公开(公告)号：CN112582299A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN202010948268.3

申请日：2020-09-10

Applicant: 信越工程株式会社 ,  芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 洼田俊也 ,  松井绘美 ,  山崎克弘 ,  大谷义和 ,  富冈恭平

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种可提高基板品质的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置包括：平台，支撑处理对象物，所述处理对象物具有基板、包围基板的周围的圈、以及粘接于基板的下表面及圈的下表面的切割带；以及液体供给部，根据平台的转速，朝向由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的圈的上表面、由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的基板与圈之间、及由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的基板的外周端部的任一者，喷出不与用以处理基板的处理液混合且比重大于处理液的液体，向处理对象物的基板与圈之间供给液体。

公开(公告)号：CN112582299B

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202010948268.3

申请日：2020-09-10

Applicant: 信越工程株式会社 ,  芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 洼田俊也 ,  松井绘美 ,  山崎克弘 ,  大谷义和 ,  富冈恭平

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明提供一种可提高基板品质的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置包括：平台，支撑处理对象物，所述处理对象物具有基板、包围基板的周围的圈、以及粘接于基板的下表面及圈的下表面的切割带；以及液体供给部，根据平台的转速，朝向由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的圈的上表面、由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的基板与圈之间、及由通过旋转机构进行旋转的平台支撑的处理对象物的基板的外周端部的任一者，喷出不与用以处理基板的处理液混合且比重大于处理液的液体，向处理对象物的基板与圈之间供给液体。

公开(公告)号：CN112309933B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202010702618.8

申请日：2020-07-21

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 西部幸伸 ,  亀井健吾 ,  松井绘美

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可提高基板品质的基板搬送装置及基板处理装置。作为实施方式的基板搬送装置的搬送部(30)包括：多个搬送辊(31A)，搬送具有翘曲的基板(W)；以及多个按压辊(31B)，以分别与多个搬送辊(31A)相向而分离的方式设置，且对由多个搬送辊(31A)搬送的基板(W)进行按压，相向而分离的搬送辊(31A)及按压辊(31B)设为一组，且沿着基板(W)的搬送方向(A1)排列有多组，各组的搬送辊(31A)与按压辊(31B)的分离距离沿着基板(W)的搬送方向(A1)而变短。

公开(公告)号：CN112309933A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN202010702618.8

申请日：2020-07-21

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 西部幸伸 ,  亀井健吾 ,  松井绘美

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种可提高基板品质的基板搬送装置及基板处理装置。作为实施方式的基板搬送装置的搬送部(30)包括：多个搬送辊(31A)，搬送具有翘曲的基板(W)；以及多个按压辊(31B)，以分别与多个搬送辊(31A)相向而分离的方式设置，且对由多个搬送辊(31A)搬送的基板(W)进行按压，相向而分离的搬送辊(31A)及按压辊(31B)设为一组，且沿着基板(W)的搬送方向(A1)排列有多组，各组的搬送辊(31A)与按压辊(31B)的分离距离沿着基板(W)的搬送方向(A1)而变短。