公开(公告)号：CN106065464A

公开(公告)日：2016-11-02

申请号：CN201610245080.6

申请日：2016-04-19

Applicant: 佳能特机株式会社 ,  佳能株式会社

Inventor： 村上泰夫 ,  星野和弘 ,  佐藤亨 ,  竹见崇 ,  中村谕 ,  熊木智洋

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/54

CPC classification number: C23C14/54 ,  C03C17/245 ,  C03C2217/213 ,  C03C2218/154 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/352 ,  C23C14/56 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32972 ,  H01J37/3299 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/342 ,  C23C14/35 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/3407 ,  C23C14/543

Abstract: 本公开内容涉及膜沉积装置和膜沉积方法。膜沉积装置包括：真空室；圆柱靶，该靶的圆周面与基板相对，并且该靶在真空室中被设置为与基板的传送方向相交；驱动单元，其被配置为旋转地驱动靶；磁场产生器，其设置在靶的内侧；反应性气体流出单元，其被配置为流出反应性气体，该反应性气体流出单元设置在靶的附近；光发射监视器，其被配置为监视在基板和靶之间的位置处且在靶附近的等离子体的光发射强度；以及控制单元，其被配置为控制由驱动单元驱动的靶的旋转速度，以使得由光发射监视器监视的光发射强度接近预设的目标光发射强度。

公开(公告)号：CN109957765A

公开(公告)日：2019-07-02

申请号：CN201811362770.5

申请日：2018-11-16

Applicant: 佳能特机株式会社

Inventor： 生长秀隆 ,  熊木智洋 ,  阿部大和 ,  渡部新

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  C23C14/02 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明提供一种能够抑制基板的破损发生地保持基板的基板支架。基板支架(30)使基板(2)的被处理区域(21a)露出地保持基板(2)，其特征在于，具备：夹持部(310、320)，所述夹持部(310、320)与基板(2)的角部(24)不接触地夹持基板(2)的两面(21、22)；及触抵部(30)，所述触抵部(30)与基板(2)的角部不接触地触抵于基板(2)的端面(23)。

公开(公告)号：CN109957765B

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN201811362770.5

申请日：2018-11-16

Applicant: 佳能特机株式会社

Inventor： 生长秀隆 ,  熊木智洋 ,  阿部大和 ,  渡部新

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  C23C14/02 ,  C23C14/04

Abstract: 本发明提供一种能够抑制基板的破损发生地保持基板的基板支架。基板支架(30)使基板(2)的被处理区域(21a)露出地保持基板(2)，其特征在于，具备：夹持部(310、320)，所述夹持部(310、320)与基板(2)的角部(24)不接触地夹持基板(2)的两面(21、22)；及触抵部(30)，所述触抵部(30)与基板(2)的角部不接触地触抵于基板(2)的端面(23)。

公开(公告)号：CN115874157A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202211706317.8

申请日：2018-11-16

Applicant: 佳能特机株式会社

Inventor： 生长秀隆 ,  熊木智洋 ,  阿部大和 ,  渡部新

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/34 ,  C23C14/56

Abstract: 本发明提供一种能够抑制基板的破损发生地保持基板的基板支架。基板支架(30)使基板(2)的被处理区域(21a)露出地保持基板(2)，其特征在于，具备：夹持部(310、320)，所述夹持部(310、320)与基板(2)的角部(24)不接触地夹持基板(2)的两面(21、22)；及触抵部(30)，所述触抵部(30)与基板(2)的角部不接触地触抵于基板(2)的端面(23)。