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公开(公告)号：CN113211980A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110430569.1
申请日：2021-04-21
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种用于印刷OLED器件的压电控制系统及优化方法，系统通过上位机控制主像素墨滴喷射系统喷射有机材料，以在OLED基板表面上印刷形成机发光层，同时，空位像素监测系统实时采集印刷过程中OLED基板的像素群图像，并将像素群图像发送给上位机；上位机找出图像中的空位像素点以及空位像素点在OLED基板中的对应位置，并控制空位像素补偿系统对OLED基板中的空位像素点对应位置进行填补印刷，以消除有机发光层中的缺陷，达到优化印刷OLED制程的目的，避免了印刷OLED过程中由于少数空位像素导致的器件良品率低下的问题，可有效提升印刷OLED的工艺稳定性，进一步推进印刷OLED技术替代蒸镀技术的进度。
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公开(公告)号：CN113211978A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202110430535.2
申请日：2021-04-21
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种全自动防堵的喷墨打印系统及方法，系统包括上位机、中央控制系统、喷射系统、防堵供墨系统和墨水防污系统，上位机通过中央控制系统连接喷射系统和防堵供墨系统，喷射系统连接防堵供墨系统；在喷墨打印系统正常工作时，中央控制系统控制防堵供墨系统为喷射系统连续供墨，控制喷射系统的喷墨头喷射出墨滴；墨水防污系统用于回收供墨时喷墨头滴落的溢流墨水；在喷墨打印系统停止打印工作时，中央控制系统控制防堵供墨系统停止供墨并抽空喷墨头流道内的墨水，以达到防堵目的。本发明既可有效解决多数系列打印机不经常使用引起的墨水干燥堵塞喷头及输送管的问题，也可节省打印机自清洗喷墨头所耗费的大量昂贵墨水。
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公开(公告)号：CN113359361B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202110498074.2
申请日：2021-05-08
Applicant: 华南理工大学
IPC: G02F1/15 , G02F1/1514 , G02F1/153 , G02F1/155
Abstract: 本发明公开了一种微腔注入型电致变色器件及其制备方法与应用。所述器件的结构包括电动推杆、储液袋、微腔和储气袋；微腔上下两端设有开口，微腔结构依次为玻璃基板、ITO电极、金属钨薄膜、玻璃微珠、金属钨薄膜、ITO)电极和玻璃基板，玻璃微珠间隙形成空腔；储液袋、微腔、储气袋相连形成一个密闭空间，储液袋装有电致变色液，电动推杆与储液袋相连。本发明的电致变色器件变色和褪色完全不依赖电致变色层，本发明褪色机理为电负性不同的着色态阴离子和溶剂或储液袋内表面发生摩擦而发生电子交换转移，失去电子氧化成无色的高价态阴离子，因此不存在离子侵蚀的问题。
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公开(公告)号：CN112510102B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202011368546.4
申请日：2020-11-30
Applicant: 华南理工大学
IPC: H01L31/0224 , H01L33/40 , H01L33/42
Abstract: 本发明公开了一种基于电流体打印的二维材料网格电极及其制备方法与应用。所述制备方法包括：配制二维材料电极墨水；将预处理的基底转入电流体喷墨打印机，设定网格图形，调整打印线条宽度为5～10μm，将二维材料电极墨水打印在预处理的基底上，然后退火处理，得到二维材料网格电极。本发明制备工艺简单成本低，器件精细化程度高，对原材料损耗低，应用范围广。
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公开(公告)号：CN113210158B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202110480614.4
申请日：2021-04-30
Applicant: 华南理工大学
IPC: B05B12/08
Abstract: 本发明公开了一种印刷制备高均匀器件膜层的压电控制系统及方法，该系统包括：中央控制装置、主压电喷射装置和墨液调节装置，主压电喷射装置、墨液调节装置分别与中央控制装置连接；中央控制装置设有主控制器和压电驱动装置，主控制器用于生成并传输印刷指令进行控制墨液、电喷头的印刷处理，压电驱动装置用于驱动主压电喷射装置；墨液调节装置设有第一分液装置、第二分液装置，第一分液装置、第二分液装置调整溶剂的输送速率并设置总流量维持恒定值。本发明通过第一分液装置、第二分液装置分别改变第一溶剂、第二溶剂输送量进行控制不同时间段内喷射墨滴的溶剂挥发量，使得前后喷射的墨滴呈现沸点梯度差异，进一步提高成膜均匀性的技术效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112768140A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN202011608047.8
申请日：2020-12-30
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种氧化铝防护银纳米线透明电极及其制备方法与应用。所述方法如下：将退火处理后的银纳米线透明导电膜作为阴极，铂电极作为阳极，银|氯化银电极作为参比电极，含九水合硝酸铝的溶液作为电解液，通过三电极系统恒电压模式在银纳米线透明导电膜上电沉积氧化铝保护层，漂洗，退火得到氧化铝防护银纳米线透明电极。本发明通过控制反应速率改良电沉积工艺，将氧化铝精准沉积在银纳米线表面，不影响透光区域，并通过沉积过程促进银纳米线之间的接触，以高平整度的表面避免了包覆层的光吸收，实现了稳定性与光电性能的提升，极大简化了银纳米线防护工艺与柔性透明电极的制备成本，促进了柔性电子的发展。
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公开(公告)号：CN114388364B
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202111580209.6
申请日：2021-12-22
Applicant: 华南理工大学
IPC: H01L21/34 , H01L21/44 , H01L29/423 , H01L29/786
Abstract: 本发明公开了一种通过界面补偿消除柔性集成器件残余应力的方法。所述方法为：(1)通过氧气等离子处理衬底，提高衬底分子键合能力，实现PI与缓冲层的高粘附性；(2)利用沉积速率较温和的等离子体增强化学气相沉积制备SiOx/SiNx叠层薄膜，作为PI缓冲层、栅绝缘层和钝化层；SiOx/SiNx叠层薄膜与铜合金残余应力种类相反，可以相互补偿抵消，减少残余应力；(3)铜合金电极在高温退火后，微量掺杂的CrZr被排出晶格，在半导体/电极界面处与铟锌反应吸收能量，可以将部分界面残余应力的机械能转化为化学能，可以进一步消除残余应力。本发明所提出的工艺路径可以从制备器件的源头消除残余应力，是一种行之有效的方法。
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公开(公告)号：CN114355693B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202111586266.5
申请日：2021-12-20
Applicant: 华南理工大学
IPC: G02F1/163
Abstract: 本发明公开了一种用于电致变色器件的电荷补偿装置及控制方法，其中，电荷补偿装置包括霍尔传感器、透过率传感器、充电模块，其中，霍尔传感器、透过率传感器分别与测试元件相连，该测试元件为电致变色器件，霍尔传感器和透过率传感器对电致变色器件的透过率和残余电压进行检测，然后将测试信号输出到充电模块，若透过率超出指定阈值或者残余电压大于0，充电模块对电致变色器件进行电荷补偿，直至电致变色器件的无电荷积累褪色完全。本发明有效解决了电致变色器件褪色残余与电荷积累的问题，进而提高了电致变色器件的寿命。
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公开(公告)号：CN113972033A
公开(公告)日：2022-01-25
申请号：CN202111157659.4
申请日：2021-09-30
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种可穿戴电子设备的导电电极及其制备方法与应用。将剥离成只有少数几层的石墨烯片均匀穿插到致密的绝缘氧化银网络中，通过改性可以使得该复合材料稳定分散到有机溶剂中，在打印后，通过退火工艺获得可用于可穿戴电子设备的柔性导电电极。本发明工艺简单、成本低廉且无多余杂质，可通过打印在柔性基底上形成柔性的高性能导电图案。
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公开(公告)号：CN113270564A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202110547323.2
申请日：2021-05-19
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明公开了一种基于电流体印刷量子点发光层的QLED器件及制备方法。本发明采用电流体打印将量子点溶液打印量子点阵列作为EML功能层，通过匹配发光功能层材料与其承印物的润湿性、互溶程度以及相邻墨滴之间的蒸发排斥效应实现墨滴的三相线钉扎。通过电流体印刷直写技术，成功摆脱印刷槽的束缚，突破喷墨印刷以及转移印刷技术的下限，成功提高器件的分辨率，抑制印刷“咖啡环”效应，实现高质量印刷。
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