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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111937133A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201980023657.0
申请日：2019-05-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本文描述的实施例涉及用于在处理内重复定位基座的精确动态调平机构。精密动态调平机构包括轴承组件。具有抵靠基座组件支架的内座圈和抵靠导向配接器的外座圈的轴承组件在内座圈与外座圈之间提供标称间隙，以允许内座圈和外座圈在最小或没有径向运动的情况下彼此滑动。
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公开(公告)号：CN111937133B
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN201980023657.0
申请日：2019-05-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本文描述的实施例涉及用于在处理内重复定位基座的精确动态调平机构。精密动态调平机构包括轴承组件。具有抵靠基座组件支架的内座圈和抵靠导向配接器的外座圈的轴承组件在内座圈与外座圈之间提供标称间隙，以允许内座圈和外座圈在最小或没有径向运动的情况下彼此滑动。
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公开(公告)号：CN117604506A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202311057112.6
申请日：2017-09-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/458 , C23C16/52 , C23C16/455
Abstract: 公开了动态调平工艺加热器提升。一种用于通过相对于处理腔室内的表面对基板支撑件进行定向来改进处理腔室中的处理结果的方法和装置。所述方法包括：使基板支撑件的支撑表面相对于喷头的输出表面定向在第一方向上，其中基板支撑表面的第一方向相对于输出表面不共面；以及将第一层的材料沉积在设置于支撑表面上的基板上，所述支撑表面定向在第一取向上。
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公开(公告)号：CN109791912B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201780060970.2
申请日：2017-09-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 一种用于通过相对于处理腔室内的表面对基板支撑件进行定向来改进处理腔室中的处理结果的方法和装置。所述方法包括：使基板支撑件的支撑表面相对于喷头的输出表面定向在第一方向上，其中基板支撑表面的第一方向相对于输出表面不共面；以及将第一层的材料沉积在设置于支撑表面上的基板上，所述支撑表面定向在第一取向上。
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公开(公告)号：CN109791912A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780060970.2
申请日：2017-09-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68 , C23C16/45565 , C23C16/458 , C23C16/4584 , C23C16/52 , G05B19/418 , G05B2219/45031 , H01L21/022 , H01L21/02271 , H01L21/67103 , H01L21/68742 , H01L21/68764 , H01L21/68785 , H01L21/68792
Abstract: 一种用于通过相对于处理腔室内的表面对基板支撑件进行定向来改进处理腔室中的处理结果的方法和装置。所述方法包括：使基板支撑件的支撑表面相对于喷头的输出表面定向在第一方向上，其中基板支撑表面的第一方向相对于输出表面不共面；以及将第一层的材料沉积在设置于支撑表面上的基板上，所述支撑表面定向在第一取向上。
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