公开(公告)号：CN106433480A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201610843068.5

申请日：2011-12-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 太田宗宏 ,  田中孝明 ,  泷泽寿夫 ,  吉川茂 ,  松本贵彬 ,  吉川贵浩 ,  筱田隆

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3105

CPC classification number: H01L21/31055 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

Abstract: 一种研磨液，其包含氧化铈粒子、有机酸A、具有羧酸基或羧酸盐基的高分子化合物B以及水，其中，有机酸A为丙酸，有机酸A的含量相对于研磨液总质量为0.001～1质量％，高分子化合物B的含量相对于研磨液总质量为0.01～0.50质量％，所述研磨液的pH为4.0以上7.0以下。

公开(公告)号：CN103155112A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180048658.4

申请日：2011-12-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 太田宗宏 ,  田中孝明 ,  泷泽寿夫 ,  吉川茂 ,  松本贵彬 ,  吉川贵浩 ,  筱田隆

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/31055 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 一种研磨液，其包含氧化铈粒子、有机酸A、具有羧酸基或羧酸盐基的高分子化合物B以及水，其中，有机酸A具有从-COOM基、-Ph-OM基、-SO3M基以及-PO3M2基所组成的组中选择的至少一种基团，有机酸A的pKa小于9，有机酸A的含量相对于研磨液总质量为0.001～1质量%，高分子化合物B的含量相对于研磨液总质量为0.01～0.50质量%，所述研磨液的pH为4.0以上7.0以下。

公开(公告)号：CN103155112B

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201180048658.4

申请日：2011-12-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 太田宗宏 ,  田中孝明 ,  泷泽寿夫 ,  吉川茂 ,  松本贵彬 ,  吉川贵浩 ,  筱田隆

IPC: H01L21/3105 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/31055 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 一种研磨液，其包含氧化铈粒子、有机酸A、具有羧酸基或羧酸盐基的高分子化合物B以及水，其中，有机酸A具有从‑COOM基、‑Ph‑OM基、‑SO3M基以及‑PO3M2基所组成的组中选择的至少一种基团，有机酸A的pKa小于9，有机酸A的含量相对于研磨液总质量为0.001～1质量%，高分子化合物B的含量相对于研磨液总质量为0.01～0.50质量%，所述研磨液的pH为4.0以上7.0以下。