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公开(公告)号:CN102414844B
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201080019514.1
申请日:2010-04-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor: S·尼杰哈瓦 , B·H·伯罗斯 , 石川哲也 , O·克利里欧科 , A·瓦苏德范 , 苏杰 , D·H·考齐 , 常安中 , Y·梅尔尼克 , H·S·拉迪雅 , S·T·恩古耶 , L·庞
CPC classification number: H01L21/67109 , C30B25/02 , C30B29/406 , H01L21/0242 , H01L21/02458 , H01L21/0254 , H01L21/0262 , H01L21/67115 , H01L21/67167 , H01L21/67207 , H01L33/007
Abstract: 本发明大体而言提供了用于形成LED结构的装置和方法。本发明的一个实施例提供了一种用于制造复合氮化物结构的方法,包括:在第一处理腔室中,通过氢化物气相外延(HVPE)处理或金属有机化学气相沉积(MOCVD)处理在基板上形成包含第一III族元素和氮的第一层;在第二处理腔室中,通过MOCVD处理在第一层上形成包含第二III族元素和氮的第二层;以及通过MOCVD处理在第二层上形成包含第三III族元素和氮的第三层。
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公开(公告)号:CN102414844A
公开(公告)日:2012-04-11
申请号:CN201080019514.1
申请日:2010-04-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor: S·尼杰哈瓦 , B·H·伯罗斯 , 石川哲也 , O·克利里欧科 , A·瓦苏德范 , 苏杰 , D·H·考齐 , 常安中 , Y·梅尔尼克 , H·S·拉迪雅 , S·T·恩古耶 , L·庞
IPC: H01L33/00
CPC classification number: H01L21/67109 , C30B25/02 , C30B29/406 , H01L21/0242 , H01L21/02458 , H01L21/0254 , H01L21/0262 , H01L21/67115 , H01L21/67167 , H01L21/67207 , H01L33/007
Abstract: 本发明大体而言提供了用于形成LED结构的装置和方法。本发明的一个实施例提供了一种用于制造复合氮化物结构的方法,包括:在第一处理腔室中,通过氢化物气相外延(HVPE)处理或金属有机化学气相沉积(MOCVD)处理在基板上形成包含第一III族元素和氮的第一层;在第二处理腔室中,通过MOCVD处理在第一层上形成包含第二III族元素和氮的第二层;以及通过MOCVD处理在第二层上形成包含第三III族元素和氮的第三层。
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