自参考光谱仪
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111936831B

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN201980023882.4

    申请日:2019-03-29

    申请人: 斯维尔系统

    摘要: 本公开的各方面涉及一种自参考光谱仪,其用于提供对背景或参考光谱密度以及样品或其他光谱密度的同时测量。自参考光谱仪包括干涉仪,该干涉仪被光耦合以接收输入光束,并且沿第一光路引导输入光束以产生第一干涉光束,并且沿第二光路引导输入光束以产生第二干涉光束,其中每个干涉光束是在干涉仪的输出之前被产生的。光谱仪还包括检测器,其被光耦合以同时检测从第一干涉光束产生的第一干涉信号和从第二干涉光束产生的第二干涉信号,以及处理器,其被配置为处理第一干涉信号和第二干涉信号,并且在处理第一干涉信号时将第二干涉信号用作参考信号。

    自参考光谱仪
    3.
    发明公开
    自参考光谱仪 审中-实审

    公开(公告)号:CN111936831A

    公开(公告)日:2020-11-13

    申请号:CN201980023882.4

    申请日:2019-03-29

    申请人: 斯维尔系统

    摘要: 本公开的各方面涉及一种自参考光谱仪,其用于提供对背景或参考光谱密度以及样品或其他光谱密度的同时测量。自参考光谱仪包括干涉仪,该干涉仪被光耦合以接收输入光束,并且沿第一光路引导输入光束以产生第一干涉光束,并且沿第二光路引导输入光束以产生第二干涉光束,其中每个干涉光束是在干涉仪的输出之前被产生的。光谱仪还包括检测器,其被光耦合以同时检测从第一干涉光束产生的第一干涉信号和从第二干涉光束产生的第二干涉信号,以及处理器,其被配置为处理第一干涉信号和第二干涉信号,并且在处理第一干涉信号时将第二干涉信号用作参考信号。

    集成光谱单元
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109983313A

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201780037361.5

    申请日:2017-06-15

    申请人: 斯维尔系统

    IPC分类号: G01J3/02 G01J3/26

    摘要: 本公开的方面涉及集成光谱单元,其包括在第一基板内制造的微机电系统(MEMS)干涉仪以及在第二基板上集成的光重定向结构,其中第二基板被耦合到第一基板。光重定向结构包括至少一个镜,该至少一个镜用于接收在相对于第一基板的面外方向上传播的输入光束以及将输入光束重定向到朝向MEMS干涉仪的相对于第一基板的面内方向。

    集成光谱单元
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109983313B

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN201780037361.5

    申请日:2017-06-15

    申请人: 斯维尔系统

    IPC分类号: G01J3/02 G01J3/26

    摘要: 本公开的方面涉及集成光谱单元,其包括在第一基板内制造的微机电系统(MEMS)干涉仪以及在第二基板上集成的光重定向结构,其中第二基板被耦合到第一基板。光重定向结构包括至少一个镜,该至少一个镜用于接收在相对于第一基板的面外方向上传播的输入光束以及将输入光束重定向到朝向MEMS干涉仪的相对于第一基板的面内方向。