公开(公告)号：CN114981952A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202180008308.9

申请日：2021-05-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 岑羲 ,  姚雅宽 ,  赖一鸣 ,  吴凯 ,  阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ,  戴维·T·奥 ,  凯文·卡舍菲 ,  雷雨 ,  董琳 ,  任河 ,  徐翼 ,  梅裕尔·奈克 ,  陈浩 ,  凌芒芒

IPC: H01L21/768 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 描述了用于预清洁具有金属和电介质表面的基板的方法。基板暴露于强还原剂中，以从金属表面移除污染物并损坏电介质表面。基板接着暴露于氧化处理，以修复对电介质表面的损坏并氧化金属表面。基板接着暴露于弱还原剂以将金属氧化物还原为纯金属表面，而基本上不影响电介质表面。还描述了用于实施该方法的处理工具和计算机可读介质。