公开(公告)号：CN106433480A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201610843068.5

申请日：2011-12-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 太田宗宏 ,  田中孝明 ,  泷泽寿夫 ,  吉川茂 ,  松本贵彬 ,  吉川贵浩 ,  筱田隆

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3105

CPC classification number: H01L21/31055 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

Abstract: 一种研磨液，其包含氧化铈粒子、有机酸A、具有羧酸基或羧酸盐基的高分子化合物B以及水，其中，有机酸A为丙酸，有机酸A的含量相对于研磨液总质量为0.001～1质量％，高分子化合物B的含量相对于研磨液总质量为0.01～0.50质量％，所述研磨液的pH为4.0以上7.0以下。

公开(公告)号：CN103155112A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180048658.4

申请日：2011-12-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 太田宗宏 ,  田中孝明 ,  泷泽寿夫 ,  吉川茂 ,  松本贵彬 ,  吉川贵浩 ,  筱田隆

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/31055 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 一种研磨液，其包含氧化铈粒子、有机酸A、具有羧酸基或羧酸盐基的高分子化合物B以及水，其中，有机酸A具有从-COOM基、-Ph-OM基、-SO3M基以及-PO3M2基所组成的组中选择的至少一种基团，有机酸A的pKa小于9，有机酸A的含量相对于研磨液总质量为0.001～1质量%，高分子化合物B的含量相对于研磨液总质量为0.01～0.50质量%，所述研磨液的pH为4.0以上7.0以下。

公开(公告)号：CN111433311A

公开(公告)日：2020-07-17

申请号：CN201880077769.X

申请日：2018-10-01

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 高桥寿登 ,  花野真之 ,  泷泽寿夫

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 一种研磨液，含有：包含从由氧化铈和氧化硅构成的群中选出的至少一种的磨粒、含氮化合物和水，所述含氮化合物含有从由以下化合物构成的群中选出的至少一种：(I)具有环内含1个氮原子的芳香环和羟基的化合物、(II)具有环内含1个氮原子的芳香环和含氮原子的官能团的化合物、(III)具有环内含2个氮原子的6元环的化合物、(IV)具有苯环和环内含氮原子的环的化合物，以及(V)具有结合有2个以上含氮原子的官能团的苯环。

公开(公告)号：CN110998800A

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201780093904.5

申请日：2017-08-14

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 花野真之 ,  泷泽寿夫

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/14

Abstract: 一种研磨液，其为用于通过CMP除去基体的绝缘部的一部分、露出基体的停止部的CMP研磨液，该基体具备基板、设置在该基板的一个表面上的停止部和设置在停止部的与基板相反一侧的表面上的绝缘部，该研磨液含有：含铈的磨粒、非离子性的水溶性化合物A、具有选自羧酸基和羧酸盐基中的至少一种的高分子化合物B、根据情况含有的碱性pH调节剂和水，以研磨液的总质量为基准计，碱性pH调节剂的含量小于1.3×10-2mol/kg。

公开(公告)号：CN103155112B

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201180048658.4

申请日：2011-12-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 太田宗宏 ,  田中孝明 ,  泷泽寿夫 ,  吉川茂 ,  松本贵彬 ,  吉川贵浩 ,  筱田隆

IPC: H01L21/3105 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/31055 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 一种研磨液，其包含氧化铈粒子、有机酸A、具有羧酸基或羧酸盐基的高分子化合物B以及水，其中，有机酸A具有从‑COOM基、‑Ph‑OM基、‑SO3M基以及‑PO3M2基所组成的组中选择的至少一种基团，有机酸A的pKa小于9，有机酸A的含量相对于研磨液总质量为0.001～1质量%，高分子化合物B的含量相对于研磨液总质量为0.01～0.50质量%，所述研磨液的pH为4.0以上7.0以下。