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公开(公告)号：CN103151296B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201210208661.4
申请日：2012-06-19
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/762
CPC classification number: H01L21/764 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种半导体器件包括半导体衬底和覆盖半导体衬底的低K介电层。低K介电层的第一部分包括介电材料，并且低K介电层的第二部分包括气隙，其中，第一部分和第二部分彼此横向设置。还公开了形成低K介电层的一种方法，包括：在半导体衬底上方形成介电层；形成多个气隙，多个气隙在介电层中彼此横向设置；以及在介电层和气隙上方形成覆盖层。本发明还提供了部分气隙低K沉积的集成技术。
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公开(公告)号：CN103151296A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201210208661.4
申请日：2012-06-19
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/762
CPC classification number: H01L21/764 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 一种半导体器件包括半导体衬底和覆盖半导体衬底的低K介电层。低K介电层的第一部分包括介电材料，并且低K介电层的第二部分包括气隙，其中，第一部分和第二部分彼此横向设置。还公开了形成低K介电层的一种方法，包括：在半导体衬底上方形成介电层；形成多个气隙，多个气隙在介电层中彼此横向设置；以及在介电层和气隙上方形成覆盖层。本发明还提供了部分气隙低K沉积的集成技术。
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公开(公告)号：CN103137533B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201210204063.X
申请日：2012-06-15
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/677 , B25J11/00
CPC classification number: H01L21/6831 , H01L21/67742
Abstract: 一种工件传送系统具有多个连接器，每个连接器具有轴承和主变压器线圈和副变压器线圈，其中提供给每个连接器的主和副变压器线圈之一的电力在各自连接器的主变压器线圈和副变压器线圈之间产生互感，这样提供了通过每个连接器的无接触电力。至少第一对臂通过第一对连接器分别可旋转地连接至刀片状件，第一对连接器的每一个的主变压器线圈可操作地连接至相应的第一对臂，第一对连接器的每一个的副变压器线圈可操作连接至刀片状件及其电介质工件保持表面下的电极。因此，通过连接器的主变压器线圈和副变压器线圈给电极无接触供电，并且刀片状件可通过反转电流方向以及调整控制吸持力的电压来吸持和去吸持工件。本发明还公开了静电吸持机器人系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103147071B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201210271435.0
申请日：2012-07-31
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C23C16/52 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/45565
Abstract: 本公开提供了控制化学气相沉积(CVD)膜的轮廓均匀性的方法和系统。一种方法包括利用第一喷头通过CVD在衬底上沉积第一层，该第一层具有第一轮廓，以及利用第二喷头通过CVD在第一层上方沉积第二层，该第二层具有第二轮廓。组合的第一层和第二层具有第三轮廓，并且第一轮廓、第二轮廓，以及第三轮廓彼此不同。
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公开(公告)号：CN110230030A
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201910530420.3
申请日：2012-03-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C23C14/34
Abstract: 提供用于可单独供电的多个靶体组件的薄膜沉积系统和方法。每个靶体组件都包括靶体以及相关的磁体或磁体组。本发明提供了通过对靶体布置单独供电的多个电源产生的可调膜轮廓。可以对提供给靶体布置的功率的相对量进行定制以提供期望的膜，并且可以及时改变提供给靶体布置的功率的相对量以产生具有不同特性的膜。本发明提供了具有多个靶体和磁体的沉积室的PVD装置和方法。
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公开(公告)号：CN103147071A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201210271435.0
申请日：2012-07-31
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C23C16/52 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/44 , C23C16/45565
Abstract: 本公开提供了控制化学汽相沉积(CVD)膜的轮廓均匀性的方法和系统。一种方法包括利用第一喷头通过CVD在衬底上沉积第一层，该第一层具有第一轮廓，以及利用第二喷头通过CVD在第一层上方沉积第二层，该第二层具有第二轮廓。组合的第一层和第二层具有第三轮廓，并且第一轮廓、第二轮廓，以及第三轮廓彼此不同。
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公开(公告)号：CN103137533A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210204063.X
申请日：2012-06-15
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/677 , B25J11/00
CPC classification number: H01L21/6831 , H01L21/67742
Abstract: 一种工件传送系统具有多个连接器，每个连接器具有轴承和主变压器线圈和副变压器线圈，其中提供给每个连接器的主和副变压器线圈之一的电力在各自连接器的主变压器线圈和副变压器线圈之间产生互感，这样提供了通过每个连接器的无接触电力。至少第一对臂通过第一对连接器分别可旋转地连接至刀片状件，第一对连接器的每一个的主变压器线圈可操作地连接至相应的第一对臂，第一对连接器的每一个的副变压器线圈可操作连接至刀片状件及其电介质工件保持表面下的电极。因此，通过连接器的主变压器线圈和副变压器线圈给电极无接触供电，并且刀片状件可通过反转电流方向以及调整控制吸持力的电压来吸持和去吸持工件。本发明还公开了静电吸持机器人系统。
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公开(公告)号：CN103132028A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210056039.6
申请日：2012-03-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C23C14/34
Abstract: 提供用于可单独供电的多个靶体组件的薄膜沉积系统和方法。每个靶体组件都包括靶体以及相关的磁体或磁体组。本发明提供了通过对靶体布置单独供电的多个电源产生的可调膜轮廓。可以对提供给靶体布置的功率的相对量进行定制以提供期望的膜，并且可以及时改变提供给靶体布置的功率的相对量以产生具有不同特性的膜。本发明提供了具有多个靶体和磁体的沉积室的PVD装置和方法。
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