滑动件上并且互连到从所述升降垫延伸的垫轴上的升降垫支架；和能旋转地附接到所述升降垫支架上的杆。所述杆当不与所述上硬止动件接合时，搁置在所述辊上。当所述基座组件向上移动时，所述杆在与所述上硬止动件和辊接合时绕销旋转，并将所述升降垫与所述基座顶表面分离处理旋转位移。
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公开(公告)号：CN108091592A
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：CN201711022418.2
申请日：2017-10-27
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 帕特里克·布赖林格 , 拉梅什·钱德拉斯哈兰 , 卡尔·利瑟 , 保罗·孔科拉 , 阿德里安·拉沃伊 , 克洛伊·巴尔达赛罗尼 , 尚卡·斯瓦米纳坦 , 伊斯达克·卡里姆 , 崎山幸则 , 艾德蒙·明歇尔 , 金宋杰 , 安德鲁·杜瓦尔 , 弗兰克·帕斯夸里
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/68785 , H01J37/32082 , H01J37/32715 , H01J2237/334 , H01L21/67017 , H01L21/68735 , H01L21/68742 , H01L21/68757 , H01L21/67011 , H01L21/67207
Abstract: 本发明提供了平坦衬底边缘与开放体积接触的平衡途径和侧封，具体提供了用于衬底处理系统的基座，其包括具有面向衬底的表面的基座主体。环形带布置在面向衬底的表面上，该表面构造成支撑衬底的径向外边缘。腔被限定在基座主体的面向衬底的表面中并且位于环形带的径向内侧。腔在衬底的底表面和基座主体的面向衬底的表面之间产生体积。多个排气孔通过基座主体并且与腔流体连通，以在处理期间使衬底的相对面上的压力平衡。
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公开(公告)号：CN117038508A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202310975492.5
申请日：2017-10-27
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 帕特里克·布赖林格 , 拉梅什·钱德拉斯哈兰 , 卡尔·利瑟 , 保罗·孔科拉 , 阿德里安·拉沃伊 , 克洛伊·巴尔达赛罗尼 , 尚卡·斯瓦米纳坦 , 伊斯达克·卡里姆 , 崎山幸则 , 艾德蒙·明歇尔 , 金宋杰 , 安德鲁·杜瓦尔 , 弗兰克·帕斯夸里
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供了平坦衬底边缘与开放体积接触的平衡途径和侧封，具体提供了用于衬底处理系统的基座，其包括具有面向衬底的表面的基座主体。环形带布置在面向衬底的表面上，该表面构造成支撑衬底的径向外边缘。腔被限定在基座主体的面向衬底的表面中并且位于环形带的径向内侧。腔在衬底的底表面和基座主体的面向衬底的表面之间产生体积。多个排气孔通过基座主体并且与腔流体连通，以在处理期间使衬底的相对面上的压力平衡。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114121769A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202110945833.5
申请日：2017-10-11
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23C16/458
Abstract: 一种在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用的组件。基座组件包括能移动地安装在主框架上的基座。升降垫搁置在所述基座的基座顶表面上并与所述基座组件一起移动。升高机构将所述升降垫与所述基座分离，并且包括：固定在主框架上的硬止动件；附接在所述基座组件上的辊；能移动地附接到所述基座组件上的滑动件；互连到所述滑动件上并且互连到从所述升降垫延伸的垫轴上的升降垫支架；和能旋转地附接到所述升降垫支架上的杆。所述杆当不与所述上硬止动件接合时，搁置在所述辊上。当所述基座组件向上移动时，所述杆在与所述上硬止动件和辊接合时绕销旋转，并将所述升降垫与所述基座顶表面分离处理旋转位移。
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公开(公告)号：CN110062818A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201780076683.0
申请日：2017-09-05
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/455 , H01L21/68 , H01L21/687 , H01L21/02
Abstract: 一种组件在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用并且包括从中心轴延伸的基座。致动器配置用于控制基座的运动。中心轴在致动器和基座之间延伸，中心轴配置成沿着中心轴线移动基座。升降垫被配置为搁置在基座上并且具有垫顶表面，该垫顶表面被配置为支撑放置在其上的晶片。垫轴在致动器和升降垫之间延伸并控制升降垫的运动。垫轴定位在中心轴内，并且被配置成当基座处于向上位置时将升降垫与基座顶表面分离处理旋转位移。垫轴配置成在第一和第二角度方位之间相对于基座顶表面旋转。
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公开(公告)号：CN108091592B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN201711022418.2
申请日：2017-10-27
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 帕特里克·布赖林格 , 拉梅什·钱德拉斯哈兰 , 卡尔·利瑟 , 保罗·孔科拉 , 阿德里安·拉沃伊 , 克洛伊·巴尔达赛罗尼 , 尚卡·斯瓦米纳坦 , 伊斯达克·卡里姆 , 崎山幸则 , 艾德蒙·明歇尔 , 金宋杰 , 安德鲁·杜瓦尔 , 弗兰克·帕斯夸里
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供了平坦衬底边缘与开放体积接触的平衡途径和侧封，具体提供了用于衬底处理系统的基座，其包括具有面向衬底的表面的基座主体。环形带布置在面向衬底的表面上，该表面构造成支撑衬底的径向外边缘。腔被限定在基座主体的面向衬底的表面中并且位于环形带的径向内侧。腔在衬底的底表面和基座主体的面向衬底的表面之间产生体积。多个排气孔通过基座主体并且与腔流体连通，以在处理期间使衬底的相对面上的压力平衡。
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公开(公告)号：CN113846314A
公开(公告)日：2021-12-28
申请号：CN202110916287.2
申请日：2017-09-05
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/50 , H01L21/02 , H01L21/68 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 一种组件在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用并且包括从中心轴延伸的基座。致动器配置用于控制基座的运动。中心轴在致动器和基座之间延伸，中心轴配置成沿着中心轴线移动基座。升降垫被配置为搁置在基座上并且具有垫顶表面，该垫顶表面被配置为支撑放置在其上的晶片。垫轴在致动器和升降垫之间延伸并控制升降垫的运动。垫轴定位在中心轴内，并且被配置成当基座处于向上位置时将升降垫与基座顶表面分离处理旋转位移。垫轴配置成在第一和第二角度方位之间相对于基座顶表面旋转。
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公开(公告)号：CN110062816A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201780076693.4
申请日：2017-10-11
Applicant: 朗姆研究公司
Abstract: 一种在用于在晶片上沉积膜的处理室中使用的组件。基座组件包括能移动地安装在主框架上的基座。升降垫搁置在所述基座的基座顶表面上并与所述基座组件一起移动。升高机构将所述升降垫与所述基座分离，并且包括：固定在主框架上的硬止动件；附接在所述基座组件上的辊；能移动地附接到所述基座组件上的滑动件；互连到所述滑动件上并且互连到从所述升降垫延伸的垫轴上的升降垫支架；和能旋转地附接到所述升降垫支架上的杆。所述杆当不与所述上硬止动件接合时，搁置在所述辊上。当所述基座组件向上移动时，所述杆在与所述上硬止动件和辊接合时绕销旋转，并将所述升降垫与所述基座顶表面分离处理旋转位移。
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