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公开(公告)号:CN101350365B
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:CN200810131543.1
申请日:2008-07-11
Applicant: 富士电机株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L29/739 , H01L29/38 , H01L29/06 , H01L29/36
CPC classification number: H01L29/7811 , H01L29/0615 , H01L29/0619 , H01L29/0638 , H01L29/1095 , H01L29/404 , H01L29/41741 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种半导体器件,包括一种传导层,该传导层在p型保护环上形成且绝缘薄膜介于它们之间以便与相应的p型保护环连接。每个传导层的内端部凸出于直接内接的p型保护环之上。p型保护环的杂质浓度被设置在n型半导体衬底杂质浓度和p阱区杂质浓度之间。结果,p型保护环可以被缩短且芯片大小可被减小。此外,该器件可被制成对外来电荷较不敏感。
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公开(公告)号:CN1391289A
公开(公告)日:2003-01-15
申请号:CN02124332.8
申请日:2002-06-12
Applicant: 富士电机株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L29/739
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L29/0619 , H01L29/0634 , H01L29/0696 , H01L29/0847 , H01L29/402 , H01L29/4238 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明揭示一种半导体器件,该器件显示出高击穿电压和低导通电阻,减少导通电压和击穿电压间的折衷关系,以及实现高速开关。按照本发明显示一个击穿电压Vbr的纵向半导体器件,包括一层击穿电压承载层12,它的电阻率ρ(Ωcm)在由下列关系式表示的范围内:-5.43+0.0316Vbr<ρ<-8.60+0.0509Vbr。按照本发明的MOS半导体器件,包括n-型表面区14,该表面区14是延伸到该半导体芯片表面的n-型漂移层12的延伸部分,每个n-型表面区14是用由p型阱区13包围的一条条纹形成,及n-型表面区14和包括n+型源区15的p型阱区13之间的表面积比率是0.01至0.2。
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公开(公告)号:CN1299365C
公开(公告)日:2007-02-07
申请号:CN02124332.8
申请日:2002-06-12
Applicant: 富士电机株式会社
IPC: H01L29/78 , H01L29/739
CPC classification number: H01L29/7802 , H01L29/0619 , H01L29/0634 , H01L29/0696 , H01L29/0847 , H01L29/402 , H01L29/4238 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明揭示一种半导体器件,该器件显示出高击穿电压和低导通电阻,减少导通电压和击穿电压间的折衷关系,以及实现高速开关。按照本发明显示一个击穿电压Vbr的纵向半导体器件,包括一层击穿电压承载层12,它的电阻率ρ(Ωcm)在由下列关系式表示的范围内:-5.43+0.0316Vbr<ρ<-8.60+0.0509Vbr。按照本发明的MOS半导体器件,包括n-型表面区14,该表面区14是延伸到该半导体芯片表面的n-型漂移层12的延伸部分,每个n-型表面区14是用由p型阱区13包围的一条条纹形成,及n-型表面区14和包括n+型源区15的p型阱区13之间的表面积比率是0.01至0.2。
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公开(公告)号:CN202662593U
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN201120282649.9
申请日:2011-08-01
Applicant: 富士电机株式会社
IPC: H01L23/485 , H01L25/07
CPC classification number: H01L2224/48091 , H01L2224/48137 , H01L2224/48247 , H01L2924/1301 , H01L2924/1305 , H01L2924/13055 , H01L2924/13091 , H01L2924/00014 , H01L2924/00
Abstract: 本实用新型提供一种半导体器件,能够有效地制造多种高品质的半导体器件。半导体器件(1)具有散热部件(10);包含形成在散热部件(10)上的电路图案(21)和包含树脂的绝缘层(22)的布线层(20);包含安装在布线层(20)上的电子元件和对其进行封装的封装树脂的半导体元件(30、40)。不需要半导体元件(30、40)安装后的封装工序。此外,通过变更形成的电路图案(21)和所使用的半导体元件(30、40),能够有效地获得各种功能的半导体器件(1)。
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