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公开(公告)号：CN118705822A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410284585.8
申请日：2024-03-13
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提出一种干燥装置、干燥状态确认方法及晶片收纳容器清洗装置。本发明的课题在于对于对象物的干燥状态进行确认。实施方式的干燥装置包括：干燥槽，在内部对干燥处理的对象物进行保持；减压装置，使干燥槽的内部减压；以及控制部，通过对减压装置进行控制来执行对干燥槽的内部进行减压而使水分蒸发除去的干燥处理，其中，控制部在干燥处理后，在规定时间内执行使干燥槽的内部的压力低于干燥处理时的压力的追加减压处理，基于追加减压处理后达到的干燥槽的内部的压力，对于对象物的干燥状态进行判定。
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公开(公告)号：CN112309933B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202010702618.8
申请日：2020-07-21
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种可提高基板品质的基板搬送装置及基板处理装置。作为实施方式的基板搬送装置的搬送部(30)包括：多个搬送辊(31A)，搬送具有翘曲的基板(W)；以及多个按压辊(31B)，以分别与多个搬送辊(31A)相向而分离的方式设置，且对由多个搬送辊(31A)搬送的基板(W)进行按压，相向而分离的搬送辊(31A)及按压辊(31B)设为一组，且沿着基板(W)的搬送方向(A1)排列有多组，各组的搬送辊(31A)与按压辊(31B)的分离距离沿着基板(W)的搬送方向(A1)而变短。
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公开(公告)号：CN112309933A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010702618.8
申请日：2020-07-21
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种可提高基板品质的基板搬送装置及基板处理装置。作为实施方式的基板搬送装置的搬送部(30)包括：多个搬送辊(31A)，搬送具有翘曲的基板(W)；以及多个按压辊(31B)，以分别与多个搬送辊(31A)相向而分离的方式设置，且对由多个搬送辊(31A)搬送的基板(W)进行按压，相向而分离的搬送辊(31A)及按压辊(31B)设为一组，且沿着基板(W)的搬送方向(A1)排列有多组，各组的搬送辊(31A)与按压辊(31B)的分离距离沿着基板(W)的搬送方向(A1)而变短。
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公开(公告)号：CN118663649A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410267588.0
申请日：2024-03-08
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明的晶片收纳容器清洗装置抑制在清洗槽中被清洗的晶片收纳容器的污染。所述晶片收纳容器具有壳体及门，所述晶片收纳容器清洗装置包括：清洗槽主体，为在上表面具有开口部、且能够在内部收容所述晶片收纳容器的容器；盖部，设置于所述清洗槽主体；载置部，设置于所述清洗槽主体的内部，能够载置所述壳体；第一清洗液喷出部，在壳体载置状态下设置于所述壳体的内部，对所述壳体的内表面喷出清洗液；以及第二清洗液喷出部，在所述壳体载置状态下设置于所述壳体的外侧，对所述壳体的外表面喷出清洗液，所述第一清洗液喷出部的喷出口与所述第二清洗液喷出部的喷出口以能够从其中一个喷出口朝向另一个喷出口彼此喷出清洗液的方式相向。
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公开(公告)号：CN117732823A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311167620.X
申请日：2023-09-12
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明抑制清洗液进入门的内部空间。实施方式的晶片收纳容器清洗装置为对晶片收纳容器的门进行清洗的晶片收纳容器清洗装置，所述晶片收纳容器的门在其中一面具有钥匙孔，所述钥匙孔通过在插入了闩锁钥匙的状态下旋转而能够切换与晶片收纳容器主体的锁定/解锁，在侧面形成有在所述锁定时供闩锁能够突出的突出用孔，所述晶片收纳容器清洗装置包括：门保持部，对所述门进行保持；清洗液喷嘴，对所述门的另一面供给清洗液；以及气体喷嘴，在至少从所述清洗液喷嘴向所述门供给所述清洗液时，产生阻碍所述清洗液从所述突出用孔侵入的气体的流动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117732824A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202311175733.4
申请日：2023-09-13
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
IPC: B08B9/46 , B08B9/28 , B08B3/02 , H01L21/677
Abstract: 晶片收纳容器清洗装置，用于清洗具有壳体和门的晶片收纳容器，并能输出相关于晶片收纳容器的收纳空间内的清洁程度的颗粒的信息。壳体具有壳体开口部及收纳晶片且与壳体开口部连通的收纳空间；门能开闭地装设于壳体开口部。晶片收纳容器清洗装置包括：清洗槽主体，具有主体开口部及与其连通的清洗空间；载置部，设置于清洗空间内，与壳体开口部相向而载置壳体，并且在与其相向的部分有与收纳空间连通的贯通孔；第一喷出部，对收纳空间喷出清洗液；第二喷出部，对壳体的外侧部分喷出清洗液；第一排出部，与贯通孔连通，并且排出喷出至收纳空间的清洗液；第二排出部，将经由外侧部分的清洗液排出；颗粒测量部，测量由第一排出部排出的清洗液的颗粒。
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公开(公告)号：CN114823443A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210018112.4
申请日：2022-01-07
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Inventor： 西部幸伸
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板搬送装置以及基板处理装置，能够提高基板的品质。实施方式是搬送具有翘曲的基板的基板搬送装置，包括：多个搬送辊，具有支撑基板的凹面侧的圆柱部，通过圆柱部以轴为中心而旋转，从而搬送基板；第一轴，与搬送辊成同轴地沿着与基板的搬送方向正交的宽度方向而设；按压辊，按压基板的凸面；及第二轴，与按压辊成同轴地设置，且搬送辊是将在宽度方向上隔开地设置的两个作为一组，而沿搬送方向配置有多组，在各组的两个搬送辊，设有在宽度方向上隔开的两根第一轴，搬送辊与按压辊的隔开距离具有沿着搬送方向而变短的部分。
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公开(公告)号：CN114823443B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202210018112.4
申请日：2022-01-07
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Inventor： 西部幸伸
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板搬送装置以及基板处理装置，能够提高基板的品质。实施方式是搬送具有翘曲的基板的基板搬送装置，包括：多个搬送辊，具有支撑基板的凹面侧的圆柱部，通过圆柱部以轴为中心而旋转，从而搬送基板；第一轴，与搬送辊成同轴地沿着与基板的搬送方向正交的宽度方向而设；按压辊，按压基板的凸面；及第二轴，与按压辊成同轴地设置，且搬送辊是将在宽度方向上隔开地设置的两个作为一组，而沿搬送方向配置有多组，在各组的两个搬送辊，设有在宽度方向上隔开的两根第一轴，搬送辊与按压辊的隔开距离具有沿着搬送方向而变短的部分。
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公开(公告)号：CN118602704A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410235855.6
申请日：2024-03-01
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供一种晶片收纳容器干燥装置及清洗系统，可抑制干燥槽的内部空间的容积的增大。实施方式的晶片收纳容器干燥装置具有对晶片收纳容器进行干燥的干燥槽，晶片收纳容器具有：主体，具有对晶片进行收纳且与开口部连通的收纳空间，并具有由机器人把持的凸缘；及门，能够开闭地装设于开口部，干燥槽包括：搬入搬出口，能够通过开闭盖打开/关闭；主体收容部，以凸缘朝向搬入搬出口侧的状态对主体进行收容；以及门保持部，在将主体收容于主体收容部的状态下，设置于比主体更靠主体收容部的搬入搬出口侧处，在俯视观察干燥槽时，以门的各边不与形成搬入搬出口的一边正交及平行的方式对门进行保持。
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公开(公告)号：CN118355480A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202280080449.6
申请日：2022-12-16
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种既可维持基板的表面润湿的状态，又可在处理装置间搬送基板的基板传送装置和基板传送方法。实施方式的基板传送装置2具有：台车收容部210，具有从外部接纳并收容基板搬送用台车1的收容室211，所述基板搬送用台车1搭载有与水一同收容有多个基板W的槽罐110；以及取出装置250，从搭载至收容于收容室211内的基板搬送用台车1的槽罐110中取出基板W并交给邻接的处理装置即清洗装置3。
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