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公开(公告)号：CN100375914C
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200410102355.8
申请日：2004-09-30
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/3584 , B81B3/0083 , B81B2201/045 , B81C1/00182 , G02B6/122 , G02B6/136 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3596 , G02B26/0841
Abstract: 本发明涉及微光学装置。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。
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公开(公告)号：CN101004478A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200710003929.X
申请日：2004-09-30
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/3584 , B81B3/0083 , B81B2201/045 , B81C1/00182 , G02B6/122 , G02B6/136 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3596 , G02B26/0841
Abstract: 本发明涉及微光学装置制造方法。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。
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公开(公告)号：CN100474029C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200710003929.X
申请日：2004-09-30
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/3584 , B81B3/0083 , B81B2201/045 , B81C1/00182 , G02B6/122 , G02B6/136 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3596 , G02B26/0841
Abstract: 本发明涉及微光学装置制造方法。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。
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公开(公告)号：CN100422789C
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200610073838.9
申请日：2006-03-31
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
Inventor： 吉田惠
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584 , G02B6/359 , G02B26/0833
Abstract: 为了实现监测运动部件的机械响应特性的MEMS器件，以便无需改变现有的控制输入且不添加任何组件来检测严重故障的预兆，提供了：振动探测装置80，用于探测在双状态之一中在运动部件60中激励的微振动；动态特性分析单元，在来自探测的输出的基础上分析运动部件60的动态特性；存储器100，存储所分析的数据；运算单元110，检索所存储的数据，比较时域上相继的两条数据并计算所述两条数据之间的差异信息；以及故障诊断单元120，基于差异信息进行故障诊断。
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公开(公告)号：CN100350293C
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200410095156.9
申请日：2004-10-31
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584
Abstract: 形成在基底上的光学器件包括：多个形成在基底顶面的光纤通道；反射镜，在配置在光纤通道中的光纤之间的光路中推进和拉出；可移动杆，一端支撑反射镜；梳形静电激励器，在可移动杆的中间部分的位置，在可移动杆长度方向上移动可移动杆；多个支撑梁，在可移动杆的驱动力施加点的两侧上的两端附近，可移动支承可移动杆，驱动力由梳形静电激励器产生。支撑梁在关于平行于可移动杆长度方向的中心线成线对称的位置上支持可移动杆，由多个支撑梁支承可移动杆的点关于由梳形静电激励器产生的驱动力的施加点对称。即使由梳形静电激励器产生的驱动力包括不同的矢量分量，可抑制可移动杆在驱动可移动杆的所需方向外的方向上的移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1841121A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610073838.9
申请日：2006-03-31
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
Inventor： 吉田惠
IPC: G02B26/08
CPC classification number: G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584 , G02B6/359 , G02B26/0833
Abstract: 为了实现监测运动部件的机械响应特性的MEMS器件，以便无需改变现有的控制输入且不添加任何组件来检测严重故障的预兆，提供了：振动探测装置80，用于探测在双态切换状态之一中在运动部件60中激励的微振动；动态特性分析单元，在来自探测的输出的基础上分析运动部件60的动态特性；存储器100，存储所分析的数据；运算单元110，检索所存储的数据，比较时域上相继的两条数据并计算所述两条数据之间的差异信息；以及故障诊断单元120，基于差异信息进行故障诊断。
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公开(公告)号：CN1670568A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN200510056502.7
申请日：2005-03-18
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
Inventor： 吉田惠
CPC classification number: G02B6/29395 , G02B6/266 , G02B6/29358 , H04B10/2941
Abstract: 本发明涉及一种反射光学衰减元件。代替使用多路分配器以将光学信号分为不同波长，本发明使用其衰减因数和波长特性都可变的多个级联光学衰减元件。另外，使用反射光学衰减元件代替常规的透射元件，并且这些元件通过顺序连接到光学循环器而成列连接。通过沿着垂直于光轴的方向位移法布里－珀罗谐振器的镜使得反射面远离光点移动来控制衰减因数，并且通过在光轴方向位移镜以改变谐振频率来控制衰减因数的波长特性。因此可实现具有简单配置和低插入损耗的可变增益光学均衡器。
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公开(公告)号：CN1605897A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410089799.2
申请日：2004-10-10
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584 , G02B6/3596 , H02N1/008
Abstract: 一种小型可移动设备包括形成于基底上并适于在平行于该基底的片表面方向上移位的可移动部分，形成并固定安装于该基底上的固定部分，及铰链，每个铰链的相对端部连接到该可移动部分和固定部分并呈现两反向弯曲状态，当其呈现任何一种弯曲状态，该铰链可通过自保持作用在两个位置有效保持该可移动部分。该基底形成有壁表面，这些壁表面设置成与铰链的相对面在整个铰链的可移动范围中都相对。当铰链呈现两反向弯曲状态任何一种(呈现生产初始状态)时，在铰链与设置在其相对侧的壁表面在铰链长度方向每个点上彼此相等。这克服了在生产中湿蚀后干燥步骤期间存在的困难，克服了可仅在铰链的一侧剩下液体使得该铰链保持吸附在壁表面上。
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公开(公告)号：CN100343712C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200410100529.7
申请日：2004-10-10
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/3566 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/358 , G02B6/3584 , G02B6/3596 , G02B6/3636 , G02B6/3692
Abstract: 本发明提供形成在基底上并适于沿平行于所述基底薄片表面的方向移动的可移动部件(11)；形成在所述基底上并固定设置在其上的固定部件(10a)；以及平行于基底薄片表面延伸的弹性铰链(6A)至(6D)，其相反两端与可移动部件(11)和固定部件(10a)连接，用于以可移动方式支撑可移动部件(11)。沿垂直于铰链(6A)至(6D)纵向平面的横截面来看，铰链具有随着接近基底顶面而变小的宽度，进而具有梯形或三角形横截面。在要求提供相等弹簧常数的所述铰链顶面上测量的宽度被选定为比具有矩形横截面(等宽)的铰链宽度大，并且这样易于在制造过程中进行光刻。
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公开(公告)号：CN1275066C
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：CN200410089799.2
申请日：2004-10-10
Applicant: 日本航空电子工业株式会社
CPC classification number: G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584 , G02B6/3596 , H02N1/008
Abstract: 一种小型可移动设备包括形成于基底上并适于在平行于该基底的片表面方向上移位的可移动部分，形成并固定安装于该基底上的固定部分，及铰链，每个铰链的相对端部连接到该可移动部分和固定部分并呈现两反向弯曲状态，当其呈现任何一种弯曲状态，该铰链可通过自保持作用在两个位置有效保持该可移动部分。该基底形成有壁表面，这些壁表面设置成与铰链的相对面在整个铰链的可移动范围中都相对。当铰链呈现两反向弯曲状态任何一种(呈现生产初始状态)时，在铰链与设置在其相对侧的壁表面在铰链长度方向每个点上彼此相等。这克服了在生产中湿蚀后干燥步骤期间存在的困难，克服了可仅在铰链的一侧剩下液体使得该铰链保持吸附在壁表面上。
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