公开(公告)号：CN114409269A

公开(公告)日：2022-04-29

申请号：CN202111583905.2

申请日：2021-12-22

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 彭俊彪 ,  谢昕 ,  宁洪龙 ,  姚日晖 ,  梁宏富 ,  张旭 ,  张观广 ,  梁志豪

IPC: C03C17/245 ,  C01G9/02 ,  C01G15/00 ,  C01F17/224 ,  C01F17/10

Abstract: 本发明公开了一种基于激光扫描的区域性退火处理金属氧化物薄膜的方法。本发明将金属氧化物薄膜进行激光扫描处理，实现退火；通过激光扫描的方式能够结合计算机辅助设计，灵活地选择薄膜样品的处理范围，避免了传统热退火工艺中对样品整体进行热退火的过程；激光扫描退火的方法操作简单，退火速度快，耗费时间短；通过准分子激光在薄膜样品上的扫描退火，使薄膜的结构形貌、电学特性和光学特性均得到改善。

公开(公告)号：CN114825013A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210427209.0

申请日：2022-04-21

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 张晓辉 ,  谢昕 ,  梁苑茹 ,  王磊 ,  彭俊彪

IPC: H01S3/10 ,  H01S3/00 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明公开了一种激光晶化装置。该装置包括：准分子激光器和激光脉宽调节装置；准分子激光器用于生成并发射预设脉冲宽度的激光光束；激光脉宽调节装置设置于准分子激光器发射激光的一侧，其中，激光脉宽调节装置包括分束器、反射组件和补偿片；分束器用于将预设脉冲宽度的激光光束分为出射光束和反射光束，初次出射光束到达待晶化样品并对其进行晶化；反射光束经过反射组件的反射到达补偿片后再次通过分束器，从而再次得到出射光束和反射光束，出射光束到达待晶化样品并对其进行晶化，补偿片用于调节反射组件将反射光束反射到分束器的反射率。本发明实施例的技术方案可实现激光脉宽可调，且可降低激光脉冲峰值功率，从而有效改善激光晶化效果。

公开(公告)号：CN114578626A

公开(公告)日：2022-06-03

申请号：CN202210275259.1

申请日：2022-03-21

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 王磊 ,  李晓海 ,  邹建华 ,  梁宏富 ,  谢昕 ,  祝席文 ,  倪浩智 ,  刘汉豪 ,  曾慕雪

IPC: G02F1/1514 ,  G02F1/1523

Abstract: 本发明公开了一种电致变色器件及其制备方法和应用。本发明的电致变色器件的组成包括依次层叠设置的第一导电层、电致变色层、电解质层和第二导电层，电致变色层为碳纳米管掺杂的WO3层。本发明的电致变色器件的制备方法包括以下步骤：1)将钨源和碳纳米管制成复合分散液；2)将复合分散液涂覆在第一导电层上，进行干燥和退火，形成电致变色层；3)将第二导电层贴合在电致变色层上，并预留电解质溶液的灌注缝隙；4)将电解质溶液灌注到预留的缝隙中，再将整个器件密封，即得电致变色器件。本发明的电致变色器件具有离子扩散速率快、响应时间短、电致变色性能好等优点，且其制备过程简单、成本低、绿色节能，适合进行大规模实际应用。

公开(公告)号：CN113270564A

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN202110547323.2

申请日：2021-05-19

Applicant: 华南理工大学

Inventor： 姚日晖 ,  梁宏富 ,  宁洪龙 ,  张旭 ,  梁志豪 ,  曾璇 ,  叶倩楠 ,  谢昕 ,  李晓海 ,  彭俊彪

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/50

Abstract: 本发明公开了一种基于电流体印刷量子点发光层的QLED器件及制备方法。本发明采用电流体打印将量子点溶液打印量子点阵列作为EML功能层，通过匹配发光功能层材料与其承印物的润湿性、互溶程度以及相邻墨滴之间的蒸发排斥效应实现墨滴的三相线钉扎。通过电流体印刷直写技术，成功摆脱印刷槽的束缚，突破喷墨印刷以及转移印刷技术的下限，成功提高器件的分辨率，抑制印刷“咖啡环”效应，实现高质量印刷。