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公开(公告)号：CN115700048A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180040767.5
申请日：2021-07-02
Applicant: 应用材料公司
IPC: H10K50/856 , H10K50/858 , H10K50/852 , H10K50/844 , H10K59/122
Abstract: 本文描述的实施方式涉及设置在有机发光二极管(OLED)显示器像素之上或之下的空间光学微分器及相邻功能层的层构造。用于电致发光(EL)器件像素的功能单元包括邻近EL器件像素设置的空间光学微分器。空间光学微分器被构造为基于光在功能单元上的入射角来选择性地反射及透射光。针对顶部发射OLED，功能单元包括在空间光学微分器上方设置的薄膜封装(TFE)堆叠。针对底部发射OLED，功能单元包括设置在平面层或隔离层的至少一者之上的空间光学微分器。本文也描述了用于制造功能单元的方法。
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公开(公告)号：CN115917368A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202180052193.3
申请日：2021-07-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯罗博纳•森 , 塔帕什里•罗伊 , 普莉娜•松特海利亚•古拉迪雅 , 罗伯特·J·维瑟
IPC: G02B5/00
Abstract: 本文所述的多个实施方式涉及平板光学装置和用于平板光学装置的封装材料。一个或多个实施方式包括基板，该基板具有形成于基板上的第一多个柱的第一布置。第一多个柱的第一布置包括具有高度h和横向距离d的柱。第一多个柱的第一布置包括与第一多个柱的相邻柱之间的距离对应的间隙g。间隙g与高度h之间的高宽比在约1:1与约1:20之间。第一粘附促进材料被设置在第一多个柱的第一布置之上。第一封装层被设置在第一粘附促进材料之上。第一封装层填充第一多个柱的相邻柱之间的间隙g。第一封装层包括含氟聚合物。
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公开(公告)号：CN114207482B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202080053854.X
申请日：2020-05-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供了一种成像系统和一种制造超透镜阵列的方法。所述成像系统包括超透镜阵列，并且从对象散射的光被所述超透镜阵列分割，使得在观察者面前形成图像。所述超透镜阵列对可见光是至少部分地透明的，使得所述观察者也可看到环境。制造所述超透镜阵列的所述方法包括将多个基板粘结在一起，并且将所述多个基板切割成超透镜阵列。所述超透镜阵列可用于所述成像系统中。
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公开(公告)号：CN113508336A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202080018072.2
申请日：2020-02-28
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 公开用于压模产生的方法和设备，其使用纳米抗蚀剂和紫外线阻挡材料。在一个非限制性实施方式中，公开了生产用于产生电气/光学部件的压模的副本的方法，所述方法包括：提供所述压模；用紫外线阻挡材料涂覆所述压模的底表面；使所述紫外线阻挡材料在所述底表面上固化；使所述压模与由压印抗蚀剂层覆盖的目标基板接触；在所述压模与所述目标基板的所述接触期间固化具有紫外线阻挡材料的所述压印抗蚀剂；和将所述压模从具有所述固化压印抗蚀剂层的所述目标基板释放。
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公开(公告)号：CN119072767A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202380026528.3
申请日：2023-02-09
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了制造高品质量子计算部件的示例性方法。方法包括在处理系统的清洁腔室中从硅基板的沉积表面移除自然氧化物，并且在真空下将硅基板传送到处理系统的沉积腔室。方法进一步包括在沉积腔室中在硅基板的沉积表面上沉积铝层，其中在铝层与硅基板的沉积表面之间的界面是无氧的。
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公开(公告)号：CN114207482A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080053854.X
申请日：2020-05-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供了一种成像系统和一种制造超透镜阵列的方法。所述成像系统包括超透镜阵列，并且从对象散射的光被所述超透镜阵列分割，使得在观察者面前形成图像。所述超透镜阵列对可见光是至少部分地透明的，使得所述观察者也可看到环境。制造所述超透镜阵列的所述方法包括将多个基板粘结在一起，并且将所述多个基板切割成超透镜阵列。所述超透镜阵列可用于所述成像系统中。
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