公开(公告)号：CN110627600B

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN201910539260.9

申请日：2019-06-20

申请人： 信越化学工业株式会社 ,  国际商业机器公司

发明人： 橘诚一郎 ,  渡边武 ,  新井田惠介 ,  长井洋子 ,  泽村昂志 ,  荻原勤 ,  亚历山大·爱德华·赫斯 ,  格雷戈里·布雷塔 ,  丹尼尔·保罗·桑德斯 ,  鲁迪·J·沃伊泰茨基

IPC分类号： C07C1/26 ,  C07C13/567 ,  C07C15/02 ,  C07C13/62 ,  C07C13/66 ,  C07D221/16 ,  C07D519/00 ,  C07C15/50 ,  C07C41/30 ,  C07C43/21 ,  C07C43/285 ,  C07D307/91 ,  C07D209/86 ,  C07D333/08 ,  C07D311/82 ,  C07D335/12 ,  C07C209/68 ,  C07C211/55 ,  C07C29/32 ,  C07C35/38 ,  C07C37/16 ,  C07C39/225 ,  G03F7/004

摘要： 本发明提供化合物、该化合物的制备方法及使用了该化合物的有机膜形成用组合物，该化合物能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物，耐热性及形成于基板的图案的嵌入或平坦化特性优异，且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物在分子内具有2个以上下述通式(1‑1)所示的结构。式中，Ar表示可具有取代基的芳香环或含有氮原子及硫原子中的1个以上的芳香环，2个Ar可彼此连接而形成环结构；虚线为与Y的结合键，Y为具备可具有取代基的芳香环或杂芳香环、且结合键位于芳香环结构或杂芳香环结构的碳原子数为6～30个的2价或3价有机基团；R为氢原子或碳原子数为1～68的1价基团。

公开(公告)号：CN110627600A

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201910539260.9

申请日：2019-06-20

申请人： 信越化学工业株式会社 ,  国际商业机器公司

发明人： 橘诚一郎 ,  渡边武 ,  新井田惠介 ,  长井洋子 ,  泽村昂志 ,  荻原勤 ,  亚历山大·爱德华·赫斯 ,  格雷戈里·布雷塔 ,  丹尼尔·保罗·桑德斯 ,  鲁迪·J·沃伊泰茨基

IPC分类号： C07C1/26 ,  C07C13/567 ,  C07C15/02 ,  C07C13/62 ,  C07C13/66 ,  C07D221/16 ,  C07D519/00 ,  C07C15/50 ,  C07C41/30 ,  C07C43/21 ,  C07C43/285 ,  C07D307/91 ,  C07D209/86 ,  C07D333/08 ,  C07D311/82 ,  C07D335/12 ,  C07C209/68 ,  C07C211/55 ,  C07C29/32 ,  C07C35/38 ,  C07C37/16 ,  C07C39/225 ,  G03F7/004

摘要： 本发明提供化合物、该化合物的制备方法及使用了该化合物的有机膜形成用组合物，该化合物能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物，耐热性及形成于基板的图案的嵌入或平坦化特性优异，且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物在分子内具有2个以上下述通式(1-1)所示的结构。 式中，Ar表示可具有取代基的芳香环或含有氮原子及硫原子中的1个以上的芳香环，2个Ar可彼此连接而形成环结构；虚线为与Y的结合键，Y为具备可具有取代基的芳香环或杂芳香环、且结合键位于芳香环结构或杂芳香环结构的碳原子数为6～30个的2价或3价有机基团；R为氢原子或碳原子数为1～68的1价基团。

公开(公告)号：CN110615732A

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201910539258.1

申请日：2019-06-20

申请人： 信越化学工业株式会社 ,  国际商业机器公司

发明人： 橘诚一郎 ,  渡边武 ,  新井田惠介 ,  长井洋子 ,  泽村昂志 ,  荻原勤 ,  亚历山大·爱德华·赫斯 ,  格雷戈里·布雷塔 ,  丹尼尔·保罗·桑德斯 ,  鲁迪·J·沃伊泰茨基

IPC分类号： C07C43/21 ,  C07C41/30 ,  C07C41/16 ,  C07C49/84 ,  C07C45/64 ,  C07C43/23 ,  C07D213/80 ,  C07D221/16 ,  G03F7/004

摘要： 本发明提供一种化合物，其能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物，耐热性及形成在基板上的图案的嵌入或平坦化特性优异，且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物为下述通式(1-1)所示的化合物。[化学式1]式中，AR1、AR2表示芳香环或含有氮原子、硫原子中的1个以上的芳香环，2个AR1、AR1与AR2、2个AR2可连接；AR3为苯环、萘环、噻吩环、吡啶环或二嗪环；A为有机基团，B为阴离子性离去基团，Y为2价有机基团，p为1或2，q为1或2，r为0或1，s为2～4；s＝2时，Z为单键、2价原子或2价有机基团，s＝3或4时，Z为3价或4价的原子或有机基团。

公开(公告)号：CN110615732B

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN201910539258.1

申请日：2019-06-20

申请人： 信越化学工业株式会社 ,  国际商业机器公司

发明人： 橘诚一郎 ,  渡边武 ,  新井田惠介 ,  长井洋子 ,  泽村昂志 ,  荻原勤 ,  亚历山大·爱德华·赫斯 ,  格雷戈里·布雷塔 ,  丹尼尔·保罗·桑德斯 ,  鲁迪·J·沃伊泰茨基

IPC分类号： C07C43/21 ,  C07C41/30 ,  C07C41/16 ,  C07C49/84 ,  C07C45/64 ,  C07C43/23 ,  C07D213/80 ,  C07D221/16 ,  G03F7/004

摘要： 本发明提供一种化合物，其能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物，耐热性及形成在基板上的图案的嵌入或平坦化特性优异，且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物为下述通式(1‑1)所示的化合物。[化学式1]式中，AR1、AR2表示芳香环或含有氮原子、硫原子中的1个以上的芳香环，2个AR1、AR1与AR2、2个AR2可连接；AR3为苯环、萘环、噻吩环、吡啶环或二嗪环；A为有机基团，B为阴离子性离去基团，Y为2价有机基团，p为1或2，q为1或2，r为0或1，s为2～4；s＝2时，Z为单键、2价原子或2价有机基团，s＝3或4时，Z为3价或4价的原子或有机基团。

公开(公告)号：CN112034681B

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN202010490327.7

申请日：2020-06-02

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 郡大佑 ,  泽村昂志 ,  石绵健汰 ,  中原贵佳

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/09

摘要： 本发明涉及有机膜形成用组成物、图案形成方法、以及聚合物。本发明提供一种有机膜形成用组成物，其无损于树脂原本的碳含量而可展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性且成膜性优良，成为散逸气体的升华物成分少，并提供使用此组成物的图案形成方法及适合如此的组成物的聚合物。此组成物含有含式(1A)表示的重复单元作为部分结构的聚合物及有机溶剂。#imgabs0#该通式(1A)中，AR1、AR2为也可以有取代基的苯环或萘环，W1为下列通式(1B)中的任意者，也可组合使用2种以上的W1；W2为碳数1～80的2价有机基团；#imgabs1#该通式(1B)中的R1为碳数1～10的带有不饱和键的1价有机基团，R2为有1个以上的芳香环的碳数6～20的1价有机基团。

公开(公告)号：CN111995751A

公开(公告)日：2020-11-27

申请号：CN202010451030.X

申请日：2020-05-25

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 郡大佑 ,  泽村昂志 ,  新井田惠介 ,  橘诚一郎 ,  渡边武 ,  荻原勤

IPC分类号： C08G73/12 ,  C08J5/18 ,  H01L21/308

摘要： 本发明涉及有机膜形成用材料、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、以及图案形成方法。课题为提供不仅在空气中，在钝性气体中的成膜条件亦会硬化，不产生副产物，耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良，而且可形成对基板的密接性良好的有机下层膜的使用有含酰亚胺基团的聚合物的有机膜形成用组成物、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法及图案形成方法。解决方法为有机膜形成用材料，其含有(A)聚合物，具有式(1A)表示的重复单元且末端基团为式(1B)及(1C)中任一者表示的基团、及(B)有机溶剂。W1为4价有机基团，W2为2价有机基团。R1为式(1D)表示的基团中的任一者，也可组合使用2种以上的R1。

公开(公告)号：CN116478617A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202310058295.7

申请日：2023-01-19

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 新井田惠介 ,  泽村昂志 ,  郡大佑 ,  橘诚一郎

IPC分类号： C09D179/08 ,  C08G73/10 ,  H01L23/29 ,  H01L21/56 ,  H01L21/308

摘要： 本发明涉及对于碱性过氧化氢水的保护膜形成组成物、半导体装置制造用基板、保护膜的形成方法。本发明的课题为提供一种使用了含有酰亚胺基的聚合物的保护膜形成组成物，其能形成不只是耐热性、基板上形成的图案的填埋、平坦化特性优异，对于基板的密合性亦为良好的保护膜，且能形成具备优良的碱性过氧化氢水耐性的保护膜。一种对于碱性过氧化氢水的保护膜形成组成物，含有(A)，是具有下列通式(1A)表示的含有至少1个以上的氟原子及羟基的重复单元且末端基团为下列通式(1B)及(1C)中的任一者表示的基团的聚合物；及(B)有机溶剂。式中，R1为下式(1D)表示的基团中的任一者，亦可将2种以上的R1组合使用。

公开(公告)号：CN111995751B

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202010451030.X

申请日：2020-05-25

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 郡大佑 ,  泽村昂志 ,  新井田惠介 ,  橘诚一郎 ,  渡边武 ,  荻原勤

IPC分类号： C08G73/12 ,  C08J5/18 ,  H01L21/308

摘要： 本发明涉及有机膜形成用材料、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、以及图案形成方法。课题为提供不仅在空气中，在钝性气体中的成膜条件亦会硬化，不产生副产物，耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良，而且可形成对基板的密接性良好的有机下层膜的使用有含酰亚胺基团的聚合物的有机膜形成用组成物、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法及图案形成方法。解决方法为有机膜形成用材料，其含有(A)聚合物，具有式(1A)表示的重复单元且末端基团为式(1B)及(1C)中任一者表示的基团、及(B)有机溶剂。W1为4价有机基团，W2为2价有机基团。R1为式(1D)表示的基团中的任一者，也可组合使用2种以上的R1。

公开(公告)号：CN114380849A

公开(公告)日：2022-04-22

申请号：CN202111162164.0

申请日：2021-09-30

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 郡大佑 ,  泽村昂志 ,  佐藤裕典

IPC分类号： C07D519/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09

摘要： 本发明涉及有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物。本发明的课题提供不仅在空气中会硬化，在钝性气体中的成膜条件下也会硬化，可形成耐热性、于基板所形成的图案的填埋、平坦化特性优异，而且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜的酰亚胺化合物、及含有该化合物的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料，含有：(A)下列通式(1A)表示的有机膜形成用化合物；及(B)有机溶剂。[化1]式中，W1为4价有机基团，n1表示0或1的整数，n2表示1至3的整数，R1表示下列通式(1B)中的任1者以上。[化2]

公开(公告)号：CN113433796A

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN202110308097.2

申请日：2021-03-23

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 郡大佑 ,  泽村昂志 ,  新井田惠介 ,  橘诚一郎

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

摘要： 本发明涉及有机膜形成用材料、基板、有机膜形成方法、图案形成方法及有机膜形成用化合物。本发明的课题为提供不仅在空气中的成膜条件下会硬化而且即便在钝性气体中的成膜条件下也会硬化，并可形成不仅耐热性、形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优异而且对于基板的密接性良好的有机膜的有机膜形成用化合物、及含有该化合物的有机膜形成用材料，提供使用了该材料的基板、有机膜形成方法及图案形成方法。解决该课题的手段为一种有机膜形成用材料，其含有(A)式(1A)表示的有机膜形成用化合物、及(B)有机溶剂。式中，W1为4价有机基团，n1表示0或1的整数，n2表示1至3的整数，R1表示碳数2～10的炔基。