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公开(公告)号：CN112514051A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980049850.1
申请日：2019-07-26
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/768 , H01L21/027 , H01L21/3065 , H01L27/11556 , H01L27/11524
Abstract: 描述了蚀刻膜堆叠以形成具有均匀宽度的间隙的方法。通过硬掩模蚀刻膜堆叠。在间隙中沉积保形的衬垫。衬垫的底部被移除。相对于衬垫选择性地蚀刻膜堆叠。移除衬垫。方法可被重复到预定深度。
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