用于在基板制造期间调整处理腔室参数的方法及机制

    公开(公告)号:CN118435338A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202280084606.0

    申请日:2022-11-29

    Abstract: 一种电子装置制造系统能够获取用位于工艺腔室内的计量设备产生的计量数据,该工艺腔室根据工艺配方对基板执行沉积工艺,其中该工艺配方包含多个设定参数,且其中该沉积工艺在该基板的表面上产生多个膜层。制造系统可基于计量数据进一步产生校正曲线。制造系统可进一步通过对工艺配方应用校正曲线而产生更新后的工艺配方。制造系统可进一步根据更新后的工艺配方对基板执行蚀刻工艺。

    用于处理腔室中的特征和故障检测的波特指纹法

    公开(公告)号:CN117174564A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202310960792.6

    申请日:2021-04-02

    Abstract: 一种非暂态计算机可读储存介质储存指令,所述指令在由诊断服务器的处理装置执行时使此处理装置执行某些操作。所述操作包括从处理腔室接收(i)组合信号的测量值,所述组合信号基于将交流信号波注入至处理腔室的控制器的第一输出信号上,及(ii)结合来自处理腔室的反馈的控制器的第二输出信号的测量值。所述操作进一步包括基于组合信号的测量值及控制器的第二输出信号的测量值,产生关于处理腔室相关状态的基线波特指纹。所述操作进一步包括在计算机储存器中储存将用于执行处理腔室的诊断的基线波特指纹。

    利用基于模型的数字孪生进行射频匹配控制

    公开(公告)号:CN116671006A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202180085761.X

    申请日:2021-12-21

    Abstract: 一种方法包括使生产设备产生RF信号,以激发与生产设备相关的处理腔室。方法进一步包括自与生产设备相关的一个或多个传感器接收与RF信号相关的当前追踪数据。方法进一步包括基于当前追踪数据更新与生产设备相关的数字复制品的阻抗值。方法进一步包括自数字复制品获取表示预测数据的一个或多个输出。方法进一步包括基于预测数据使得执行与生产设备相关的一个或多个校正动作。

    用于处理腔室中的特征和故障检测的波特指纹法

    公开(公告)号:CN115362527B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202180026097.1

    申请日:2021-04-02

    Abstract: 一种非暂态计算机可读储存介质储存指令,所述指令在由诊断服务器的处理装置执行时使此处理装置执行某些操作。所述操作包括从处理腔室接收(i)组合信号的测量值,所述组合信号基于将交流信号波注入至处理腔室的控制器的第一输出信号上,及(ii)结合来自处理腔室的反馈的控制器的第二输出信号的测量值。所述操作进一步包括基于组合信号的测量值及控制器的第二输出信号的测量值,产生关于处理腔室相关状态的基线波特指纹。所述操作进一步包括在计算机储存器中储存将用于执行处理腔室的诊断的基线波特指纹。

    用于处理腔室中的特征和故障检测的波特指纹法

    公开(公告)号:CN115362527A

    公开(公告)日:2022-11-18

    申请号:CN202180026097.1

    申请日:2021-04-02

    Abstract: 一种非暂态计算机可读储存介质储存指令,所述指令在由诊断服务器的处理装置执行时使此处理装置执行某些操作。所述操作包括从处理腔室接收(i)组合信号的测量值,所述组合信号基于将交流信号波注入至处理腔室的控制器的第一输出信号上,及(ii)结合来自处理腔室的反馈的控制器的第二输出信号的测量值。所述操作进一步包括基于组合信号的测量值及控制器的第二输出信号的测量值,产生关于处理腔室相关状态的基线波特指纹。所述操作进一步包括在计算机储存器中储存将用于执行处理腔室的诊断的基线波特指纹。

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