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公开(公告)号：CN108885092B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201780019443.7
申请日：2017-03-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·伊根 , 萨姆尔·班纳 , 凯尔·坦蒂旺
Abstract: 本公开内容的实施方式提供了一种计量系统。在一个示例中，计量系统包括：激光源，适用于发射光束；透镜，适用于从激光源接收光束的至少一部分；第一分束器，定位为接收穿过透镜的光束的至少部分；第一束移位装置，适用于致使从分束器接收的光束的一部分被分为两个或更多个子光束；第一记录装置，具有检测表面；以及第一偏振器，定位在第一移位装置与第一记录装置之间，其中所述第一偏振器经配置以致使从第一移位装置提供的两个或更多个子光束在第一记录装置的检测表面上形成干涉图案。
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公开(公告)号：CN117378036A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202280025066.9
申请日：2022-03-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 黄进鸿 , 爱德华·维博沃·布迪亚托 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·乔纳森·伊根 , 文卡塔考西克·沃尔提
IPC: H01L21/66
Abstract: 提供一种方法包括以下步骤：识别基板的第一区域的第一结构数据，和接收与在处理腔室中的一或更多个基板沉积工艺相关联的基板的光学计量数据。方法进一步包括以下步骤：基于光学计量数据及第一结构数据，确定与一或更多个基板沉积工艺相关联的基板的第一区域的第一生长速率。方法进一步包括以下步骤：基于光学计量数据及第一生长速率，在没有第二区域的第二结构数据的情况下预测基板的第二区域的厚度数据。
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公开(公告)号：CN117651842A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202280049320.9
申请日：2022-07-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·J·伊根 , 戈帕拉克里希纳·B·帕布
IPC: G01B11/06 , H01L21/66 , G06N20/00 , G06T7/00 , G01B9/02015
Abstract: 所公开的实施方式尤其描述一种系统及方法，其由光束扫描基板并针对基板的一组位置中的每一者侦测与从基板反射(或透射穿过基板)的光束相关联的一组强度值中的相应者。所侦测到的强度值用以决定基板的厚度的概况。
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公开(公告)号：CN115380194A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202180027623.6
申请日：2021-03-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 赵国衡 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼
Abstract: 用于执行成像反射测量的方法包括：使用具有第一峰值波长的输入射束照射样品上的测量区域；及使用所述输入射束的从所述样品反射的部分获得所述测量区域的多个影像。为这些影像的每个影像中的多个像素的每个像素确定反射强度值。使用反射强度值来确定与特定结构相关联的参数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107210188A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201580068260.5
申请日：2015-12-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 爱德华·W·布迪亚图 , 马耶德·A·福阿德 , 拉尔夫·霍夫曼 , 托马斯·诺瓦克 , 托德·伊根 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼
IPC: H01L21/02 , H01L21/033 , H01L21/285 , H01L21/66 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67253 , G03F1/22 , G03F1/24 , H01L21/02631 , H01L21/0332 , H01L21/0337 , H01L21/2855 , H01L22/12 , H01L22/26
Abstract: 一种监控与沉积控制系统以及该系统的操作方法包含：沉积腔室，用于在基板上沉积材料层；传感器阵列，用于在沉积期间监控在材料层层厚度改变的材料层沉积；及处理单元，用于根据在沉积期间层厚度的改变来调整沉积参数。
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公开(公告)号：CN109075095B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN201780021891.0
申请日：2017-05-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 提供了一种用于处理基板的系统。所述系统包括：处理腔室，包括封闭处理区域的一个或多个侧壁；以及基板支撑件。所述系统进一步包括：通道，连接到处理腔室；以及第一颗粒检测器，设置在沿着所述通道的第一位置处。第一颗粒检测器包括：能源，被构造为发射第一射束；一个或多个光学器件，被构造为沿着一个或多个路径引导所述第一射束，其中所述一个或多个路径延伸穿过通道的至少一部分。第一颗粒检测器进一步包括：第一能量检测器，设置在不同于一个或多个路径上的位置处。所述系统进一步包括：控制器，被构造为与第一颗粒检测器通信，其中所述控制器被构造为基于从第一颗粒检测器接收的信号来识别故障。
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公开(公告)号：CN109075093B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN201780020187.3
申请日：2017-03-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·伊根 , 班纳·萨姆尔 , 凯尔·坦蒂旺
IPC: H01L21/66
Abstract: 本公开内容的实施方式提供用于检查和处理基板的方法和系统。在一个实施方式中，提供一种方法，所述方法包括：将第一多个束从衍射分束器传输到基板的第一表面以产生第二多个束的反射，其中第一多个束在到达基板的第一表面时彼此间隔开；在光学装置的记录表面上接收第二多个束，其中第二多个束在到达记录表面时彼此间隔开；测量在记录表面上的第二多个束的位置信息；将第二多个束的位置信息与存储在存储器中的位置信息进行比较；和将比较的结果存储在存储器中。
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公开(公告)号：CN115667877A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180038385.9
申请日：2021-04-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·伊根 , 赵国衡
Abstract: 于此公开的示例通常涉及用于检测流体中的颗粒的尺寸的系统和方法。在一个示例中，一种用于使颗粒成像的系统包括第一成像装置。第一成像装置包括透镜和数字检测器。系统进一步包括激光源。氦激光源配置为发射第一激光束和第二激光束。数字检测器配置为累积通过透镜的累积光的强度的度量。累积的光从颗粒散射。累积的光包括来自第一激光束和第二激光束的光。
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公开(公告)号：CN107210188B
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201580068260.5
申请日：2015-12-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 爱德华·W·布迪亚图 , 马耶德·A·福阿德 , 拉尔夫·霍夫曼 , 托马斯·诺瓦克 , 托德·伊根 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼
IPC: H01L21/02 , H01L21/033 , H01L21/285 , H01L21/66 , H01L21/67
Abstract: 一种监控与沉积控制系统以及该系统的操作方法包含：沉积腔室，用于在基板上沉积材料层；传感器阵列，用于在沉积期间监控在材料层层厚度改变的材料层沉积；及处理单元，用于根据在沉积期间层厚度的改变来调整沉积参数。
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